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公开(公告)号:CN119725145A
公开(公告)日:2025-03-28
申请号:CN202410450941.9
申请日:2024-04-15
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/687 , H01J37/32 , C23C16/517 , C23C16/02 , C23C16/52
Abstract: 一种衬底处理方法,包括:将衬底放置在衬底处理装置中;向衬底处理装置施加源功率;以及向衬底处理装置施加偏压功率,其中,向衬底处理装置施加源功率包括:利用具有第一周期的第一脉冲向衬底处理装置提供第一射频(RF)功率;以及利用具有第二周期的第二脉冲向衬底处理装置提供第二RF功率,其中,第一周期比第二周期长。
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公开(公告)号:CN107979909A
公开(公告)日:2018-05-01
申请号:CN201710993086.6
申请日:2017-10-23
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H05H1/46
CPC classification number: H01J37/3211 , H01J37/32119 , H01J37/32174 , H01J37/32183 , H01L21/67069 , H05H1/46 , H05H2001/4645 , H05H2001/4682
Abstract: 本发明构思的实施例提供天线、等离子体产生电路、等离子体处理装置以及用于使用其制造半导体器件的方法。电路包括产生射频功率的射频功率源、接收射频功率以产生等离子体并具有第一互感的天线、以及将天线分别连接到射频功率源的电感器。电感器具有减小和/或消除第一互感的第二互感。
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