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公开(公告)号：CN110334886B
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN201910145828.9
申请日：2019-02-27
Applicant: 三星电子株式会社 , 首尔大学校产学协力团
IPC: G06Q10/063 , G06Q10/20 , G06N3/0464 , G06N3/08
Abstract: 提供了设备诊断系统和方法，其使用设备的异常数据和正常数据，并准确有效地执行对设备的诊断。该设备诊断系统包括：数据采集单元，用于采集设备的时间序列数据；预处理单元，通过傅里叶变换将时间序列数据转换为包括时间分量的频率数据；深度学习单元，通过卷积神经网络(CNN)通过使用频率数据执行深度学习；以及诊断单元，基于深度学习将设备的状态确定为正常状态或故障状态。
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公开(公告)号：CN111215387A
公开(公告)日：2020-06-02
申请号：CN201910567532.6
申请日：2019-06-27
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 公开了清洁半导体设备的方法和半导体设备管理系统。所述清洁半导体设备的方法包括：监控半导体设备的管道中的流体的状态；通过使用借助监控收集的数据来构建数据库；基于通过监控收集并储存在数据库的数据来诊断管道的状态；以及在管道的状态被诊断为异常时通过使用超声波来清洁管道。通过使用至少两个超声波发生器来清洁管道。
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公开(公告)号：CN119927790A
公开(公告)日：2025-05-06
申请号：CN202411516254.9
申请日：2024-10-29
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 一种抛光头可以包括：衬底载体，其可拆卸地固定到驱动轴上，并且对衬底进行加压并旋转衬底，衬底载体包括柔性膜，其中，柔性膜包括主薄膜和多个竖直薄膜，主薄膜具有与衬底接触的第一表面和与第一表面相对的第二表面，多个竖直薄膜在竖直方向上从主薄膜延伸以限定多个加压室，多个加压室关于中心轴沿着径向方向划分；多个温度元件，其在主薄膜中设置在多个加压室下方，并且被构造为将局部热量施加到衬底；以及多个压力元件，其在主薄膜中分别设置在多个温度元件上，并且被构造为将局部压力施加到主薄膜。
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公开(公告)号：CN119324150A
公开(公告)日：2025-01-17
申请号：CN202410629537.8
申请日：2024-05-21
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/027 , H01L21/68
Abstract: 一种半导体处理设备包括：光产生器，其被配置为输出具有极紫外(EUV)波段的EUV光；掩模台，其被配置为放置反射从光产生器输出的EUV光的掩模；光接收光学单元，其包括通过反射从掩模反射的EUV光产生输出光的多个镜，所述多个镜中的至少一个包括镜主体和附着于镜主体的表面的反射层；电源，其被配置为将偏置电压施加至反射层；以及衬底台，其被配置为放置要被输出光辐射的衬底。
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公开(公告)号：CN112138905B
公开(公告)日：2024-12-24
申请号：CN202010596996.2
申请日：2020-06-28
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 一种用于半导体装置的制造设备，所述制造设备包括：旋转卡盘，其被配置为固定并旋转晶圆；喷嘴，其被配置为朝向晶圆喷洒化学试剂；横向位移传感器，其被配置为在旋转卡盘正被旋转的同时测量到的晶圆的侧表面位移变化；以及控制器，其被配置为在旋转卡盘正被旋转的同时通过使用位移变化来控制喷嘴的位置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115963699A
公开(公告)日：2023-04-14
申请号：CN202211043815.9
申请日：2022-08-29
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/16 , H01L21/67 , H01L21/027
Abstract: 公开了一种光刻胶供应系统，包括：泵，包括存储光刻胶的第一管膜和过滤光刻胶的过滤器；第二管膜，存储光刻胶并设置在泵的外部，其中，第二管膜将光刻胶传输到第一管膜；存储单元，存储光刻胶，其中，存储单元将光刻胶提供给第二管膜；以及管膜驱动单元，与第一管膜连接。管膜驱动单元调节第一管膜的内部容积并对第一管膜的柔性外壁施加压力以将光刻胶从第一管膜传输到安装在腔室中的喷嘴。存储在第一管膜中的光刻胶的至少一部分传输到第二管膜。
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公开(公告)号：CN112138905A
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN202010596996.2
申请日：2020-06-28
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 一种用于半导体装置的制造设备，所述制造设备包括：旋转卡盘，其被配置为固定并旋转晶圆；喷嘴，其被配置为朝向晶圆喷洒化学试剂；横向位移传感器，其被配置为在旋转卡盘正被旋转的同时测量到的晶圆的侧表面位移变化；以及控制器，其被配置为在旋转卡盘正被旋转的同时通过使用位移变化来控制喷嘴的位置。
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公开(公告)号：CN110334886A
公开(公告)日：2019-10-15
申请号：CN201910145828.9
申请日：2019-02-27
Applicant: 三星电子株式会社 , 首尔大学校产学协力团
Abstract: 提供了设备诊断系统和方法，其使用设备的异常数据和正常数据，并准确有效地执行对设备的诊断。该设备诊断系统包括：数据采集单元，用于采集设备的时间序列数据；预处理单元，通过傅里叶变换将时间序列数据转换为包括时间分量的频率数据；深度学习单元，通过卷积神经网络(CNN)通过使用频率数据执行深度学习；以及诊断单元，基于深度学习将设备的状态确定为正常状态或故障状态。
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公开(公告)号：CN118259552A
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202311713206.4
申请日：2023-12-12
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/16
Abstract: 一种光刻胶涂覆装置，包括：光刻胶收集罐，临时存储光刻胶；光刻胶供应管道，连接到光刻胶收集罐；泵，连接到光刻胶供应管道；光刻胶加压设备，在泵的后部处连接到光刻胶供应管道；光刻胶循环管道，在光刻胶加压设备的后部处，该光刻胶循环管道将光刻胶供应管道连接到光刻胶收集罐；光刻胶排出管道，在光刻胶循环管道的后部处连接到光刻胶供应管道；光刻胶排出阀，连接到光刻胶排出管道；以及光刻胶排出喷嘴，连接到光刻胶排出阀。
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公开(公告)号：CN117781180A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202311239715.8
申请日：2023-09-25
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 液体供应系统包括：液体供应单元；液体加压器，其连接到液体供应单元；压缩机，其连接到液体加压器；泵，其位于液体加压器的后端以允许液体流动；流入控制阀，其位于液体供应单元和液体加压器之间；以及流出控制阀，其位于液体加压器与泵之间，其中，液体加压器被配置为将溶解气体浓度低于从液体供应单元供应的液体的溶解气体浓度的液体供应至泵。
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