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公开(公告)号：CN104856711B
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：CN201510252782.2
申请日：2011-10-08
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: A61B6/00
Abstract: 本发明提供射线照相系统及其控制装置。一种射线照相系统包括：射线照相器件；测量器件，被配置来测量施加到所述测量器件的外力；以及驱动装置，被配置来既提供助力模式又提供自动模式，所述驱动装置被配置来在所述助力模式中基于所述测量器件测量的所述外力的方向和大小移动所述射线照相器件，并且响应于用户输入所述射线照相器件的期望位置，在所述自动模式中基于用户输入的所述射线照相器件的所述期望位置移动所述射线照相器件。
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公开(公告)号：CN112138905B
公开(公告)日：2024-12-24
申请号：CN202010596996.2
申请日：2020-06-28
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 一种用于半导体装置的制造设备，所述制造设备包括：旋转卡盘，其被配置为固定并旋转晶圆；喷嘴，其被配置为朝向晶圆喷洒化学试剂；横向位移传感器，其被配置为在旋转卡盘正被旋转的同时测量到的晶圆的侧表面位移变化；以及控制器，其被配置为在旋转卡盘正被旋转的同时通过使用位移变化来控制喷嘴的位置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102551747A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201110302134.5
申请日：2011-10-08
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: A61B6/00
CPC classification number: A61B6/4476 , A61B6/0407 , A61B6/4405 , A61B6/4452 , A61B6/4464 , A61B6/4482 , A61B6/467 , A61B6/547 , A61B6/587
Abstract: 本发明提供一种射线照相系统及其移动方法。该射线照相系统包括：以可移动的方式布置的射线照相器件；测量器件，测量施加到射线照相器件的外力和转矩中的至少一个；以及驱动器件，基于由测量器件测量的力和转矩中的至少一种的方向和大小来移动射线照相器件。
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公开(公告)号：CN112138905A
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN202010596996.2
申请日：2020-06-28
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 一种用于半导体装置的制造设备，所述制造设备包括：旋转卡盘，其被配置为固定并旋转晶圆；喷嘴，其被配置为朝向晶圆喷洒化学试剂；横向位移传感器，其被配置为在旋转卡盘正被旋转的同时测量到的晶圆的侧表面位移变化；以及控制器，其被配置为在旋转卡盘正被旋转的同时通过使用位移变化来控制喷嘴的位置。
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公开(公告)号：CN106659446A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201580034718.5
申请日：2015-04-22
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: A61B6/00
CPC classification number: A61B6/547 , A61B6/4464 , A61B6/4476 , A61B6/46
Abstract: 一种射线照相系统包括：拍摄单元；包括按钮的操作面板，按钮被配置为被按压以指示拍摄单元的移动方向要被限制到特定移动方向；设在操作面板与拍摄单元之间的测量单元，并且测量单元被配置为测量施加到操作面板的外力的大小和方向；以及驱动单元，被配置为响应于按钮被按压，基于由测量单元测量到的外力的大小和方向而仅在特定移动方向上移动拍摄单元。
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公开(公告)号：CN102551747B
公开(公告)日：2015-11-04
申请号：CN201110302134.5
申请日：2011-10-08
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: A61B6/00
CPC classification number: A61B6/4476 , A61B6/0407 , A61B6/4405 , A61B6/4452 , A61B6/4464 , A61B6/4482 , A61B6/467 , A61B6/547 , A61B6/587
Abstract: 本发明提供一种射线照相系统及其移动方法。该射线照相系统包括：以可移动的方式布置的射线照相器件；测量器件，测量施加到射线照相器件的外力和转矩中的至少一个；以及驱动器件，基于由测量器件测量的力和转矩中的至少一种的方向和大小来移动射线照相器件。
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公开(公告)号：CN104856711A
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201510252782.2
申请日：2011-10-08
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: A61B6/00
Abstract: 本发明提供射线照相系统及其控制装置。一种射线照相系统包括：射线照相器件；测量器件，被配置来测量施加到所述测量器件的外力；以及驱动装置，被配置来既提供助力模式又提供自动模式，所述驱动装置被配置来在所述助力模式中基于所述测量器件测量的所述外力的方向和大小移动所述射线照相器件，并且响应于用户输入所述射线照相器件的期望位置，在所述自动模式中基于用户输入的所述射线照相器件的所述期望位置移动所述射线照相器件。
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