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发明公开
清洁半导体设备的方法和半导体设备管理系统无效

公开(公告)号：CN111215387A

公开(公告)日：2020-06-02

申请号：CN201910567532.6

申请日：2019-06-27

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 吴炅桓 , 吴允锡 , 李虎烈 , 朴修满 , 朴元基 , 张永日

IPC: B08B3/12 , B08B13/00 , H01L21/67

Abstract: 公开了清洁半导体设备的方法和半导体设备管理系统。所述清洁半导体设备的方法包括：监控半导体设备的管道中的流体的状态；通过使用借助监控收集的数据来构建数据库；基于通过监控收集并储存在数据库的数据来诊断管道的状态；以及在管道的状态被诊断为异常时通过使用超声波来清洁管道。通过使用至少两个超声波发生器来清洁管道。

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