公开(公告)号：CN111441040B

公开(公告)日：2024-06-11

申请号：CN201911354774.3

申请日：2019-12-25

Applicant: 株式会社杰希优 ,  中央机械株式会社

Inventor： 高德诚 ,  中丸弥一郎 ,  桥本康毅 ,  吉冈秀夫

IPC: C23C18/34 ,  C23C18/50

Abstract: 本发明提供能够抑制镀敷催化剂从树脂膜表面脱落、镀敷液含的稳定剂的异常吸附，促进均匀的金属覆膜的形成的树脂膜的湿式处理装置。具备：处理槽，在内部存积处理液并使树脂膜在处理液中通过；一对运送部件，在处理槽的树脂膜的导入侧和排出侧，分别设置于比存积于处理槽内的处理液的液面高的位置；喷流单元，在一对运送部件之间配设于比该运送部件低的位置，在其周面设置使处理液从该周面喷出的多个孔，并利用来自该孔的喷流使树脂膜在处理液中沿着该周面非接触地进行方向转换；高位液罐，配设于比处理槽高的位置并经由处理液供给管向喷流单元供给处理液；处理液活化槽，设置于处理槽的树脂膜的导入侧；以及底部排液部，设置于处理槽的底部附近。

公开(公告)号：CN113557325A

公开(公告)日：2021-10-26

申请号：CN202080020071.1

申请日：2020-03-03

Applicant: 株式会社杰希优

Inventor： 柴田佳那

IPC: C25D3/12 ,  C25D15/02 ,  C25D21/14

Abstract: 本发明提供一种微孔镀液，其特征在于，含有非导电性粒子和聚合氯化铝，其易于制备带正电的非导电性粒子，稳定性高。此外，利用以在该微孔镀液中镀敷被镀物为特征的对被镀物的微孔镀方法，镀敷中的微孔个数也良好。

公开(公告)号：CN111235555A

公开(公告)日：2020-06-05

申请号：CN201911409524.5

申请日：2009-12-04

Applicant: 株式会社杰希优

Inventor： 大野晃宜 ,  高德诚 ,  滨田实香

IPC: C23C18/32 ,  C23C18/50 ,  C23C28/02 ,  C25D3/38 ,  C25D7/12

Abstract: 本发明涉及双层挠性覆铜层叠基材及其制造方法。本发明提供一种双层挠性覆铜层叠基材的制造方法，其为使用酸性镀铜浴组合物和被覆有作为籽晶层的导电性金属的树脂薄膜、通过湿式镀敷法的双层FCCL的制造方法，该方法包括：在实施了亲水化表面改性的树脂薄膜面上形成无电解镀镍籽晶层的工序；在该酸性镀铜浴组合物中，不经由1次镀铜而实施湿式电镀，使籽晶层上厚镀铜导电层的工序。

公开(公告)号：CN111108235A

公开(公告)日：2020-05-05

申请号：CN201880022413.6

申请日：2018-08-28

Applicant: 株式会社杰希优 ,  互应化学工业株式会社

Inventor： 池田健 ,  岸本一喜 ,  高谷康子 ,  安田弘树 ,  下村彩 ,  原崎裕介 ,  佐波正浩 ,  清原靖 ,  藤原伊织 ,  田中正夫 ,  阿部峰大

IPC: C25D3/38 ,  C25D7/00 ,  H05K3/18 ,  H05K3/42

Abstract: 本发明提供一种通孔的填充性优异的电镀铜浴。电镀铜浴含有分子内含有氨基的化合物与分子内含有环氧基的化合物在酸的存在下的反应生成物。上述分子内含有氨基的化合物包括由特定的通式表示的胺化合物。上述分子内含有环氧基的化合物包括由特定的通式表示的环氧化合物。

公开(公告)号：CN111032910A

公开(公告)日：2020-04-17

申请号：CN201880055459.8

申请日：2018-08-31

Applicant: 栗田工业株式会社 ,  株式会社杰希优

Inventor： 永井达夫 ,  山本裕都喜 ,  山本泰望 ,  桥本康男 ,  泉谷美代子

IPC: C23C18/24 ,  C25B1/00 ,  C25D5/56

Abstract: 本发明的处理装置(1)具有：在外周设置了恒温加热器(3)的处理槽(2)；从具备循环泵(5)的配管(4)接续的电解池(6)；以及从该电解池(6)向处理槽(2)供给的配管(7)。在该电解池(6)内，具备由金刚石电极构成的阳极(6A)和阴极(6B)，以及在两者之间配置的双极电极(6C)。处理槽(2)和电解池(6)中填充规定浓度的硫酸，由直流电源组件向阳极(6A)和阴极(6B)通以规定的电流，并电解硫酸，由此，生成过氧二硫酸等过硫酸溶液(S)，该过硫酸溶液(S)能够经由配管(7)供给于处理槽(2)。该处理装置(1)能够应用ABS系树脂表面的镀前处理方法，其是一种无铬、无锰的ABS系树脂表面的镀前处理方法，能够形成充分密合于ABS系树脂表面的镀敷。

公开(公告)号：CN110709535A

公开(公告)日：2020-01-17

申请号：CN201880035472.7

申请日：2018-03-15

Applicant: 株式会社杰希优

Inventor： 仓持保之 ,  石塚博士 ,  泉谷美代子

IPC: C23C18/30

Abstract: 本发明提供一种树脂表面的蚀刻方法，其是不使用铬酸的树脂的蚀刻技术，是能够以工业水平运用的新技术，其特征在于，在蚀刻树脂表面时，不进行树脂的溶胀工序，将以下工序(a)和(b)作为1组，将其进行2组以上。(a)用含有氧化剂的溶液进行处理，使氧化剂吸附于树脂表面的工序；(b)使工序(a)中吸附于树脂表面的氧化剂活化的工序。

公开(公告)号：CN110256955A

公开(公告)日：2019-09-20

申请号：CN201910495663.8

申请日：2013-06-28

Applicant: 株式会社杰希优

Inventor： 佐土原大祐 ,  西川贤一 ,  根道靖丈 ,  户田久之 ,  安田弘树 ,  都木新介 ,  约翰·厄尼斯特·克里斯托弗·科多尼尔

IPC: C09D183/04 ,  C08G77/04

Abstract: 本发明的目的在于，提供具有以往的水与四烷氧基硅烷的缩合物所不具有的新型功能的硅低聚物，提供下述通式(I)所表示的硅低聚物及其制造方法，(其中，R1～R10分别独立地为碳原子数1～4的烷基或羟烷基，X1～X3分别独立地为下述通式(II)所表示的基团，n为0或1，n为0时m为1～3的整数，n为1时m为1)(其中，A为碳原子数2～4的分支或未分支的亚烷基，1为1～3的整数)。

公开(公告)号：CN110114506A

公开(公告)日：2019-08-09

申请号：CN201680091893.2

申请日：2016-12-27

Applicant: 株式会社杰希优 ,  中央机械株式会社

Inventor： 高德诚 ,  中丸弥一郎 ,  篠崎裕规雄 ,  桥本刚毅

IPC: C23C18/31 ,  C25D5/56 ,  C25D7/06

Abstract: 本发明提供即使在输送较薄的树脂膜的情况下，也能够可靠地将树脂膜输送至处理槽并进行良好的处理的树脂膜处理装置。树脂膜处理装置在送出侧辊与卷绕侧辊之间输送树脂膜并进行所需的处理，其特征在于，具有用于输送赋予了规定的张力的上述树脂膜的输送辊，在上述输送辊表面形成与上述树脂膜接触的弹性树脂表面部。

公开(公告)号：CN108350589A

公开(公告)日：2018-07-31

申请号：CN201580084219.7

申请日：2015-11-06

Applicant: 株式会社杰希优

Inventor： 衣幡和男 ,  中山香织 ,  柴田佳那 ,  福岛敏明 ,  都木新介

IPC: C25D3/12

Abstract: 通过以含有苄甲乙氧铵盐这一点为特征的镀镍用添加剂、含有其的缎光镀镍浴以及使用其的缎光镀镍方法，而提供在镀镍中能够得到缎光状外观的技术。

公开(公告)号：CN107532324A

公开(公告)日：2018-01-02

申请号：CN201580079145.8

申请日：2015-04-27

Applicant: 株式会社杰希优

Inventor： 江田哲朗 ,  户田久之 ,  岸本一喜 ,  高谷康子 ,  君塚亮一

IPC: C25D21/12 ,  C25D3/38

CPC classification number: C25D3/38 ,  C25D21/12

Abstract: 本发明提供一种技术，其中，作为事后对应而客观性地判断硫酸铜镀液的老化来进行硫酸铜镀液的管理，用以替代根据不良品的多寡或经验性判断来进行镀液的更新或净化的迄今为止的硫酸铜镀液的管理。一种硫酸铜镀液的管理方法，其特征在于，针对用以对被镀敷材料进行硫酸铜镀敷的硫酸铜镀液，测定硫酸铜镀液中的杂质浓度，且由其杂质浓度判断硫酸铜镀液的老化。