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公开(公告)号:CN112979458B
公开(公告)日:2023-08-25
申请号:CN202011462505.1
申请日:2020-12-11
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C59/68 , C07C65/21 , C07C59/66 , C07C59/90 , C07C51/41 , C07C381/12 , C07D333/74 , C07C69/92 , C07C69/76 , C07C309/75 , C07C69/757 , C07D335/02 , C07D307/00 , G03F7/004 , H01L21/027
Abstract: 本发明涉及鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光学光刻中,为高感度,且CDU、LWR等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物;并提供其所使用的酸扩散抑制剂、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为下式(1)表示的鎓盐化合物、由该鎓盐化合物构成的酸扩散抑制剂、及含有该酸扩散抑制剂的化学增幅抗蚀剂组成物。
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公开(公告)号:CN110483392A
公开(公告)日:2019-11-22
申请号:CN201810456976.8
申请日:2018-05-14
Applicant: 上海海和药物研究开发有限公司
IPC: C07D215/20 , C07C309/66 , C07C309/73 , C07C309/75 , C07C271/24
Abstract: 本发明涉及合成N-保护的喹啉-7-基氧基甲基环丙基胺衍生物的方法及合成中间体,尤其涉及合成N-保护基-(1-(((4-氯-6-甲氧基喹啉-7-基)氧基)甲基)环丙基)胺衍生物的制备方法及其合成中间体。
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公开(公告)号:CN101845005B
公开(公告)日:2014-08-20
申请号:CN201010203910.1
申请日:2010-06-18
Applicant: 中科院广州化学有限公司
IPC: C07C309/75 , C07C303/30 , C07C69/94 , C07C67/317 , C07F9/12 , C07C69/84 , C07C69/86 , C07D303/23 , C07D301/28 , C07F9/655
Abstract: 本发明涉及一种侧链取代芳酯二酚、制备方法及液晶环氧的制备方法,该侧链取代芳酯二酚具有下列通式:其中X为含有侧链取代的芳香基团。本发明侧链取代芳酯二酚制备芳酯类液晶环氧单体的方法,单体的合成周期大大缩短,合成单体的原材料价廉易得,制备方法简便。
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公开(公告)号:CN103623743A
公开(公告)日:2014-03-12
申请号:CN201310669611.0
申请日:2013-12-11
Applicant: 浙江工业大学
IPC: B01F17/42 , C07C303/28 , C07C309/75 , C08G65/48
Abstract: 本发明公开了一种含氟非离子表面活性剂聚乙二醇二[4-全氟-(1,3-二甲基-1-丁烯氧基)]苯磺酸酯的制备方法及其应用,并对其表面张力、界面张力、水溶液的发泡性、润湿性及乳化性应用进行研究,发现其具有较低表面张力、界面张力及优异的表面活性。
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公开(公告)号:CN101519351B
公开(公告)日:2012-09-05
申请号:CN200910021885.2
申请日:2009-04-08
Applicant: 西北师范大学
IPC: C07C67/14 , C07C67/08 , C07C69/145 , C07C69/157 , C07C69/24 , C07C69/36 , C07C69/78 , C07C69/767 , C07C69/614 , C07C303/28 , C07C309/73 , C07C309/75 , C07C253/30 , C07C255/55
Abstract: 本发明涉及一种高烯丙基醇酯的制备方法,该方法以金属铟为促进剂,将醛类化合物、烯丙基卤化物和酰化剂一次混合,在5~30℃下反应生成高烯丙基醇酯。本发明属三组分一锅串联反应,条件温和,反应时间短,后处理简单,收率高,可以实现规模生产,具有较好的工业应用前景。
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公开(公告)号:CN1989455B
公开(公告)日:2011-12-21
申请号:CN200580024529.6
申请日:2005-07-11
Applicant: 西巴特殊化学品控股有限公司
IPC: G03F7/004 , C07C309/75 , C07C309/65 , C07C381/00 , C07C309/67 , C07D209/86 , C07C309/73 , C07F9/09 , C07C309/74 , G02B5/20
CPC classification number: C07C309/67 , B33Y70/00 , C07C309/65 , C07C309/73 , C07C309/74 , C07C309/75 , C07C381/00 , C07C2603/18 , C07C2603/20 , C07C2603/66 , C07D209/86 , C07F9/097 , G03F7/0007 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , Y10S430/12
Abstract: 本发明涉及式(I、II或III)的新型光酸生成剂化合物,其中R1是,例如,C1-C18烷基磺酰基或苯基磺酰基,苯基-C1-C3烷基磺酰基,萘基磺酰基,蒽基磺酰基或菲基磺酰基,全都任选地被取代,或R1是基团X1,X2和X3相互独立地为O或S;R’1是,例如,亚苯基二磺酰基,亚萘基二磺酰基,二亚苯基二磺酰基,或氧二亚苯基二磺酰基,全都任选地被取代;R2是卤素或C1-C10卤代烷基;X是卤素;Ar1是,例如,联苯基或芴基,或是取代的萘基;Ar′1是杂亚芳基,任选地被取代;R8,R9,R10和R11是,例如,未取代的或由卤素取代的C1-C6烷基;或R8,R9和R10是未取代的或由C1-C4烷基或卤素取代的苯基;或R10和R11一起是未取代的或由C1-C4烷基或卤素取代的1,2-亚苯基或C2-C6亚烷基。
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公开(公告)号:CN101845005A
公开(公告)日:2010-09-29
申请号:CN201010203910.1
申请日:2010-06-18
Applicant: 中科院广州化学有限公司
IPC: C07C309/75 , C07C303/30 , C07C69/94 , C07C67/317 , C07F9/12 , C07C69/84 , C07C69/86 , C07D303/23 , C07D301/28 , C07F9/655
Abstract: 本发明涉及一种侧链取代芳酯二酚、制备方法及液晶环氧的制备方法,该侧链取代芳酯二酚具有下列通式:其中X为含有侧链取代的芳香基团。本发明侧链取代芳酯二酚制备芳酯类液晶环氧单体的方法,单体的合成周期大大缩短,合成单体的原材料价廉易得,制备方法简便。
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公开(公告)号:CN109415310B
公开(公告)日:2022-03-01
申请号:CN201780037111.1
申请日:2017-06-14
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: C07C309/75 , C09D7/41 , C09D201/00 , C09K11/06 , H01L51/50
Abstract: 本发明提供由下述式(1)表示的磺酸酯化合物。式中,R1和R2各自独立地表示氢原子、或者直链状或分支状的1价脂肪族烃基,R3表示直链状或分支状的1价脂肪族烃基,R1、R2和R3的碳原子数的合计为6以上;A1表示‑O‑或者‑S‑,A2表示(n+1)价的芳族基团,A3表示包含1个以上的芳香环的取代或未取代的m价的烃基;m表示满足2≤m≤4的整数,n表示满足1≤n≤4的整数。
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公开(公告)号:CN109694338B
公开(公告)日:2021-09-24
申请号:CN201710994239.9
申请日:2017-10-23
Applicant: 河南科技大学
IPC: C07C309/73 , C07C309/75 , C07C309/76 , C07C303/26 , A01N41/04 , A01P7/04 , A01P3/00
Abstract: 本发明涉及一种甲氧基苯乙酮衍生物及其制备方法、应用,属于植物病虫害防治技术领域。本发明的甲氧基苯乙酮衍生物具有如式(1)所示的结构,其中,R1选自H、CH3、CH2CH3、OCH3、F、Cl、Br、NO2、CH2Br中的一种或几种;R2和R3各自独立地选自F、Cl、Br中的一种。本发明的甲氧基苯乙酮衍生物具有较好的抗菌和杀虫活性,能够用于制备新型的植物病原真菌抗菌剂和害虫杀虫剂。
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公开(公告)号:CN112979458A
公开(公告)日:2021-06-18
申请号:CN202011462505.1
申请日:2020-12-11
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C59/68 , C07C65/21 , C07C59/66 , C07C59/90 , C07C51/41 , C07C381/12 , C07D333/74 , C07C69/92 , C07C69/76 , C07C309/75 , C07C69/757 , C07D335/02 , C07D307/00 , G03F7/004 , H01L21/027
Abstract: 本发明涉及鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光学光刻中,为高感度,且CDU、LWR等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物;并提供其所使用的酸扩散抑制剂、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为下式(1)表示的鎓盐化合物、由该鎓盐化合物构成的酸扩散抑制剂、及含有该酸扩散抑制剂的化学增幅抗蚀剂组成物。
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