成像装置和成像方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103454837A

    公开(公告)日:2013-12-18

    申请号:CN201310196294.5

    申请日:2013-05-24

    Applicant: 索尼公司

    Inventor: 中辻达也

    Abstract: 本公开涉及成像装置和成像方法。提供一种成像装置,其包括:对被摄体光执行光电转换以生成图像信号的图像传感器、在图像传感器上形成被摄体光的像的摄影光学系统、以及透射经由摄影光学系统入射在图像传感器上的被摄体光的第一光学构件。该第一光学构件根据相对于摄影光学系统的光轴的角度来改变被摄体光的第一波带的透射率。

    适配于光谱分析的装置
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102132144B

    公开(公告)日:2012-12-26

    申请号:CN200980133231.7

    申请日:2009-06-10

    Inventor: H.G.E.马丁

    Abstract: 一种适配于光谱分析的装置(“A1”),具有:光发射构件(10,2a);界定空间(11),具有空腔形式,用作测量单元且限定光学测量距离(“L”);光感测构件(12),用于检测从所述光发射构件(10)经过所述光学测量距离(“L”)的辐射(4);以及至少连接到所述光感测构件(12)且执行光谱分析的单元(13)。使来自光发射构件的辐射射束以不同的入射角经过光学带通滤波器(3f)。该滤波器构建为使得依赖于入射角的波长经过。把第一选择波长成分与第二波长成分分离,该第一和第二波长成分均在其光电构件(3b,3b’)中接收。所述单元适配于检测和计算每个这种波长成分的发生的辐射强度。

    分光装置、光复用装置及方法、光分插复用设备

    公开(公告)号:CN102317815A

    公开(公告)日:2012-01-11

    申请号:CN201180001273.2

    申请日:2011-07-13

    Inventor: 傅正华

    CPC classification number: G02B27/14 G01J2003/1243 G02B6/29365 G02B27/142

    Abstract: 本发明的实施例提供了一种分光装置、光复用装置及方法、光分插复用设备,涉及光通信技术领域,为提高性能降低成本而发明。所述分光装置,包括基片、所述基片的上表面设置有增透膜,所述基片的下表面设置有滤波膜,还包括与所述滤波膜相对设置的光转向部;光信号以第一规定角度入射至所述滤波膜,所述光信号中的第一波长光波被所述滤波膜透射,以使所述第一波长光波从所述光信号中分离,而除所述第一波长光波以外的光波被所述滤波膜反射至所述光转向部,所述光转向部使所述反射至所述光转向部的光波以第二规定角度入射至所述滤波膜,所述光信号中的第二波长光波被所述滤波膜透射,以使所述第二波长光波从所述光信号中分离。本发明可用于光通信中。

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