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公开(公告)号:CN103913807B
公开(公告)日:2016-09-28
申请号:CN201410003320.2
申请日:2014-01-03
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: H04N5/2353 , G01J3/0208 , G01J3/2803 , G01J3/32 , G01J3/36 , G01J2003/1213 , G01J2003/1221 , G01J2003/1243 , G01N21/27 , G01N2021/1797 , H04N5/2254 , H04N5/332
Abstract: 提供一种可调节的多模式光场成像系统。非均匀的滤镜模块定位在该光场成像系统的光瞳平面上并提供多模式性能。该滤镜模块能够相对于该成像系统被移动而相应地调节曝光条件,从而能够调节该多模式性能。
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公开(公告)号:CN105790836A
公开(公告)日:2016-07-20
申请号:CN201610015490.1
申请日:2016-01-11
Applicant: 株式会社理光
IPC: H04B10/116 , H04N5/225 , G01N21/84 , G01B11/00
CPC classification number: G01B11/25 , G01B11/24 , G01B11/303 , G06T7/557 , G06T7/60 , H04N5/2256 , H04N13/232 , G01B11/00 , G01N21/84 , H04B10/116
Abstract: 一种实装在计算机系统上的用于推定对象的表面属性的方法,包括:对由点光源所照明的对象的全光图像进行访问的步骤,所述全光图像包括多个超像素,各超像素对从所述对象的预定区域所反射的光进行捕捉,各超像素包括多个子像素,各子像素对传播方向的预定范围内所反射的光进行捕捉;及对所述子像素进行处理以对所述对象的表面属性进行推定的步骤。
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公开(公告)号:CN105790836B
公开(公告)日:2018-10-23
申请号:CN201610015490.1
申请日:2016-01-11
Applicant: 株式会社理光
IPC: H04B10/116 , H04N5/225 , G01N21/84 , G01B11/00
Abstract: 一种实装在计算机系统上的用于推定对象的表面属性的方法,包括:对由点光源所照明的对象的全光图像进行访问的步骤,所述全光图像包括多个超像素,各超像素对从所述对象的预定区域所反射的光进行捕捉,各超像素包括多个子像素,各子像素对传播方向的预定范围内所反射的光进行捕捉;及对所述子像素进行处理以对所述对象的表面属性进行推定的步骤。
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公开(公告)号:CN103932661A
公开(公告)日:2014-07-23
申请号:CN201410010071.X
申请日:2014-01-09
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 一种可实现耳朵内部的三维和/或光谱成像、以有助于改进炎症及感染的诊断的全光耳镜。该全光耳镜包括主成像系统和全光传感器。该主成像系统包括耳镜物镜和中继光学器件,其进行配合以在中间像平面上形成耳朵内部的像。该全光传感器包括被定位在中间像平面上的微成像阵列和被定位在光瞳平面的共轭系上的传感器阵列。可选的滤镜模块可以被定位在光瞳平面或其共轭系中的一个上,以便进行三维和/或光谱成像。
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公开(公告)号:CN103932661B
公开(公告)日:2017-01-11
申请号:CN201410010071.X
申请日:2014-01-09
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 一种可实现耳朵内部的三维和/或光谱成像、以有助于改进炎症及感染的诊断的全光耳镜。该全光耳镜包括主成像系统和全光传感器。该主成像系统包括耳镜物镜和中继光学器件,其进行配合以在中间像平面上形成耳朵内部的像。该全光传感器包括被定位在中间像平面上的微成像阵列和被定位在光瞳平面的共轭系上的传感器阵列。可选的滤镜模块可以被定位在光瞳平面或其共轭系中的一个上,以便进行三维和/或光谱成像。
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公开(公告)号:CN103913807A
公开(公告)日:2014-07-09
申请号:CN201410003320.2
申请日:2014-01-03
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: H04N5/2353 , G01J3/0208 , G01J3/2803 , G01J3/32 , G01J3/36 , G01J2003/1213 , G01J2003/1221 , G01J2003/1243 , G01N21/27 , G01N2021/1797 , H04N5/2254 , H04N5/332
Abstract: 提供一种可调节的多模式光场成像系统。非均匀的滤镜模块定位在该光场成像系统的光瞳平面上并提供多模式性能。该滤镜模块能够相对于该成像系统被移动而相应地调节曝光条件,从而能够调节该多模式性能。
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