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公开(公告)号：CN103748058A
公开(公告)日：2014-04-23
申请号：CN201280035973.8
申请日：2012-09-05
Applicant: 维塔蔡恩法布里克H劳特尔两合公司
Inventor： 安德烈·舍内 , 延斯·菲舍尔 , 卡斯滕·施罗德 , 哈特穆特·斯特芬 , 维尔弗里德·贝施 , 安德烈亚什·福格尔桑 , 克劳斯-迪特尔·韦尔特曼 , 芭芭拉·内贝
CPC classification number: A61F2/28 , A61K6/0205 , A61L27/10 , A61L31/026 , A61L2400/18 , A61L2430/02 , A61L2430/12 , C04B41/009 , C04B41/48 , C04B41/83 , C04B2111/00836 , C04B35/00 , C04B35/18 , C04B41/0054
Abstract: 一种制造陶瓷种植体的方法，该陶瓷种植体具有与骨细胞组织形成了永久粘合的表面，该表面提供了改善的骨整合，该方法包含以下步骤：-带有表面的陶瓷材料的预处理，其中所述的陶瓷材料的表面暴露于一调节的等离子体（a？conditioning？plasma），然后进行第二步骤；该调节的等离子体是在低压下通过直流（DC）或诸如高频率或无线电频率（HF，RF）的交流（AC）或微波（MW）来产生的；-采用反应的等离子处理，其中，一种有机化合物被添加到等离子中，以使得有机相至少部分涂覆到所述表面，其中有机化合物选自含有脂肪胺、环胺、不饱和的胺、芳香胺以及它们的组合的组。
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公开(公告)号：CN100545304C
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200510081877.9
申请日：2001-06-25
Applicant: 兰姆研究公司
Inventor： 威廉·F·博希
CPC classification number: C04B41/009 , C04B41/0054 , C04B41/80 , C23C16/4404 , H01J37/321 , C04B41/53 , C04B35/565 , C04B35/515
Abstract: 一种陶瓷件，用于处理半导体衬底的真空处理室，该陶瓷件包括：具有才机加工或才烧结的外表面的非氧化物陶瓷材料；和在该外表面上并形成陶瓷件的最外表面的氧化层，该氧化层内包含附着在外表面上的非氧化物陶瓷材料颗粒。在半导体衬底处理期间，使陶瓷件经等离子体调控处理可使颗粒污染降至最低。陶瓷件可由各种材料制成，如氧化铝、二氧化硅、石英、碳、硅、碳化硅、氮化硅、氮化硼、碳化硼、氮化铝或碳化钛。陶瓷件可为真空处理室的各种部件，如处理室侧壁内的衬套、向处理室供给处理气体的气体散布板、喷淋头组件的缓冲板、晶片通道插入件、衬底周围的聚焦环、电极周围的边环、等离子体屏蔽板和/或窗口。
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公开(公告)号：CN101102979A
公开(公告)日：2008-01-09
申请号：CN200680000518.9
申请日：2006-05-23
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: C04B41/91 , C04B41/009 , C04B41/5346 , G02B2006/12166 , Y10T428/24479 , C04B41/0054 , C04B35/56
Abstract: 用由含卤素原子的气体和含氮原子的气体组成的混合气体生成的等离子体50对WC基板7进行蚀刻。
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公开(公告)号：CN106232636B
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201580019904.1
申请日：2015-02-16
Applicant: 株式会社可乐丽
CPC classification number: C08F216/38 , C04B35/4682 , C04B35/634 , C04B35/6342 , C04B41/0054 , C04B41/009 , C04B41/80 , C08F8/12 , C08F8/28 , C08F16/06 , C08F16/38 , C08F18/08 , C08F218/08 , C08F2500/17 , C08F2800/10 , C08F2800/20 , C08K3/08 , C08K2003/0862 , C08K2201/001 , C09D5/24 , H01B1/22 , C08F118/08 , C08F216/06
Abstract: 一种粘结剂，其为含有缩醛化度为50～85摩尔％、乙烯基酯单体单元的含量为0.1～20摩尔％、粘均聚合度为200～5000的聚乙烯醇缩醛的陶瓷成形用或导电糊剂用的粘结剂，其中，对在230℃下加热了3小时的所述聚乙烯醇缩醛进行凝胶渗透色谱测定时的、利用差示折射率检测器测定的峰顶分子量(A)与利用吸光光度检测器(测定波长280nm)测定的峰顶分子量(B)满足式(1)((A‑B)/A＜0.60)，并且，峰顶分子量(B)处的吸光度为0.50×10‑3～1.00×10‑2。
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公开(公告)号：CN103998392B
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201280062143.4
申请日：2012-11-22
Applicant: 建筑研究和技术有限公司
CPC classification number: C04B24/34 , A61K9/288 , A61K9/5063 , C04B20/104 , C04B20/12 , C04B24/2652 , C04B28/02 , C04B28/14 , C04B41/0027 , C04B41/0045 , C04B41/0054 , C04B41/0072 , C04B41/4535 , Y10T428/2991 , Y10T428/2998 , C04B20/008 , C04B40/0608 , C04B2103/10 , C04B2103/20 , C04B2103/304 , C04B2103/44 , C04B2103/46 , C04B2103/50 , C04B2103/58 , C04B12/04 , C04B20/1048 , C04B22/0086 , C04B22/0093 , C04B22/085 , C04B22/124 , C04B22/147 , C04B22/148 , C04B24/04 , C04B20/107 , C04B14/22
Abstract: 本发明建议了一种在pH为10至14下具有受控的释放特性的活性组分的新型涂覆颗粒，其中所述活性组分选自一种或多种用于控制无机粘合剂的建筑化学添加剂，其特征在于，所述涂层包含紫胶，本发明还建议了所述颗粒的制造方法及其作为添加剂用于砂浆、干砂浆、水泥浆料和/或混凝土的用途。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103771907A
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201310506924.4
申请日：2013-10-24
Applicant: 斯沃奇集团研究和开发有限公司
IPC: C04B41/88
CPC classification number: G04B37/22 , C04B41/009 , C04B41/52 , C04B41/90 , G04B19/18 , G04B37/226 , Y10T29/49579 , C04B35/01 , C04B41/0054 , C04B41/4556 , C04B41/4576 , C04B41/5105
Abstract: 本发明涉及一种制造元件（10，10′，10′′）的方法（21），该方法（21）包括以下步骤：a）形成由基于氧化物的陶瓷制成的体部（11，11′，11′′）；b）使所述体部（11，11′，11′′）的外表面（F）的至少一部分（15，15′，15′′）暴露于还原反应，以便去除氧原子至预定深度，从而使所述至少一部分（15，15′，15′′）导电；c）从导电的所述至少一部分（15，15′，15′′）开始沉积金属材料（16，16′，16′′）；d）加工所述体部（11，11′，11′′）和/或所述金属材料（16，16′，16′′）以便为所述元件（10，10′，10′′）提供美学外观。本发明涉及钟表领域。
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公开(公告)号：CN101045645B
公开(公告)日：2011-11-09
申请号：CN200710091556.6
申请日：2007-03-27
Applicant: 柯马杜股份有限公司
IPC: C04B41/80
CPC classification number: G04B37/225 , A44C27/00 , B41M5/262 , C04B41/0036 , C04B41/0054 , C04B41/009 , C04B41/80 , C04B2111/82 , C04B41/4519 , C04B41/4556 , C04B41/5057 , C04B41/5061 , C04B41/5062 , C04B41/5063 , C04B41/5068 , C04B35/10 , C04B35/46 , C04B35/48 , C04B35/58 , C04B35/56 , C04B35/581
Abstract: 本发明提出了一种对由金属氧化物类型的陶瓷材料制成的部件进行局部着色的方法，该方法主要包括以下步骤：设置所述部件的支承件和一激光器，该支承件和激光器能够沿XY平面彼此相对地移动；使用包含选自氮和碳中的一种元素的气体对所述部件进行等离子处理，以便将金属氧化物的表面层转变为选自金属氮化物和金属碳化物的基本按化学计量组成的陶瓷；使用激光束局部照射所述部件以便提供足够的能量，以通过改变所述表面层的化学计量关系而引起局部变色；以及使用所述激光束扫描所述部件的表面以形成确定的图案。
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公开(公告)号：CN109320291A
公开(公告)日：2019-02-12
申请号：CN201811062321.9
申请日：2018-09-12
Applicant: 武汉大学
CPC classification number: C04B41/0054 , B82Y30/00 , C04B41/5346
Abstract: 本发明公开了一种获得固体材料表面孔洞直径可控范围广的团簇离子轰击法。为克服现有技术固体表面尺寸控制的局限性，提出了采用压制所需材料的纳米粉体来制作基体。在这种压制材料中，布氏硬度可以很容易地通过调节压片机在基体形成过程中的压力来控制，因此，孔洞直径可以通过基体的硬度来控制。此外，与控制团簇簇离子能量相比，这种硬度控制可形成直径范围更大的孔，降低了成本，因此控制材料硬度是控制孔洞直径的一种便捷方法。
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公开(公告)号：CN107473774A
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201710840957.0
申请日：2017-09-18
Applicant: 广东工业大学
CPC classification number: C04B41/88 , C04B41/009 , C04B41/5127 , C04B2111/00008 , C04B2111/00844 , H05K1/0306 , H05K3/0011 , H05K3/38 , C04B35/10 , C04B35/581 , C04B41/5035 , C04B41/4539 , C04B41/0054
Abstract: 本发明提供了一种铜-陶瓷基板的制备方法，包括以下步骤：将纳米铜粉、纳米二氧化硅与有机溶剂混合，得到纳米铜膏；将所述纳米铜膏涂覆于陶瓷基板表面，再进行烧结，最后依次进行光刻、显影、电镀和蚀刻，得到铜-陶瓷基板。本申请制备铜-陶瓷基板的过程中，由于纳米铜粉、纳米二氧化硅的纳米尺寸效应与其中的纳米SiO2可与陶瓷基板中的三氧化二铝、氮化铝反应，从而可在较低的烧结温度下实现铜-陶瓷间的高强度键合。
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公开(公告)号：CN106232636A
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：CN201580019904.1
申请日：2015-02-16
Applicant: 株式会社可乐丽
CPC classification number: C08F216/38 , C04B35/4682 , C04B35/634 , C04B35/6342 , C04B41/0054 , C04B41/009 , C04B41/80 , C08F8/12 , C08F8/28 , C08F16/06 , C08F16/38 , C08F18/08 , C08F218/08 , C08F2500/17 , C08F2800/10 , C08F2800/20 , C08K3/08 , C08K2003/0862 , C08K2201/001 , C09D5/24 , H01B1/22 , C08F118/08 , C08F216/06
Abstract: 一种粘结剂，其为含有缩醛化度为50～85摩尔％、乙烯基酯单体单元的含量为0.1～20摩尔％、粘均聚合度为200～5000的聚乙烯醇缩醛的陶瓷成形用或导电糊剂用的粘结剂，其中，对在230℃下加热了3小时的所述聚乙烯醇缩醛进行凝胶渗透色谱测定时的、利用差示折射率检测器测定的峰顶分子量(A)与利用吸光光度检测器(测定波长280nm)测定的峰顶分子量(B)满足式吸光度为0.50×10-3～1.00×10-2。(1)((A-B)/A＜0.60)，并且，峰顶分子量(B)处的
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