表面处理铜箔、附载体铜箔、积层板、印刷布线板、电子机器、以及印刷布线板的制造方法

    公开(公告)号:CN104427757B

    公开(公告)日:2018-08-28

    申请号:CN201410410740.2

    申请日:2014-08-20

    Abstract: 本发明公开了表面处理铜箔、附载体铜箔、积层板、印刷布线板、电子机器、以及印刷布线板的制造方法。本发明的表面处理铜箔是通过粗化处理而在一个铜箔表面及/或两个铜箔表面形成粗化粒子,关于粗化处理表面的所述粗化粒子,长径为100nm以下的粗化粒子每单位面积形成有50个/μm2以上,粗化处理表面的MD的60度光泽度为76~350%,粗化处理表面含有选自由Ni、Co所组成的群中的任一种以上的元素,在粗化处理表面含有Ni的情况下,Ni的附着量为1400μg/dm2以下,在粗化处理表面含有Co的情况下,Co的附着量为2400μg/dm2以下。本发明提供一种与树脂良好地粘接,且通过蚀刻而去除铜箔后的树脂的透明性优异,信号的传输损耗少的表面处理铜箔及使用其的积层板。

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