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公开(公告)号：CN106537511A
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201580036836.X
申请日：2015-06-25
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 生成初始辐射脉冲；提取初始辐射脉冲的一段以形成修改辐射脉冲，修改辐射脉冲包括第一部分和第二部分，第一部分在时间上连接到第二部分，并且第一部分的最大能量小于第二部分的最大能量；修改辐射脉冲的第一部分与靶材相互作用以形成修改靶；并且修改辐射脉冲的第二部分与修改靶相互作用以生成发射极紫外(EUV)光的等离子体。
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公开(公告)号：CN110784981B
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN201911033324.4
申请日：2015-06-25
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H05G2/00
Abstract: 本公开的实施例涉及极紫外光源。生成初始辐射脉冲；提取初始辐射脉冲的一段以形成修改辐射脉冲，修改辐射脉冲包括第一部分和第二部分，第一部分在时间上连接到第二部分，并且第一部分的最大能量小于第二部分的最大能量；修改辐射脉冲的第一部分与靶材相互作用以形成修改靶；并且修改辐射脉冲的第二部分与修改靶相互作用以生成发射极紫外(EUV)光的等离子体。
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公开(公告)号：CN109791075A
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201780057238.X
申请日：2017-09-14
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种用于极紫外(EUV)光刻工具的光源，包括：光生成系统，包括光生成模块；光学放大器，包括与增益带相关联的增益介质，增益介质被配置为放大具有增益带中的波长的光；以及基于波长的光学滤光器系统，位于光生成模块和光学放大器之间的光束路径上，基于波长的光学滤光器系统包括至少一个光学元件，至少一个光学元件被配置为允许具有第一波长集合中的波长的光在光束路径上传播，并且允许从光束路径中移除具有第二波长集合中的波长的光，第一波长集合和第二波长集合包括光学放大器的增益带中的不同波长。
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公开(公告)号：CN115398757A
公开(公告)日：2022-11-25
申请号：CN202180027214.6
申请日：2021-03-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 提供了用于激光束沿公共光束路径进行双通道放大的系统、设备和方法。示例方法可以包括生成第一激光束和第二激光束。随后，示例方法可以包括沿公共光束路径，执行第一激光束和第二激光束的双通道放大。在一些方面，第一激光束可以包括第一波长，第二激光束可以包括与第一波长不同的第二波长。
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公开(公告)号：CN113661789A
公开(公告)日：2021-11-16
申请号：CN202080026894.5
申请日：2020-03-31
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H05G2/00
Abstract: 一种极紫外(EUV)光源包括：真空容器；向真空容器的内部供应靶标的靶标材料供应系统，靶标包括在初始靶标区域处具有初始形状的第一靶标；被配置为向第一靶标区域提供第一光束的第一光源，第一光束被配置为修改初始靶标的初始形状；以及被配置为向第二靶标区域提供第二光束的第二光源，第二靶标区域被配置为接收经修改的靶标，第二光束被配置为将经修改的靶标中的靶标材料中的一些靶标材料转换为发射EUV光的等离子体。第一靶标的初始形状被控制以由此控制由第二光束与经修改的靶标之间的相互作用产生的等离子体的量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107710031B
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：CN201580068019.2
申请日：2015-11-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种激光产生等离子体极紫外激光源，包括至少一个可变半径反射镜。至少一个可变半径反射镜用于调整主脉冲的在与预脉冲焦面相距指定距离处的光束直径，其中预脉冲将微滴辐射成靶微滴并且主脉冲将靶微滴辐射成等离子体状态以生成极紫外辐射。
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公开(公告)号：CN110784981A
公开(公告)日：2020-02-11
申请号：CN201911033324.4
申请日：2015-06-25
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H05G2/00
Abstract: 本公开的实施例涉及极紫外光源。生成初始辐射脉冲；提取初始辐射脉冲的一段以形成修改辐射脉冲，修改辐射脉冲包括第一部分和第二部分，第一部分在时间上连接到第二部分，并且第一部分的最大能量小于第二部分的最大能量；修改辐射脉冲的第一部分与靶材相互作用以形成修改靶；并且修改辐射脉冲的第二部分与修改靶相互作用以生成发射极紫外(EUV)光的等离子体。
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公开(公告)号：CN106537511B
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201580036836.X
申请日：2015-06-25
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 生成初始辐射脉冲；提取初始辐射脉冲的一段以形成修改辐射脉冲，修改辐射脉冲包括第一部分和第二部分，第一部分在时间上连接到第二部分，并且第一部分的最大能量小于第二部分的最大能量；修改辐射脉冲的第一部分与靶材相互作用以形成修改靶；并且修改辐射脉冲的第二部分与修改靶相互作用以生成发射极紫外(EUV)光的等离子体。
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公开(公告)号：CN117806136A
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN202410142547.9
申请日：2016-09-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 用于光刻工具的光源包括：被配置为发出第一光束和第二光束的源，第一光束具有第一波长，并且第二光束具有第二波长，第一波长和第二波长不同；放大器，被配置为将第一光束和第二光束放大，以分别产生第一放大光束和第二放大光束；以及光源与放大器之间的光学隔离器，光学隔离器包括：多个二向色光学元件以及两个二向色光学元件之间的光学调制器。
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公开(公告)号：CN115669232A
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202180037890.1
申请日：2021-04-26
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·A·沙夫甘斯 , J·T·斯特瓦特四世
IPC: H05G2/00
Abstract: 一种装置包括：容器，包括内部空间；材料供应系统，被配置为沿内部空间中的路径提供包括靶材料的靶；检测系统，被配置为检测由靶中的一者与量测光束之间的相互作用产生的散射光，并基于相互作用产生信息；以及控制系统，被配置为基于由检测系统产生的信息来调整路径。靶材料在等离子状态下产生极紫外(EUV)光。量测光束不将靶材料转换成等离子体状态。
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