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公开(公告)号：CN107710031A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：CN201580068019.2
申请日：2015-11-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种激光产生等离子体极紫外激光源，包括至少一个可变半径反射镜。至少一个可变半径反射镜用于调整主脉冲的在与预脉冲焦面相距指定距离处的光束直径，其中预脉冲将微滴辐射成靶微滴并且主脉冲将靶微滴辐射成等离子体状态以生成极紫外辐射。
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公开(公告)号：CN105940349A
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201480074178.9
申请日：2014-12-19
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·F·A·厄尔林斯 , N·A·J·M·克里曼斯 , A·J·J·范迪杰西尔多克 , R·M·霍夫斯特拉 , O·F·J·努德曼 , T·N·费姆 , J·B·P·范斯库特 , J-C·王 , K·W·张
Abstract: 一种琢面反射器(32,32”)，用于接收入射辐射束(2)并引导反射辐射束至目标。琢面反射器包括多个琢面，多个琢面中的每个琢面都包括反射表面。多个琢面的第一子集的每个琢面的反射表面限定第一连续表面的对应部分，并且被配置为在第一方向上反射入射辐射束的对应第一部分以提供反射辐射束的第一部分。多个琢面的第二子集的每个琢面的反射表面限定第二连续表面的对应部分，并且被配置为在第二方向上反射入射辐射束的对应第二部分以提供反射辐射束的第二部分。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119404138A
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN202380048444.X
申请日：2023-07-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/00
Abstract: 通过将少量的第一气体引入到包含光学元件的真空腔室中来减少在用于产生EUV辐射的系统中的一个或更多个反射型光学元件的反射率的劣化，其中第一气体与诸如CDA或XCDA之类的初始气体分离。可以将第一气体添加到诸如氢气之类的另一气体流中。
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公开(公告)号：CN105940349B
公开(公告)日：2020-01-17
申请号：CN201480074178.9
申请日：2014-12-19
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·F·A·厄尔林斯 , N·A·J·M·克里曼斯 , A·J·J·范迪杰西尔多克 , R·M·霍夫斯特拉 , O·F·J·努德曼 , T·N·费姆 , J·B·P·范斯库特 , J-C·王 , K·W·张
Abstract: 一种琢面反射器(32,32”)，用于接收入射辐射束(2)并引导反射辐射束至目标。琢面反射器包括多个琢面，多个琢面中的每个琢面都包括反射表面。多个琢面的第一子集的每个琢面的反射表面限定第一连续表面的对应部分，并且被配置为在第一方向上反射入射辐射束的对应第一部分以提供反射辐射束的第一部分。多个琢面的第二子集的每个琢面的反射表面限定第二连续表面的对应部分，并且被配置为在第二方向上反射入射辐射束的对应第二部分以提供反射辐射束的第二部分。
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公开(公告)号：CN115380441A
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：CN202180027686.1
申请日：2021-03-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种用于光学放大器系统的气体混合物控制系统，包括：输入端，被配置为流体连接到该光学放大器系统以接收气体混合物；输出端，被配置为流体连接到该光学放大器系统，以向该光学放大器系统提供经修饰的气体混合物；以及该输入端和该输出端之间的捕集结构。该捕集结构被配置为与通过该输入端从该光学放大器系统接收到的该气体混合物相互作用。该捕集结构包括捕集表面，气体混合物跨过该捕集表面。该捕集表面限定了外层，该外层具有由至少为100的粗糙度参数R限定的孔隙度。
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公开(公告)号：CN111955058A
公开(公告)日：2020-11-17
申请号：CN201980024259.0
申请日：2019-03-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H05G2/00
Abstract: 一种系统包括空间调制设备，其被配置为与光束相互作用以创建经修改光束，该经修改光束包括沿垂直于该经修改光束的传播方向的方向具有非均一强度的光的空间图案，该光的空间图案包括一个或多个光分量；和目标供应系统，其被配置为向目标区域提供目标，该目标包括目标材料，所述目标材料在处于等离子体状态时发射EUV光。该目标区域与束路径重叠，使得该经修改束中的一个或多个光分量中的至少一些光分量与该目标的一部分进行相互作用。
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公开(公告)号：CN107710031B
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：CN201580068019.2
申请日：2015-11-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种激光产生等离子体极紫外激光源，包括至少一个可变半径反射镜。至少一个可变半径反射镜用于调整主脉冲的在与预脉冲焦面相距指定距离处的光束直径，其中预脉冲将微滴辐射成靶微滴并且主脉冲将靶微滴辐射成等离子体状态以生成极紫外辐射。
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