公开(公告)号：CN110178073A

公开(公告)日：2019-08-27

申请号：CN201780082714.3

申请日：2017-12-04

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： P·M·康克林 ,  C·A·史汀生

IPC: G02B27/42 ,  G02B27/09 ,  H01S3/00 ,  H01S3/10 ,  H05G2/00

Abstract: 用于极紫外(EUV)光源的系统包括：光生成系统，该光生成系统被配置为将一个或多个光束发射到光束路径上；一个或多个光学放大器，该一个或多个放大器中的每一个包括光束路径上的增益介质，每个增益介质被配置为放大一个或多个光束以产生一个或多个放大光束；以及一个或多个衍射光学元件，该衍射光学元件处于光学路径上，其中，一个或多个衍射光学元件中的每一个具有多个焦距，并且衍射光学元件中的每个焦距与特定偏振状态相关联。

公开(公告)号：CN115398757A

公开(公告)日：2022-11-25

申请号：CN202180027214.6

申请日：2021-03-10

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： R·罗基斯基 ,  P·M·康克林 ,  C·A·斯廷森 ,  A·A·沙夫甘斯 ,  C·J·莱本伯格

IPC: H01S3/23 ,  H01S3/223 ,  H01S3/00 ,  H01S3/10

Abstract: 提供了用于激光束沿公共光束路径进行双通道放大的系统、设备和方法。示例方法可以包括生成第一激光束和第二激光束。随后，示例方法可以包括沿公共光束路径，执行第一激光束和第二激光束的双通道放大。在一些方面，第一激光束可以包括第一波长，第二激光束可以包括与第一波长不同的第二波长。