公开(公告)号：CN117806136A

公开(公告)日：2024-04-02

申请号：CN202410142547.9

申请日：2016-09-30

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 陶业争 ,  D·J·W·布朗 ,  A·A·沙夫甘斯 ,  P·P·达斯

IPC: G03F7/20 ,  G02B27/10 ,  G02F1/33

Abstract: 用于光刻工具的光源包括：被配置为发出第一光束和第二光束的源，第一光束具有第一波长，并且第二光束具有第二波长，第一波长和第二波长不同；放大器，被配置为将第一光束和第二光束放大，以分别产生第一放大光束和第二放大光束；以及光源与放大器之间的光学隔离器，光学隔离器包括：多个二向色光学元件以及两个二向色光学元件之间的光学调制器。

公开(公告)号：CN108351529A

公开(公告)日：2018-07-31

申请号：CN201680064410.X

申请日：2016-09-30

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 陶业争 ,  D·J·W·布朗 ,  A·A·沙夫甘斯 ,  P·P·达斯

IPC: G02B27/10 ,  H01S3/02 ,  H05G2/00 ,  G02B27/40 ,  G03F1/22

CPC classification number: H05G2/008 ,  H01S3/0064 ,  H01S3/2232 ,  H01S3/2308 ,  H01S3/2391 ,  H05G2/003

Abstract: 用于光刻工具的光源包括：被配置为发出第一光束和第二光束的源，第一光束具有第一波长，并且第二光束具有第二波长，第一波长和第二波长不同；放大器，被配置为将第一光束和第二光束放大，以分别产生第一放大光束和第二放大光束；以及光源与放大器之间的光学隔离器，光学隔离器包括：多个二向色光学元件以及两个二向色光学元件之间的光学调制器。