公开(公告)号：CN1127087C

公开(公告)日：2003-11-05

申请号：CN99105560.8

申请日：1999-04-12

Applicant: 阿尔卑斯电气株式会社

Inventor： 佐藤俊彦 ,  岩崎纯 ,  池上正克 ,  小林政美 ,  横山雅春

IPC: G11B21/21 ,  G03G15/04

CPC classification number: G03F9/00 ,  G11B5/3103 ,  G11B5/313 ,  G11B5/3166 ,  G11B5/3173 ,  G11B5/3903 ,  G11B5/488

Abstract: 在面积很大的透光部(5A)内设置校准键(6)。通过这种方法，为了对准位置，即使将曝光用掩模(4)上下、左右移动，滑块条(1)的薄膜元件(3)均能恰当地进入上述透光部(5A)内，可以容易地将曝光用掩模(4)的透光部(5A)与滑块条(1)的薄膜元件(3)的位置对准。

公开(公告)号：CN1235351A

公开(公告)日：1999-11-17

申请号：CN99105560.8

申请日：1999-04-12

Applicant: 阿尔卑斯电气株式会社

Inventor： 佐藤俊彦 ,  岩崎纯 ,  池上正克 ,  小林政美 ,  横山雅春

IPC: G11B21/21 ,  G03G15/04

CPC classification number: G03F9/00 ,  G11B5/3103 ,  G11B5/313 ,  G11B5/3166 ,  G11B5/3173 ,  G11B5/3903 ,  G11B5/488

Abstract: 在面积很大的透光部5A内设置校准键(标记)6。通过这种方法,为了对准位置,即使将曝光用掩模4上下、左右移动,滑块条1的薄膜元件3均能恰当地进入上述透光部5A内,可以容易地将曝光用掩模4的透光部5A与滑块条1的薄膜元件3的位置对准。