一种平面凸点式无金属切割封装工艺及其封装结构

    公开(公告)号:CN106158742A

    公开(公告)日:2016-11-23

    申请号:CN201610763616.3

    申请日:2016-08-30

    Abstract: 本发明公开了一种平面凸点式无金属切割封装工艺及其封装结构,属于半导体制造领域。步骤如下:1)取金属基板;2)在金属基板正面、背面各自贴上干膜层;3)部分干膜层去掉;4)在金属基板上准备形成的基岛、连筋、引脚区域的正面镀上正面金属层,连筋处镀银;5)去除干膜层,漏出蚀刻区;6)半蚀刻,在金属基板上形成凹陷的半蚀刻区域,形成基岛及引脚;7)芯片植入;8)打线;9)包封,后固化;10)在再次贴干膜层;11)去除金干膜层;12)在金属基板背面对不被干膜覆盖的区域进行全蚀刻,使基岛和引脚凸出塑封体表面;13)去除干膜层;14)形成管脚金属层;15)切割。它可以实现可靠性高,刀具磨损低的优点。

    一种平面凸点式无金属切割封装工艺及其封装结构

    公开(公告)号:CN106158742B

    公开(公告)日:2021-04-20

    申请号:CN201610763616.3

    申请日:2016-08-30

    Abstract: 本发明公开了一种平面凸点式无金属切割封装工艺及其封装结构,属于半导体制造领域。步骤如下:1)取金属基板;2)在金属基板正面、背面各自贴上干膜层;3)部分干膜层去掉;4)在金属基板上准备形成的基岛、连筋、引脚区域的正面镀上正面金属层,连筋处镀银;5)去除干膜层,漏出蚀刻区;6)半蚀刻,在金属基板上形成凹陷的半蚀刻区域,形成基岛及引脚;7)芯片植入;8)打线;9)包封,后固化;10)在再次贴干膜层;11)去除金干膜层;12)在金属基板背面对不被干膜覆盖的区域进行全蚀刻,使基岛和引脚凸出塑封体表面;13)去除干膜层;14)形成管脚金属层;15)切割。它可以实现可靠性高,刀具磨损低的优点。

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