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公开(公告)号：CN108465700A
公开(公告)日：2018-08-31
申请号：CN201810205349.7
申请日：2018-03-13
Applicant: 重庆大学
Abstract: 本发明公开一种获得均匀组织和织构的溅射靶材用钽板轧制方法，按以下步骤进行：对钽板采用多道次异步轧制，每道次完成后，将钽板相对于其进给方向水平旋转90°，并将钽板的两个轧制面互换，整个轧制过程中钽板的水平旋转方向一致。通过异步轧制，结合每道次旋转90°，且每道次互换轧制面的方式对钽板进行塑性变形，制备出的高纯钽溅射靶材的组织、织构分布更为均匀，维氏硬度较高且平均，结合退火处理将得到均匀分布的晶粒，这样的钽板可应用于电子器件、半导体等溅射膜领域。
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公开(公告)号：CN105441846A
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201610042110.3
申请日：2016-01-22
Applicant: 重庆大学
Abstract: 本发明公开一种靶材用高纯钽板的热处理方法，将钽板靶坯进行塑性变形后，将其于800℃～900℃条件下恒温热处理60min～90min，取出进行第一次淬火；再于1200℃～1300℃条件下恒温热处理60min～90min，取出进行第二次淬火，得到高纯钽板靶材成品。采用本发明的方法，通过对钽板靶坯进行低温退火、第一次淬火、高温退火和第二次淬火，能细化靶材的晶粒，优化组织，因而能获得性能符合要求和质量稳定的高纯钽板溅射靶材。
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公开(公告)号：CN108465700B
公开(公告)日：2020-09-08
申请号：CN201810205349.7
申请日：2018-03-13
Applicant: 重庆大学
Abstract: 本发明公开一种获得均匀组织和织构的溅射靶材用钽板轧制方法，按以下步骤进行：对钽板采用多道次异步轧制，每道次完成后，将钽板相对于其进给方向水平旋转90°，并将钽板的两个轧制面互换，整个轧制过程中钽板的水平旋转方向一致。通过异步轧制，结合每道次旋转90°，且每道次互换轧制面的方式对钽板进行塑性变形，制备出的高纯钽溅射靶材的组织、织构分布更为均匀，维氏硬度较高且平均，结合退火处理将得到均匀分布的晶粒，这样的钽板可应用于电子器件、半导体等溅射膜领域。
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公开(公告)号：CN105441846B
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：CN201610042110.3
申请日：2016-01-22
Applicant: 重庆大学
Abstract: 本发明公开一种靶材用高纯钽板的热处理方法，将钽板靶坯进行塑性变形后，将其于800℃～900℃条件下恒温热处理60min～90min，取出进行第一次淬火；再于1200℃～1300℃条件下恒温热处理60min～90min，取出进行第二次淬火，得到高纯钽板靶材成品。采用本发明的方法，通过对钽板靶坯进行低温退火、第一次淬火、高温退火和第二次淬火，能细化靶材的晶粒，优化组织，因而能获得性能符合要求和质量稳定的高纯钽板溅射靶材。
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