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公开(公告)号:CN110382446B
公开(公告)日:2022-09-30
申请号:CN201780087715.7
申请日:2017-10-30
Applicant: 通用电气公司
Abstract: 本文公开了用于在硅基衬底(14)上形成烧结粘合涂层(64)的方法和由该方法形成的制品(50)。该方法包括:在硅基衬底(14)上涂覆粘合涂层浆料,干燥硅基衬底上的粘合涂层浆料,形成干粘合涂层(44),以及在氧化气氛中烧结该干粘合涂层(44),在硅基衬底(14)上形成烧结粘合涂层(64)。粘合涂层浆料包含粘合涂层流体载体中的粘合涂层修补材料。制品(50)包含硅基衬底(14)、在硅基衬底(14)上形成的烧结粘合涂层(64)以及在烧结粘合涂层(64)上形成的烧结环境屏障涂层(EBC)(66)。烧结粘合涂层(64)包含硅基相和硅基相的氧化物。
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公开(公告)号:CN110382446A
公开(公告)日:2019-10-25
申请号:CN201780087715.7
申请日:2017-10-30
Applicant: 通用电气公司
Abstract: 本文公开了用于在硅基衬底(14)上形成烧结粘合涂层(64)的方法和由该方法形成的制品(50)。该方法包括:在硅基衬底(14)上涂覆粘合涂层浆料,干燥硅基衬底上的粘合涂层浆料,形成干粘合涂层(44),以及在氧化气氛中烧结该干粘合涂层(44),在硅基衬底(14)上形成烧结粘合涂层(64)。粘合涂层浆料包含粘合涂层流体载体中的粘合涂层修补材料。制品(50)包含硅基衬底(14)、在硅基衬底(14)上形成的烧结粘合涂层(64)以及在烧结粘合涂层(64)上形成的烧结环境屏障涂层(EBC)(66)。烧结粘合涂层(64)包含硅基相和硅基相的氧化物。
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公开(公告)号:CN114575933A
公开(公告)日:2022-06-03
申请号:CN202111356342.3
申请日:2021-11-16
Applicant: 通用电气公司
Abstract: 本文公开了在硅基基底上形成烧结补片的方法。该方法包括:在硅基基底上施加补片浆料;对硅基基底上的补片浆料进行干燥,形成干燥的补片材料;以及在氧化气氛中对干燥的补片材料进行烧结,在硅基基底上形成烧结补片。补片浆料包含补片材料,所述补片材料包含在流体载体中的硅酸盐。
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