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公开(公告)号:CN117607560A
公开(公告)日:2024-02-27
申请号:CN202311587874.7
申请日:2023-11-24
Applicant: 西安微电子技术研究所
Abstract: 本发明提供一种PETEOS膜内电荷的监测方法,包括以下步骤:在N型硅片上生长二氧化硅、淀积PETEOS膜质和金属铝,形成MOS结构电容的类MOS结构;在类MOS结构进行金属铝光刻和金属铝刻蚀工艺,形成类MOS结构电容;对类MOS结构电容进行C‑V测试,得到PETEOS膜质的膜内电荷如固定电荷和可动电荷;本申请采用C‑V等效模型电路,建立PETEOS膜内电荷监控流程,将PETEOS制备为MOS结构,能够简单准确高效的得到PETEOS膜内电荷。