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公开(公告)号:CN111613531A
公开(公告)日:2020-09-01
申请号:CN202010456314.8
申请日:2020-05-26
Applicant: 西安微电子技术研究所
IPC: H01L21/329 , H01L21/225 , H01L29/861 , H01L29/868
Abstract: 本发明公开了一种提高二极管开关速度的方法,属于微电子制作领域。本发明的提高二极管开关速度的方法,在硅片背面进行铂扩散,即在800~1100℃、惰性气体下退火30~120min,二极管的反向恢复时间在IF=1.0A、VR=30V时,可控制在20~80ns,在IF=25A、VR=160V时,可控制在25~100ns,本发明通过掺铂控制少子寿命,本发明的方法制造的硅基半导体分立器件具有开关速度快、漏电流小、可靠性高的特点。