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公开(公告)号:CN105810657A
公开(公告)日:2016-07-27
申请号:CN201610036191.6
申请日:2016-01-20
Applicant: 英飞凌科技股份有限公司
IPC: H01L23/498 , H01L21/48
CPC classification number: H01L23/3128 , H01L21/52 , H01L21/563 , H01L23/145 , H01L23/3185 , H01L23/49822 , H01L23/66 , H01L24/20 , H01L2223/6677 , H01L2224/12105 , H01L2224/16227 , H01L2924/18162 , H01L2924/3511 , H05K1/0271 , H05K1/181 , H01L21/4857 , H01L23/49866 , H01L23/49894
Abstract: 本发明涉及具有高频电介质和热机械缓冲的芯片载体层压体。一种用于承载经包封的电子芯片(102)的芯片载体(100),其中芯片载体(100)包括形成为多个电气绝缘结构(104)和多个电气传导结构(106)的叠层的层压结构,以及被配置用于电气和机械耦合经包封的电子芯片(102)的层压结构的暴露表面处的芯片耦合区域(108),其中一个电气绝缘结构(104)被配置为由与高频信号的低损传输兼容的材料制成的高频电介质(110),并且其中另一个电气绝缘结构(104)和一个电气传导结构(106)中的至少一个被配置为用于缓冲热学诱导的机械负载的热机械缓冲(112)。
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公开(公告)号:CN109119399B
公开(公告)日:2022-05-17
申请号:CN201810650999.2
申请日:2018-06-22
Applicant: 英飞凌科技股份有限公司
IPC: H01L23/498
Abstract: 本发明公开了包括包含空隙的再分布层焊盘的电子器件。一种电子器件,包括焊料球、包括开口的电介质层以及包括与焊料球连接的RDL焊盘的再分布层(RDL),该RDL焊盘包括至少一个空隙,该空隙至少部分地设置在RDL焊盘的在电介质层的开口的横向外侧的区域中。
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公开(公告)号:CN105810657B
公开(公告)日:2019-03-15
申请号:CN201610036191.6
申请日:2016-01-20
Applicant: 英飞凌科技股份有限公司
IPC: H01L23/498 , H01L21/48
Abstract: 本发明涉及具有高频电介质和热机械缓冲的芯片载体层压体。一种用于承载经包封的电子芯片(102)的芯片载体(100),其中芯片载体(100)包括形成为多个电气绝缘结构(104)和多个电气传导结构(106)的叠层的层压结构,以及被配置用于电气和机械耦合经包封的电子芯片(102)的层压结构的暴露表面处的芯片耦合区域(108),其中一个电气绝缘结构(104)被配置为由与高频信号的低损传输兼容的材料制成的高频电介质(110),并且其中另一个电气绝缘结构(104)和一个电气传导结构(106)中的至少一个被配置为用于缓冲热学诱导的机械负载的热机械缓冲(112)。
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公开(公告)号:CN109119399A
公开(公告)日:2019-01-01
申请号:CN201810650999.2
申请日:2018-06-22
Applicant: 英飞凌科技股份有限公司
IPC: H01L23/498
Abstract: 本发明公开了包括包含空隙的再分布层焊盘的电子器件。一种电子器件,包括焊料球、包括开口的电介质层以及包括与焊料球连接的RDL焊盘的再分布层(RDL),该RDL焊盘包括至少一个空隙,该空隙至少部分地设置在RDL焊盘的在电介质层的开口的横向外侧的区域中。
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