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公开(公告)号：CN109870808A
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201711254537.0
申请日：2017-12-01
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供一种具有光学屈光度的近眼显示镜片、一种用于近眼显示的视力矫正装置及近眼显示装置，至少包含一层光栅结构，所述光栅结构的光栅结构参数中的一个、两个或多个以改变光场相位为目的随位置变化，所述具有光学屈光度的近眼显示镜片还包括至少一个用于矫正视力的曲面衬底。利用光栅结构实现虚拟三维景物的显示，利用曲面衬底进行视力矫正，直接将视力矫正衬底整合到一个镜片组件中，使之在构建三维近眼显示装置时，能获得和普通三维近眼显示装置一样简洁的结构，视力缺陷认识佩戴该近眼三维显示装置和普通视力正常的人佩戴普通近眼三维显示装置的体验相似，舒适自然。
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公开(公告)号：CN109870809A
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201711254538.5
申请日：2017-12-01
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种具有光学屈光度的近眼显示镜片、一种用于近眼显示设备的视力矫正装置及近眼显示装置，至少包含一层光栅结构，所述光栅结构的参数中的一个、两个或多个以改变光场相位为目的随位置变化，且所述光栅结构具有成像、屈光矫正功能。本发明创造性的通过光栅的整体结构设计，使光栅结构同时具备虚拟3D景物的显示及视力矫正的功能，使得具有视力缺陷的人士可以无需佩戴眼镜就可以直接使用近眼显示设备，体验的舒适性和便利性大大提高，具有较高的商业价值和社会价值。
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公开(公告)号：CN108333655A
公开(公告)日：2018-07-27
申请号：CN201810385935.4
申请日：2018-04-26
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B5/00
CPC classification number: G02B5/003
Abstract: 本发明涉及一种偏振不敏感电磁吸收结构及制备方法，该偏振不敏感电磁吸收结构包括：金属光栅层，具有光栅凹槽；非金属填充介质，设置于所述光栅凹槽内；该制备方法包括如下步骤：S1：提供在其上形成有金属平面层的基底；S2：在所述金属平面层上形成光栅凹槽；S3：在所述光栅凹槽内填充非金属填充介质。本发明的偏振不敏感电磁吸收结构及制备方法通过在金属光栅层上形成光栅凹槽，并在光栅凹槽内设置非金属填充介质，从而使其结构更为简单，提高了吸收效率，且针对不同偏振光的入射情况，均有较好的吸收效果。
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公开(公告)号：CN208044193U
公开(公告)日：2018-11-02
申请号：CN201721655435.5
申请日：2017-12-01
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本实用新型提供一种近眼显示镜片、视力矫正装置及近眼显示装置，至少包含一层光栅结构，所述光栅结构的光栅结构参数中的一个、两个或多个以改变光场相位为目的随位置变化，所述具有光学屈光度的近眼显示镜片还包括至少一个用于矫正视力的曲面衬底。利用光栅结构实现虚拟三维景物的显示，利用曲面衬底进行视力矫正，直接将视力矫正衬底整合到一个镜片组件中，使之在构建三维近眼显示装置时，能获得和普通三维近眼显示装置一样简洁的结构，视力缺陷认识佩戴该近眼三维显示装置和普通视力正常的人佩戴普通近眼三维显示装置的体验相似，舒适自然。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN207992559U
公开(公告)日：2018-10-19
申请号：CN201721655433.6
申请日：2017-12-01
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本实用新型公开了一种近眼显示镜片、视力矫正装置及近眼显示装置，至少包含一层光栅结构，所述光栅结构的参数中的一个、两个或多个以改变光场相位为目的随位置变化，且所述光栅结构具有成像、屈光矫正功能。本实用新型创造性的通过光栅的整体结构设计，使光栅结构同时具备虚拟3D景物的显示及视力矫正的功能，使得具有视力缺陷的人士可以无需佩戴眼镜就可以直接使用近眼显示设备，体验的舒适性和便利性大大提高，具有较高的商业价值和社会价值。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN208488562U
公开(公告)日：2019-02-12
申请号：CN201820611147.8
申请日：2018-04-26
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B5/00
Abstract: 本实用新型涉及一种偏振不敏感电磁吸收结构，该偏振不敏感电磁吸收结构包括：金属光栅层，具有光栅凹槽；非金属填充介质，设置于所述光栅凹槽内；所述光栅凹槽在金属光栅层上呈周期性布置，其周期不大于500nm；所述光栅凹槽在所述金属光栅层上的占空比为0.4-0.8；所述光栅凹槽的高度为50-400nm；所述偏振不敏感电磁吸收结构所接收的光的偏振角度为0°-45°；所述光栅凹槽呈条状；所述金属光栅层为一维金属光栅。本实用新型的偏振不敏感电磁吸收结构通过在金属光栅层上形成光栅凹槽，并在光栅凹槽内设置非金属填充介质，从而使其结构更为简单，提高了吸收效率，且针对不同偏振光的入射情况，均有较好的吸收效果。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN114754847A
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202210373599.8
申请日：2022-04-11
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种智能车载称重管理系统，其包括硬件部分和软件部分，硬件部分包括：传感器单元，传感器单元包括用于检测倾斜度的水平度传感器和用于检测车辆行驶速度的加速度传感器；应变计，应变计用于检测车辆的应力应变；软件部分，包括；数据采集模块，数据采集模块用于对传感器单元和应变计上检测到的车辆数据进行实时采集；数据处理模块，数据处理模块用于对采集的车辆数据进行处理，得到车辆的动态载重。本发明智能车载称重管理系统通过硬件部分和软件部分相互配合，集成化程度高，可以实现对车辆的动态称重，并且有效保证称重精准度。
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公开(公告)号：CN113299803A
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN202110657401.4
申请日：2021-06-11
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本申请提供一种Mi cro LED芯片单体器件的制备方法、显示模块及显示装置，该微米发光二极管(M i cro‑LED)芯片的制备方法包括:将蓝光外延片制作成Mi cro‑LED晶粒阵列结构；在Mi cro‑LED晶粒侧面及凹槽内沉积绝缘层；在Mi cro‑LED晶粒阵列表面沉积电流扩展层；在Mi cro‑LED晶粒阵列外围沉积两圈电极作为阳极与阴极，其中内圈电极置于电流扩展层之上，外圈电极置于N型GaN之上，所有晶粒共用阳极与阴极。该方式利用氧化物对阵列结构进行绝缘与钝化，降低了刻蚀工艺带来的侧壁损伤问题以及漏电流问题；利用高透过率的电流扩展层全覆盖P型GaN，降低P型GaN电流扩展能力差，电流积聚问题，同时可实现特定区域内的Mi cro‑LED晶粒的同步调控，并且解决了电极挡光的问题，增加了发光面积，有效提高了发光效率。
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公开(公告)号：CN110614055A
公开(公告)日：2019-12-27
申请号：CN201910915519.5
申请日：2019-09-26
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本申请提供了一种多胶路自动配胶系统，所述的系统包括多个用于储存胶水的胶水储存箱、用于储存固化剂的固化剂桶、用于混合胶水和固化剂的搅拌桶，多个所述的胶水储存箱分别通过注胶管道连通至所述的搅拌桶，所述的固化剂桶通过一固化剂管道连通至所述的搅拌桶。本申请的多胶路自动配胶系统减小了人体与化工原料接触的可能性，更加安全可靠。
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公开(公告)号：CN113130296A
公开(公告)日：2021-07-16
申请号：CN202110300393.8
申请日：2021-03-22
Applicant: 苏州大学
IPC: H01L21/02
Abstract: 本发明公开了一种六方氮化硼上生长氮化镓的方法，采用化学气相沉积法，在铜箔上生长得到六方氮化硼；降温处理使其表面出现连续且均匀的褶皱；将铜箔上具有褶皱的六方氮化硼转移到其它衬底上作为生长氮化镓的插入层；利用氧等离子体处理六方氮化硼褶皱；采用金属有机化学气相沉积法，生长低V/III比氮化镓成核层；采用金属有机化学气相沉积法，生长高V/III比氮化镓层。本发明采用氧等离子体处理六方氮化硼褶皱，在六方氮化硼褶皱处形成缺陷和原子台阶，以六方氮化硼褶皱边缘为成核点，侧向生长形成完整连续的氮化镓薄膜。侧向生长的过程也减少了外延层中的位错，进一步提高了氮化镓的晶体质量，具有很强的实用性。
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