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公开(公告)号：CN105619819A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201610090876.9
申请日：2016-02-18
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提出一种基于基底层的三维成型装置，包括基底层以及基材成型机构、曝光机构、支撑机构及剥离机构，基材成型机构包括分离液喷射装置及用于盛放感光材料的容置槽，分离液喷射装置喷射分离液至基底层下方表面以形成分离型涂层，之后涂覆感光材料层，基底层、分离型涂层与感光材料层依次成型形成基材，基材被反复依次运送至基材成型机构、支撑机构及剥离机构，控制基材成型机构、曝光机构与剥离机构的对应位置，可以使得三维成型装置同时进行基材成型、曝光、剥离中的两个或三个步骤，基材成型、曝光与剥离动作同时反复进行，提升了工作效率，适用于三维实体的大幅面、高效率、高精度和低成本等制作要求。
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公开(公告)号：CN108333655A
公开(公告)日：2018-07-27
申请号：CN201810385935.4
申请日：2018-04-26
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B5/00
CPC classification number: G02B5/003
Abstract: 本发明涉及一种偏振不敏感电磁吸收结构及制备方法，该偏振不敏感电磁吸收结构包括：金属光栅层，具有光栅凹槽；非金属填充介质，设置于所述光栅凹槽内；该制备方法包括如下步骤：S1：提供在其上形成有金属平面层的基底；S2：在所述金属平面层上形成光栅凹槽；S3：在所述光栅凹槽内填充非金属填充介质。本发明的偏振不敏感电磁吸收结构及制备方法通过在金属光栅层上形成光栅凹槽，并在光栅凹槽内设置非金属填充介质，从而使其结构更为简单，提高了吸收效率，且针对不同偏振光的入射情况，均有较好的吸收效果。
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公开(公告)号：CN105619819B
公开(公告)日：2017-12-29
申请号：CN201610090876.9
申请日：2016-02-18
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/135 , B29C64/268 , B29C64/245 , B33Y30/00
Abstract: 本发明提出一种基于基底层的三维成型装置，包括基底层以及基材成型机构、曝光机构、支撑机构及剥离机构，基材成型机构包括分离液喷射装置及用于盛放感光材料的容置槽，分离液喷射装置喷射分离液至基底层下方表面以形成分离型涂层，之后涂覆感光材料层，基底层、分离型涂层与感光材料层依次成型形成基材，基材被反复依次运送至基材成型机构、支撑机构及剥离机构，控制基材成型机构、曝光机构与剥离机构的对应位置，可以使得三维成型装置同时进行基材成型、曝光、剥离中的两个或三个步骤，基材成型、曝光与剥离动作同时反复进行，提升了工作效率，适用于三维实体的大幅面、高效率、高精度和低成本等制作要求。
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公开(公告)号：CN105538726A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201610090877.3
申请日：2016-02-18
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提出一种基于薄膜基底的三维成型装置及方法，该装置包括送料机构、曝光机构、支撑机构及分离机构，通过送料机构将感光材料层送入相应的曝光区域中，由曝光机构对感光材料层进行曝光，实现对每层指定图形的固化生成，每层图形叠加在一起，在支撑机构上形成所需零件，而分离过程与曝光过程同步进行，随着分离机构向右移动，在张力的作用下，薄膜基底材料层逐渐与支撑机构上已成型零件的顶面分离，而未被曝光的感光材料层也同时被剥离于支撑机构外，曝光和分离动作同时进行，可以提升工作效率，适用于三维实体的大幅面、高效率、高精度和低成本等制作要求。
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公开(公告)号：CN107404834A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201710753880.3
申请日：2017-08-29
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: H05K9/00
CPC classification number: H05K9/0088
Abstract: 一种电磁波吸收结构，包括基底层、纳米阵列单元、第一金属层、第一介质层和第二金属层，纳米阵列单元设置在基底层上；第一金属层设置在纳米阵列单元上；第一介质层设置在第一金属层上；第二金属层设置在第一介质层上。本发明的电磁波吸收结构能实现正向可见光宽波段高效率的吸收，而且可以实现反向较高效率吸收。本发明还涉及一种电磁波吸收结构的制作方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN208488562U
公开(公告)日：2019-02-12
申请号：CN201820611147.8
申请日：2018-04-26
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B5/00
Abstract: 本实用新型涉及一种偏振不敏感电磁吸收结构，该偏振不敏感电磁吸收结构包括：金属光栅层，具有光栅凹槽；非金属填充介质，设置于所述光栅凹槽内；所述光栅凹槽在金属光栅层上呈周期性布置，其周期不大于500nm；所述光栅凹槽在所述金属光栅层上的占空比为0.4-0.8；所述光栅凹槽的高度为50-400nm；所述偏振不敏感电磁吸收结构所接收的光的偏振角度为0°-45°；所述光栅凹槽呈条状；所述金属光栅层为一维金属光栅。本实用新型的偏振不敏感电磁吸收结构通过在金属光栅层上形成光栅凹槽，并在光栅凹槽内设置非金属填充介质，从而使其结构更为简单，提高了吸收效率，且针对不同偏振光的入射情况，均有较好的吸收效果。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN205522528U
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201620127090.5
申请日：2016-02-18
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本实用新型提出一种三维成型装置，包括基底层以及基材成型机构、曝光机构、支撑机构及剥离机构，基材成型机构包括分离液喷射装置及用于盛放感光材料的容置槽，分离液喷射装置喷射分离液至基底层下方表面以形成分离型涂层，之后涂覆感光材料层，基底层、分离型涂层与感光材料层依次成型形成基材，基材被反复依次运送至基材成型机构、支撑机构及剥离机构，控制基材成型机构、曝光机构与剥离机构的对应位置，可以使得三维成型装置同时进行基材成型、曝光、剥离中的两个或三个步骤，基材成型、曝光与剥离动作同时反复进行，提升了工作效率，适用于三维实体的大幅面、高效率、高精度和低成本等制作要求。
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公开(公告)号：CN207252141U
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201721088138.7
申请日：2017-08-29
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: H05K9/00
Abstract: 一种电磁波吸收结构，包括基底层、纳米阵列单元、第一金属层、第一介质层和第二金属层，纳米阵列单元设置在基底层上；第一金属层设置在纳米阵列单元上；第一介质层设置在第一金属层上；第二金属层设置在第一介质层上。本实用新型的电磁波吸收结构能实现正向可见光宽波段高效率的吸收，而且可以实现反向较高效率吸收。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN112180593A
公开(公告)日：2021-01-05
申请号：CN201910584788.8
申请日：2019-07-01
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B27/01
Abstract: 本发明涉及图像显示技术，特别涉及用于呈现图像的装置和包含该装置的用于实现增强现实显示的系统。按照本发明一个方面的用于呈现图像的装置包含：光波导镜片；以及设置于光波导镜片表面的第一～第四光学功能结构，其中，第三和第四光学功能结构位于光波导镜片的表面的两侧，第一和第二光学功能结构位于第三和第四光学功能结构之间，其中，包含左眼图像和右眼图像的光线经第一光学功能结构耦合进入光波导镜片内，经全反射到达第二光学功能结构，并且在第二光学功能结构的作用下，光线的左眼图像和右眼图像在光波导镜片内经全反射分别到达第三和第四光学功能结构并在所述第三光学功能结构和第四光学功能结构的作用下从所述光波导镜片出射。
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公开(公告)号：CN112269271A
公开(公告)日：2021-01-26
申请号：CN202011536267.4
申请日：2020-12-23
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B30/27
Abstract: 本发明提供一种裸眼三维显示装置，其包括：显示部件，其包括由多个显示单元阵列排布而成的显示单元阵列；和，视角调控器件，其包括由多个视角调控单元阵列排布而成的视角调控单元阵列，其中每个视角调控单元与多个显示单元相对应，所述显示单元被分为多组，每组显示单元发出的光线通过视角调控器件被汇聚为一个视角，不同组显示单元发出的光线通过视角调控器件被汇聚为不同视角，每组显示单元中的各个显示单元对应不同视角调控单元，每个视角调控单元对应的多个显示单元被分到不同组中。这样，可以实现在不同的视角下观看到的不同的三维显示效果，可再现全视差图像。
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