公开(公告)号：CN116666298A

公开(公告)日：2023-08-29

申请号：CN202310114890.8

申请日：2023-02-15

Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社

Inventor： 出村健介 ,  中村聡 ,  神谷将也 ,  中村美波

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种可抑制在基板的周边产生不必要的冻结的基板处理装置。实施方式的基板处理装置包括：载置台，能够绕中心轴旋转；多个保持部，设置于所述载置台且保持基板；冷却部，能够向所述载置台与所述基板之间的空间供给冷却气体；以及液体供给部，能够向所述基板的与所述载置台侧为相反侧的面供给液体。在保持所述基板时，所述多个保持部分别沿着所述载置台的面在朝向所述中心轴的方向上移动，从而包围所述基板的周缘、及所述载置台与所述基板之间的空间。

公开(公告)号：CN117732798A

公开(公告)日：2024-03-22

申请号：CN202310990420.8

申请日：2023-08-08

Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社 ,  铠侠股份有限公司

Inventor： 出村健介 ,  中村聡 ,  神谷将也 ,  中村美波 ,  髙居康介 ,  田边万奈 ,  梅泽华织

IPC: B08B7/00 ,  B08B3/02 ,  B08B3/10 ,  B08B3/08

Abstract: 实施方式的基板处理装置及基板的处理方法是使形成于基板的表面的液膜冻结而形成冻结膜，来将附着于所述基板的表面的污染物收进所述冻结膜中的基板处理装置。所述基板处理装置包括：载置部，能够使所述基板旋转；液体供给部，具有喷嘴，能够经由所述喷嘴向包含所述污染物的所述冻结膜供给液体；移动部，能够使与所述基板的表面平行的方向上的所述喷嘴的位置移动；以及控制器，能够对利用所述载置部进行的所述基板的旋转、利用所述液体供给部进行的所述液体的供给、及利用所述移动部进行的所述喷嘴的移动进行控制。