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公开(公告)号:CN102164250B
公开(公告)日:2014-04-30
申请号:CN201110046568.3
申请日:2011-02-17
Applicant: 美商豪威科技股份有限公司
IPC: H04N5/374 , H04N5/3745 , H04N5/367
CPC classification number: H04N5/361 , H01L27/1461 , H01L27/14634 , H01L27/1464 , H04N5/3745
Abstract: 本发明公开一种能够进行黑电平校准的成像系统,该成像系统包括成像像素阵列、至少一个黑基准像素以及周边电路。该成像像素阵列包括各自经耦合以捕获图像数据的多个有效像素。该黑基准像素经耦合以产生用于校准该图像数据的黑基准信号。光透射层设置于包括该成像系统的像素阵列管芯的第一面上,且覆盖至少该成像像素阵列和黑基准像素。光屏蔽层设置于该像素阵列管芯的该第一面上,且覆盖光透射层的一部分和该黑基准像素而不覆盖该成像像素阵列。
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公开(公告)号:CN102164250A
公开(公告)日:2011-08-24
申请号:CN201110046568.3
申请日:2011-02-17
Applicant: 美商豪威科技股份有限公司
IPC: H04N5/374 , H04N5/3745 , H04N5/367
CPC classification number: H04N5/361 , H01L27/1461 , H01L27/14634 , H01L27/1464 , H04N5/3745
Abstract: 本发明公开一种能够进行黑电平校准的成像系统,该成像系统包括成像像素阵列、至少一个黑基准像素以及周边电路。该成像像素阵列包括各自经耦合以捕获图像数据的多个有效像素。该黑基准像素经耦合以产生用于校准该图像数据的黑基准信号。光透射层设置于包括该成像系统的像素阵列管芯的第一面上,且覆盖至少该成像像素阵列和黑基准像素。光屏蔽层设置于该像素阵列管芯的该第一面上,且覆盖光透射层的一部分和该黑基准像素而不覆盖该成像像素阵列。
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