公开(公告)号：CN112661877A

公开(公告)日：2021-04-16

申请号：CN202010976510.8

申请日：2020-09-16

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司

Inventor： 宋旸 ,  朴钟根 ,  E·阿卡德 ,  李明琦 ,  刘聪 ,  J·W·萨克莱 ,  P·特雷福纳斯三世

IPC: C08F8/00 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 公开了一种聚合物，其包含：含有叔酯酸不稳定基团的第一重复单元；以及具有式(1)的第二重复单元：其中R1至R5是如本文所提供的；R2和R3不一起形成环；每个A独立地是卤素、羧酸或酯、硫醇、直链或支链的C1‑20烷基、单环或多环的C3‑20环烷基、单环或多环的C3‑20氟环烯基、单环或多环的C3‑20杂环烷基、单环或多环的C6‑20芳基、或单环或多环的C4‑20杂芳基，其中的每一个是取代或未取代的；并且m是0至4的整数。

公开(公告)号：CN112661877B

公开(公告)日：2023-12-22

申请号：CN202010976510.8

申请日：2020-09-16

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司

Inventor： 宋旸 ,  朴钟根 ,  E·阿卡德 ,  李明琦 ,  刘聪 ,  J·W·萨克莱 ,  P·特雷福纳斯三世

IPC: C08F8/00 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 公开了一种聚合物，其包含：含有叔酯酸不稳定基团的第一重复单元；以及具有式(1)的第二重复单元： 其中R1至R5是如本文所提供的；R2和R3不一起形成环；每个A独立地是卤素、羧酸或酯、硫醇、直链或支链的C1‑20烷基、单环或多环的C3‑20环烷基、单环或多环的C3‑20氟环烯基、单环或多环的C3‑20杂环烷基、单环或多环的C6‑20芳基、或单环或多环的C4‑20杂芳基，其中的每一个是取代或未取代的；并且m是0至4的整数。

公开(公告)号：CN112011008A

公开(公告)日：2020-12-01

申请号：CN202010418705.0

申请日：2020-05-18

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司

Inventor： J·凯茨 ,  侯希森 ,  李明琦 ,  T·马兰戈尼 ,  E·阿卡德 ,  宋旸

IPC: C08F220/18 ,  C08F220/32 ,  C08F222/40 ,  C08F220/28 ,  G03F7/004

Abstract: 本文公开了包含第一重复单元和第二重复单元的聚合物，其中所述第一重复单元含有酸不稳定基团，并且所述第二重复单元具有式(1)的结构： 其中R1、R2和R3各自独立地是氢、卤素、取代或未取代的C1至C12烷基或C3至C12环烷基，其任选地含有醚基团、羰基、酯基团、碳酸酯基团、胺基团、酰胺基团、脲基团、硫酸酯基团、砜基团、亚砜基团、N-氧化物基团、磺酸酯基团、磺酰胺基团、或其组合、取代或未取代的C6至C14芳基、或C3至C12杂芳基，其中所述取代是卤素、羟基、氰基、硝基、C1至C12烷基、C1至C12卤代烷基、C1至C12烷氧基、C3至C12环烷基、氨基、C2-C6烷酰基、甲酰氨基、取代或未取代的C6至C14芳基、或C3至C12杂芳基；其中R1和R2一起任选地形成环；并且其中n＝1-3。

公开(公告)号：CN113121734B

公开(公告)日：2024-07-30

申请号：CN202011398527.6

申请日：2020-12-02

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司

Inventor： J·K·朴 ,  E·阿卡德 ,  宋旸 ,  C·吴 ,  刘聪 ,  李明琦

IPC: C08F212/14 ,  C08F212/08 ,  C08F220/18 ,  C08F8/00 ,  G03F7/004

Abstract: 公开了一种包含以下的聚合物：第一重复单元，其衍生自包含羟基‑芳基的单体；第二重复单元，其衍生自包含用缩醛或缩酮基团保护的羟基‑芳基的单体；第三重复单元，其衍生自包含脂环族基团的(甲基)丙烯酸酯单体；以及第四重复单元，其衍生自包含酸敏感基团的单体，其中所述第一重复单元、所述第二重复单元、所述第三重复单元以及所述第四重复单元彼此不同。

公开(公告)号：CN113121734A

公开(公告)日：2021-07-16

申请号：CN202011398527.6

申请日：2020-12-02

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司

Inventor： J·K·朴 ,  E·阿卡德 ,  宋旸 ,  C·吴 ,  刘聪 ,  李明琦

IPC: C08F212/14 ,  C08F212/08 ,  C08F220/18 ,  C08F8/00 ,  G03F7/004

Abstract: 公开了一种包含以下的聚合物：第一重复单元，其衍生自包含羟基‑芳基的单体；第二重复单元，其衍生自包含用缩醛或缩酮基团保护的羟基‑芳基的单体；第三重复单元，其衍生自包含脂环族基团的(甲基)丙烯酸酯单体；以及第四重复单元，其衍生自包含酸敏感基团的单体，其中所述第一重复单元、所述第二重复单元、所述第三重复单元以及所述第四重复单元彼此不同。