气体泄漏检查装置及检查方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116412972A

    公开(公告)日:2023-07-11

    申请号:CN202210829926.6

    申请日:2022-07-14

    Abstract: 本发明提供气体泄漏检查装置及检查方法。气体泄漏检查装置包括:腔室,容纳基板;气体供应单元,供应用于加工所述基板的气体;静电卡盘,所述基板在所述腔室内位于所述静电卡盘的上部,且所述静电卡盘与所述基板形成间隔并且形成有所述气体被供应的间隔空间;以及检测单元,至少识别所述气体相对于所述静电卡盘的泄漏位置。

    利用等离子体的基板处理装置和方法

    公开(公告)号:CN117012603A

    公开(公告)日:2023-11-07

    申请号:CN202210469371.9

    申请日:2022-04-28

    Abstract: 提供能够使等离子体的均匀性极大化的基板处理装置和方法。基板处理方法包括:提供基板处理装置,所述基板处理装置包括:处理空间,用于处理基板;以及等离子体生成模块,生成用于处理基板的等离子体,等离子体生成模块包括:多个第一电极,在第一方向上彼此并排地配置;多个第二电极,在与第一方向不同的第二方向上彼此并排地配置;以及阵列,包括与多个第一电极以及多个第二电极连接的多个微等离子体单元;向多个微等离子体单元提供工艺气体,向处理空间提供反应气体;以及通过向第一微等离子体单元提供第一大小的第一能量,并向第二微等离子体单元提供第二能量,来使在第一微等离子体单元和第二微等离子体单元生成的等离子体的自由基量不同。

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