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公开(公告)号:CN117012603A
公开(公告)日:2023-11-07
申请号:CN202210469371.9
申请日:2022-04-28
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01J37/32
Abstract: 提供能够使等离子体的均匀性极大化的基板处理装置和方法。基板处理方法包括:提供基板处理装置,所述基板处理装置包括:处理空间,用于处理基板;以及等离子体生成模块,生成用于处理基板的等离子体,等离子体生成模块包括:多个第一电极,在第一方向上彼此并排地配置;多个第二电极,在与第一方向不同的第二方向上彼此并排地配置;以及阵列,包括与多个第一电极以及多个第二电极连接的多个微等离子体单元;向多个微等离子体单元提供工艺气体,向处理空间提供反应气体;以及通过向第一微等离子体单元提供第一大小的第一能量,并向第二微等离子体单元提供第二能量,来使在第一微等离子体单元和第二微等离子体单元生成的等离子体的自由基量不同。
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