公开(公告)号：CN117264629A

公开(公告)日：2023-12-22

申请号：CN202310656726.X

申请日：2023-06-05

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 闵庚石 ,  沈铉宗 ,  文商珉 ,  朴宣柱 ,  郑桓 ,  李娜沇

IPC: C09K13/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/311

Abstract: 本发明提供一种蚀刻气体组合物，其包括至少两种C3或C4有机氟化合物和氟化钼，并且所述至少两种C3或C4有机氟化合物是异构体。

公开(公告)号：CN116895507A

公开(公告)日：2023-10-17

申请号：CN202310279399.0

申请日：2023-03-21

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 朴宣柱 ,  沈铉宗 ,  文商珉 ,  闵庚石 ,  郑桓 ,  李娜沇

IPC: H01J37/32 ,  H01J37/20

Abstract: 提供了一种基板加工装置，该基板加工装置包括：腔室，在该腔室内部具有加工空间；支撑单元，其布置在加工空间中，在支撑单元上放置基板，并且该支撑单元在其内部包括标签材料层，该标签材料层包括标签材料；等离子体源，其被配置为从加工空间中的加工气体生成等离子体；以及测量装置，其被配置为检测标签材料，其中，当支撑单元被蚀刻到大于或等于第一深度的深度时，标签材料层被暴露。

公开(公告)号：CN116891746A

公开(公告)日：2023-10-17

申请号：CN202310340720.1

申请日：2023-03-31

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 闵庚石 ,  沈铉宗 ,  文商珉 ,  朴宣柱 ,  郑桓 ,  李娜沇

IPC: C09K13/00 ,  H01L21/3065

Abstract: 一种蚀刻气体组合物，包括碳数C3或碳数C4的至少两种有机氟化合物，其中所述至少两种有机氟化合物彼此异构。