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公开(公告)号:CN102351169B
公开(公告)日:2013-11-27
申请号:CN201110192086.9
申请日:2005-04-29
Applicant: 纳米系统公司
CPC classification number: H01L29/0673 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/162 , C01B32/18 , C30B11/12 , C30B25/00 , C30B29/06 , C30B29/60 , C30B29/605 , H01L21/0237 , H01L21/02381 , H01L21/02422 , H01L21/02521 , H01L21/02573 , H01L21/02603 , H01L21/0262 , H01L21/02645 , H01L21/02653 , H01L29/0665 , H01L29/66477 , H01L29/78 , H01L29/7854 , H01L2924/0002 , Y10S438/962 , Y10S977/742 , Y10S977/743 , Y10S977/843 , Y10S977/891 , H01L2924/00
Abstract: 本发明涉及纳米线生长和获取的体系和方法。在一个实施方案中,提供纳米线生长和掺杂的方法,包括使用硅前体的组合的用于外延取向纳米线生长的方法。在本发明的又一个方面中,提供通过牺牲生长层的使用提高纳米线质量的方法。在本发明的另一个方面中,提供用于将纳米线从一个衬底转移到另一个衬底的方法。
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公开(公告)号:CN101010780B
公开(公告)日:2012-07-25
申请号:CN200580021904.1
申请日:2005-04-29
Applicant: 纳米系统公司
IPC: H01L21/20
CPC classification number: H01L29/0673 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/162 , C01B32/18 , C30B11/12 , C30B25/00 , C30B29/06 , C30B29/60 , C30B29/605 , H01L21/0237 , H01L21/02381 , H01L21/02422 , H01L21/02521 , H01L21/02573 , H01L21/02603 , H01L21/0262 , H01L21/02645 , H01L21/02653 , H01L29/0665 , H01L29/66477 , H01L29/78 , H01L29/7854 , H01L2924/0002 , Y10S438/962 , Y10S977/742 , Y10S977/743 , Y10S977/843 , Y10S977/891 , H01L2924/00
Abstract: 本发明涉及纳米线生长和获取的体系和方法。在一个实施方案中,提供纳米线生长和掺杂的方法,包括使用硅前体的组合的用于外延取向纳米线生长的方法。在本发明的又一个方面中,提供通过牺牲生长层的使用提高纳米线质量的方法。在本发明的另一个方面中,提供用于将纳米线从一个衬底转移到另一个衬底的方法。
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公开(公告)号:CN101010780A
公开(公告)日:2007-08-01
申请号:CN200580021904.1
申请日:2005-04-29
Applicant: 纳米系统公司
IPC: H01L21/20
CPC classification number: H01L29/0673 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/162 , C01B32/18 , C30B11/12 , C30B25/00 , C30B29/06 , C30B29/60 , C30B29/605 , H01L21/0237 , H01L21/02381 , H01L21/02422 , H01L21/02521 , H01L21/02573 , H01L21/02603 , H01L21/0262 , H01L21/02645 , H01L21/02653 , H01L29/0665 , H01L29/66477 , H01L29/78 , H01L29/7854 , H01L2924/0002 , Y10S438/962 , Y10S977/742 , Y10S977/743 , Y10S977/843 , Y10S977/891 , H01L2924/00
Abstract: 本发明涉及纳米线生长和获取的体系和方法。在一个实施方案中,提供纳米线生长和掺杂的方法,包括使用硅前体的组合的用于外延取向纳米线生长的方法。在本发明的又一个方面中,提供通过牺牲生长层的使用提高纳米线质量的方法。在本发明的另一个方面中,提供用于将纳米线从一个衬底转移到另一个衬底的方法。
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公开(公告)号:CN1863954B
公开(公告)日:2013-07-31
申请号:CN200480028982.X
申请日:2004-08-04
Applicant: 纳米系统公司
CPC classification number: H01L29/0665 , B82Y10/00 , H01L29/0673 , H01L29/0676 , H01L29/068 , H01L29/42384 , H01L29/66742 , H01L29/78681 , H01L29/78696 , H01L33/06 , H01L33/24 , H01L51/0048 , H01L51/0545 , H01L2924/0002 , Y10T428/2913 , H01L2924/00
Abstract: 本发明涉及一种制备纳米线-材料复合体的系统和方法。提供衬底,其具有与至少一个表面的一部分粘附的纳米线。在该部分上沉积材料,以形成纳米线-材料复合体。该方法还任选包括将纳米线-材料复合体与衬底分离,以形成独立式纳米线复合体。任选将独立式纳米线复合体进一步加工成为电子衬底。使用其中描述的方法可以制备各种电子衬底。例如,可以由纳米线-材料复合体的多个、叠层制备多色发光二极管,每个复合体层发射不同波长的光。
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公开(公告)号:CN102351169A
公开(公告)日:2012-02-15
申请号:CN201110192086.9
申请日:2005-04-29
Applicant: 纳米系统公司
CPC classification number: H01L29/0673 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/162 , C01B32/18 , C30B11/12 , C30B25/00 , C30B29/06 , C30B29/60 , C30B29/605 , H01L21/0237 , H01L21/02381 , H01L21/02422 , H01L21/02521 , H01L21/02573 , H01L21/02603 , H01L21/0262 , H01L21/02645 , H01L21/02653 , H01L29/0665 , H01L29/66477 , H01L29/78 , H01L29/7854 , H01L2924/0002 , Y10S438/962 , Y10S977/742 , Y10S977/743 , Y10S977/843 , Y10S977/891 , H01L2924/00
Abstract: 本发明涉及纳米线生长和获取的体系和方法。在一个实施方案中,提供纳米线生长和掺杂的方法,包括使用硅前体的组合的用于外延取向纳米线生长的方法。在本发明的又一个方面中,提供通过牺牲生长层的使用提高纳米线质量的方法。在本发明的另一个方面中,提供用于将纳米线从一个衬底转移到另一个衬底的方法。
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公开(公告)号:CN1863954A
公开(公告)日:2006-11-15
申请号:CN200480028982.X
申请日:2004-08-04
Applicant: 纳米系统公司
CPC classification number: H01L29/0665 , B82Y10/00 , H01L29/0673 , H01L29/0676 , H01L29/068 , H01L29/42384 , H01L29/66742 , H01L29/78681 , H01L29/78696 , H01L33/06 , H01L33/24 , H01L51/0048 , H01L51/0545 , H01L2924/0002 , Y10T428/2913 , H01L2924/00
Abstract: 本发明涉及一种制备纳米线-材料复合体的系统和方法。提供衬底,其具有与至少一个表面的一部分粘附的纳米线。在该部分上沉积材料,以形成纳米线-材料复合体。该方法还任选包括将纳米线-材料复合体与衬底分离,以形成独立式纳米线复合体。任选将独立式纳米线复合体进一步加工成为电子衬底。使用其中描述的方法可以制备各种电子衬底。例如,可以由纳米线-材料复合体的多个、叠层制备多色发光二极管,每个复合体层发射不同波长的光。
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