基于临时键合技术的Micro-LED芯片结构的制备方法

    公开(公告)号:CN115332400B

    公开(公告)日:2024-06-21

    申请号:CN202210960225.6

    申请日:2022-08-11

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明涉及一种基于临时键合技术的Micro‑LED芯片结构的制备方法,包括以下步骤:步骤S1:在图形转移工艺前,将减薄后的蓝光/绿光外延片晶圆键合至临时衬底形成临时键合片;步骤S2:在临时键合片上制备独立的Micro‑LED芯片结构;步骤S3:在Micro‑LED芯片结构上设置结构保护层;步骤S4:剥离临时衬底,并清除减薄后的蓝光/绿光外延片衬底表面临时键合残留物;步骤S5:划裂减薄后的蓝光/绿光外延片为单颗Micro‑LED芯片,并剥离结构保护层。本发明有效的保护了Micro‑LED芯片结构的完整行,极大提升Micro‑LED芯片制备良率。

    基于Micro-LED芯片键合技术的车载透明显示器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN113937126B

    公开(公告)日:2024-09-20

    申请号:CN202111203147.7

    申请日:2021-10-15

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明涉及一种基于Micro‑LED芯片键合技术的车载透明显示器件,其特征在于,包括透明基板,若干列电极,带镂空孔阵列的透明介质层,行电极、Micro‑LED芯片和控制模块;所述列电极平行设置于所述透明基板表面,所述透明介质层设置于所述列电极阵列表面,所示行电极平行设置于所述介质层表面,与所述列电极绝缘且垂直交错;所述镂空阵列设置在行电极与列电极之间;所述镂空孔中还设有金属Pad1和金属Pad2;所述Micro‑LED芯片的阴极键合在暴露镂空处的金属Pad1上,所述Micro‑LED芯片的阳极键合在暴露镂空处的金属Pad2上;所述控制模块与行电级和列电级分别连接。本发明Micro‑LED显示尺寸小,分辨率、对比度和亮度高,应用于车载显示可有效地提高驾驶的安全性和方便程度。

    适用于微米级芯片低温共晶键合的微凸点结构及制备方法

    公开(公告)号:CN113937205A

    公开(公告)日:2022-01-14

    申请号:CN202111203096.8

    申请日:2021-10-15

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明涉及一种适用于微米级芯片低温共晶键合的微凸点结构,包括从下至上依次设置的半导体衬底、图形化芯片、UBM金属层、第一金属层、第二金属层、金属凸点;所述半导体衬底、图形化芯片、UBM金属层、第一金属层外侧还设有介质层;所述第二金属层的上表面截面呈倒梯形微结构,设置于所述第一金属层表面;所述金属凸点填充于所述截面呈倒梯形微结构内,并与所述第二金属层形成所述第二合金层。本发明有效改善微凸点质量,提高微凸点器件最大耐受温度和机械强度。

    基于Micro-LED芯片键合技术的车载透明显示器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN113937126A

    公开(公告)日:2022-01-14

    申请号:CN202111203147.7

    申请日:2021-10-15

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明涉及一种基于Micro‑LED芯片键合技术的车载透明显示器件,其特征在于,包括透明基板,若干列电极,带镂空孔阵列的透明介质层,行电极、Micro‑LED芯片和控制模块;所述列电极平行设置于所述透明基板表面,所述透明介质层设置于所述列电极阵列表面,所示行电极平行设置于所述介质层表面,与所述列电极绝缘且垂直交错;所述镂空阵列设置在行电极与列电极之间;所述镂空孔中还设有金属Pad1和金属Pad2;所述Micro‑LED芯片的阴极键合在暴露镂空处的金属Pad1上,所述Micro‑LED芯片的阳极键合在暴露镂空处的金属Pad2上;所述控制模块与行电级和列电级分别连接。本发明Micro‑LED显示尺寸小,分辨率、对比度和亮度高,应用于车载显示可有效地提高驾驶的安全性和方便程度。

    一种金属凸点阵列的可控制备及彩色Micro-LED键合方法

    公开(公告)号:CN117410399A

    公开(公告)日:2024-01-16

    申请号:CN202311425745.8

    申请日:2023-10-31

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明涉及一种金属凸点阵列的可控制备及彩色Micro‑LED键合方法,采用电镀方法制备金属凸点阵列,通过改变电流密度调控金属凸点表面形貌,通过阴极旋转和电镀参数提高金属凸点高度均匀性;采用两次光刻,使电镀种子层的电连接桥梁沉积在第一光刻掩膜层上,并用第二光刻掩膜层定义金属凸点大小和形状,形成大小、形状和电学特性均匀的金属凸点阵列;采用上述制备方法分别在CMOS驱动基板和红光、绿光、蓝光三种Micro‑LED芯片制备具有不同高度的金属凸点阵列,通过三次键合分别把红光、绿光、蓝光三种Micro‑LED芯片键合在CMOS驱动基板上,形成彩色Micro‑LED显示阵列。该方法可在单位面积内实现更高的像素密度,提高Micro‑LED显示器的画质和生产效率。

    适用于微米级芯片低温共晶键合的微凸点结构及制备方法

    公开(公告)号:CN113937205B

    公开(公告)日:2023-12-29

    申请号:CN202111203096.8

    申请日:2021-10-15

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明涉及一种适用于微米级芯片低温共晶键合的微凸点结构,包括从下至上依次设置的半导体衬底、图形化芯片、UBM金属层、第一金属层、第二金属层、金属凸点;所述半导体衬底、图形化芯片、UBM金属层、第一金属层外侧还设有介质层;所述第二金属层的上表面截面呈倒梯形微结构,设置于所述第一金属层表面;所述金属凸点填充于所述截面呈倒梯形微结构内,并与所述第二金属层形成所述第二合金层。本发明有效改善微凸点质量,提高微凸点器件最大耐受温度和机械强度。

    基于临时键合技术的Micro-LED芯片结构的制备方法

    公开(公告)号:CN115332400A

    公开(公告)日:2022-11-11

    申请号:CN202210960225.6

    申请日:2022-08-11

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明涉及一种基于临时键合技术的Micro‑LED芯片结构的制备方法,包括以下步骤:步骤S1:在图形转移工艺前,将减薄后的蓝光/绿光外延片晶圆键合至临时衬底形成临时键合片;步骤S2:在临时键合片上制备独立的Micro‑LED芯片结构;步骤S3:在Micro‑LED芯片结构上设置结构保护层;步骤S4:剥离临时衬底,并清除减薄后的蓝光/绿光外延片衬底表面临时键合残留物;步骤S5:划裂减薄后的蓝光/绿光外延片为单颗Micro‑LED芯片,并剥离结构保护层。本发明有效的保护了Micro‑LED芯片结构的完整行,极大提升Micro‑LED芯片制备良率。

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