一种金属凸点阵列的可控制备及彩色Micro-LED键合方法

    公开(公告)号:CN117410399A

    公开(公告)日:2024-01-16

    申请号:CN202311425745.8

    申请日:2023-10-31

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明涉及一种金属凸点阵列的可控制备及彩色Micro‑LED键合方法,采用电镀方法制备金属凸点阵列,通过改变电流密度调控金属凸点表面形貌,通过阴极旋转和电镀参数提高金属凸点高度均匀性;采用两次光刻,使电镀种子层的电连接桥梁沉积在第一光刻掩膜层上,并用第二光刻掩膜层定义金属凸点大小和形状,形成大小、形状和电学特性均匀的金属凸点阵列;采用上述制备方法分别在CMOS驱动基板和红光、绿光、蓝光三种Micro‑LED芯片制备具有不同高度的金属凸点阵列,通过三次键合分别把红光、绿光、蓝光三种Micro‑LED芯片键合在CMOS驱动基板上,形成彩色Micro‑LED显示阵列。该方法可在单位面积内实现更高的像素密度,提高Micro‑LED显示器的画质和生产效率。

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