一种高精度频域低相干光干涉式表面轮廓仪及测量方法

    公开(公告)号:CN117781852A

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202311823834.8

    申请日:2023-12-27

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明涉及一种高精度频域低相干光干涉式表面轮廓仪及测量方法。装置包括低相干光源、2x2光纤耦合器、参考臂、探测臂、二维纳米线性位移台、光谱仪和上位机。探测臂高度可调,用于将探测光光斑聚焦于待测样件表面。二维纳米线性位移台带动待测样件精确移动,使探测光遍历待测样件表面,在此过程中光谱仪将采集到一序列单频干涉信号。利用能量重心法对各单频信号周期数进行频率估计,精确计算出待测样件表面各点相对于参考镜的位置信息,以构建出样件的表面轮廓。本发明所提出的方法为表面轮廓测量提供了一种高精度、无接触、抗干扰性强的无损检测手段。

    一种双折射晶体的厚度与群折射率同步测量装置及方法

    公开(公告)号:CN118392824A

    公开(公告)日:2024-07-26

    申请号:CN202410310683.4

    申请日:2024-03-19

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明提出一种双折射晶体的厚度与群折射率同步测量装置及方法,包括光源、光纤耦合器、参考臂、探测臂组成的光学干涉装置,还包括光谱仪和上位机;所述干涉装置在测量双折射晶体的厚度与群折射率时,将晶体的厚度与群折射率调制生成干涉光信号,具体为:光源的光经光纤耦合器分为参考光和探测光,参考光经参考臂反射而重新进入到光纤耦合器中;探测光经探测臂聚焦在被测样品表面并发生背面反射后经光路传输至光纤耦合器,与反射回的参考光在光纤耦合器处汇合并发生干涉,形成的干涉光信号经过光纤耦合器传输后经光谱仪传输至上位机用于测量分析;本发明为双折射晶体光速参数测量提供了一种高精度、快速且简单的测量方法。

    基于共路传输的宽带光干涉型粗糙度测量装置及方法

    公开(公告)号:CN118111360A

    公开(公告)日:2024-05-31

    申请号:CN202311409723.2

    申请日:2023-10-27

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明涉及一种基于共路传输的宽带光干涉型粗糙度测量装置,包括超辐射发光二极管、1×2光纤耦合器、光纤准直器、立方体分光镜、参考臂、探测臂、光谱仪和上位机;准直器、分光镜、参考臂和探测臂组成干涉装置并安装于可调安装架上,位移台上设置被测对象;光纤耦合器同一侧的两接口连接超辐射发光二极管和光谱仪,另一侧的单输出口连接干涉装置;超辐射发光二极管辐射出宽带光经光纤耦合器传输,再经准直器、分光镜分成参考光与探测光,分别进入参考臂和探测臂,分别经过参考镜和被测对象表面反射后汇合并发生干涉,经过光纤耦合器进入光谱仪,进而进入线阵CMOS相机中成像并传输至上位机。该装置及方法有利于提高非接触式粗糙度测量的精确度。

    基于共路传输的宽带光干涉型粗糙度测量装置

    公开(公告)号:CN221077581U

    公开(公告)日:2024-06-04

    申请号:CN202322900040.9

    申请日:2023-10-27

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本实用新型涉及一种基于共路传输的宽带光干涉型粗糙度测量装置,包括超辐射发光二极管、1×2光纤耦合器、光纤准直器、立方体分光镜、参考臂、探测臂、光谱仪和上位机;准直器、分光镜、参考臂和探测臂组成干涉装置并安装于可调安装架上,位移台上设置被测对象;光纤耦合器同一侧的两接口连接超辐射发光二极管和光谱仪,另一侧的单输出口连接干涉装置;超辐射发光二极管辐射出宽带光经光纤耦合器传输,再经准直器、分光镜分成参考光与探测光,分别进入参考臂和探测臂,经过参考镜和被测对象表面反射后汇合并发生干涉,经过光纤耦合器进入光谱仪,进而进入线阵CMOS相机中成像并传输至上位机。该装置有利于提高非接触式粗糙度测量的精确度,且易用性好。

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