掺杂了二氧化硅的CdSe量子点及发光二极管器件的制作方法

    公开(公告)号:CN111952470B

    公开(公告)日:2024-04-16

    申请号:CN202010828294.2

    申请日:2020-08-18

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明涉及一种掺杂了二氧化硅的CdSe量子点及发光二极管器件的制作方法,首先在ITO玻璃上,在经过对ITO导电玻璃的清洁和臭氧处理之后,利用旋涂工艺在ITO薄膜之上制备PEDOT:PSS层,而后在依次旋涂得到TFB层、CdSe量子点发光层、ZnO电子传输层以及二氧化硅电极,其中的量子点层中特别使用了经过硅烷偶联剂KH550和十八酸改性后的二氧化硅纳米颗粒进行掺杂,最终形成一种掺杂了二氧化硅的CdSe量子点及发光二极管器件。本发明薄膜通过二氧化硅纳米颗粒对CdSe掺杂,保证了在量子点的间隙之间被填充,减少了电子空穴通过该间隙进行复合的可能,在保证载流子浓度的情况下,提高了器件的性能。

    基于Au等离子机元增强的叠层量子点发光二极管制备方法

    公开(公告)号:CN111952469A

    公开(公告)日:2020-11-17

    申请号:CN202010828284.9

    申请日:2020-08-18

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明涉及一种基于Au等离子机元增强的叠层量子点发光二极管制备方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤S1:制备金纳米颗粒;步骤S2:利用金纳米颗粒对空穴传输层材料进行掺杂;步骤S3:采用旋涂成膜工艺和蒸发镀膜技术制备叠层结构Au等离子机元增强的量子点发光二极管。本发明通过在空穴传输层中掺杂金纳米颗粒,使得空穴传输层的迁移率提升,同时利用等离子机元增强原理提高器件的发光强度,使得电子和空穴在量子点层实现了有效的复合,抑制了俄歇复合的发生,同时降低了开启电压,提高了在同等电压下的发光强度、EQE,使叠层量子点发光二极管的性能大大提高。

    基于Au等离子机元增强的叠层量子点发光二极管制备方法

    公开(公告)号:CN111952469B

    公开(公告)日:2024-04-12

    申请号:CN202010828284.9

    申请日:2020-08-18

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明涉及一种基于Au等离子机元增强的叠层量子点发光二极管制备方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤S1:制备金纳米颗粒;步骤S2:利用金纳米颗粒对空穴传输层材料进行掺杂;步骤S3:采用旋涂成膜工艺和蒸发镀膜技术制备叠层结构Au等离子机元增强的量子点发光二极管。本发明通过在空穴传输层中掺杂金纳米颗粒,使得空穴传输层的迁移率提升,同时利用等离子机元增强原理提高器件的发光强度,使得电子和空穴在量子点层实现了有效的复合,抑制了俄歇复合的发生,同时降低了开启电压,提高了在同等电压下的发光强度、EQE,使叠层量子点发光二极管的性能大大提高。

    掺杂了二氧化硅的CdSe量子点及发光二极管器件的制作方法

    公开(公告)号:CN111952470A

    公开(公告)日:2020-11-17

    申请号:CN202010828294.2

    申请日:2020-08-18

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明涉及一种掺杂了二氧化硅的CdSe量子点及发光二极管器件的制作方法,首先在ITO玻璃上,在经过对ITO导电玻璃的清洁和臭氧处理之后,利用旋涂工艺在ITO薄膜之上制备PEDOT:PSS层,而后在依次旋涂得到TFB层、CdSe量子点发光层、ZnO电子传输层以及二氧化硅电极,其中的量子点层中特别使用了经过硅烷偶联剂KH550和十八酸改性后的二氧化硅纳米颗粒进行掺杂,最终形成一种掺杂了二氧化硅的CdSe量子点及发光二极管器件。本发明薄膜通过二氧化硅纳米颗粒对CdSe掺杂,保证了在量子点的间隙之间被填充,减少了电子空穴通过该间隙进行复合的可能,在保证载流子浓度的情况下,提高了器件的性能。

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