公开(公告)号：CN101712652B

公开(公告)日：2015-05-20

申请号：CN200910205019.9

申请日：2009-09-27

Applicant: 田村化研株式会社

Inventor： 成濑章一郎 ,  中波一贵 ,  清田达也

IPC: C07D233/64 ,  C23F11/00 ,  H05K1/02

Abstract: 本发明提供对于有机酸水溶液的溶解性高、由处理液的pH的变化或蒸发等引起的咪唑类化合物的析出得到抑制、对于印刷布线板或软蚀刻处理导致的杂质离子的混入也可稳定地继续使用的适合于表面处理剂的咪唑化合物。本发明提供以下述通式表示的新的咪唑化合物。R1表示氢、碳数1～11的直链或支链的烷基。R2相互独立地表示碳数1～11的直链或支链的烷氧基。R3相互独立地表示碳数1～11的直链或支链的烷基、氯或溴。m为1～4的整数，n为0～4的整数。

公开(公告)号：CN1654709A

公开(公告)日：2005-08-17

申请号：CN200510008161.6

申请日：2005-02-07

Applicant: 田村化研株式会社

Inventor： 三浦一郎 ,  中波一贵 ,  林田喜任 ,  大野隆生

IPC: C23C22/48 ,  H05K3/24

CPC classification number: C23F11/149 ,  C23F11/10 ,  H05K3/282 ,  H05K2203/124

Abstract: 一种表面处理剂，施用到印刷线路板的金属膜上，形成一层防锈膜。用于金属的表面处理剂包括含沸点大于或等于170℃的有机酸以及一种或多种选自咪唑基化合物和苯并咪唑基化合物的水溶液。

公开(公告)号：CN101712652A

公开(公告)日：2010-05-26

申请号：CN200910205019.9

申请日：2009-09-27

Applicant: 田村化研株式会社

Inventor： 成濑章一郎 ,  中波一贵 ,  清田达也

IPC: C07D233/64 ,  C23F11/00 ,  H05K1/02

Abstract: 本发明提供对于有机酸水溶液的溶解性高、由处理液的pH的变化或蒸发等引起的咪唑类化合物的析出得到抑制、对于印刷布线板或软蚀刻处理导致的杂质离子的混入也可稳定地继续使用的适合于表面处理剂的咪唑化合物。本发明提供以下述通式表示的新的咪唑化合物。R1表示氢、碳数1～11的直链或支链的烷基。R2相互独立地表示碳数1～11的直链或支链的烷氧基。R3相互独立地表示碳数1～11的直链或支链的烷基、氯或溴。m为1～4的整数，n为0～4的整数。