新的咪唑化合物、表面处理剂、印刷电路基板及其制造方法

    公开(公告)号:CN101712652A

    公开(公告)日:2010-05-26

    申请号:CN200910205019.9

    申请日:2009-09-27

    Abstract: 本发明提供对于有机酸水溶液的溶解性高、由处理液的pH的变化或蒸发等引起的咪唑类化合物的析出得到抑制、对于印刷布线板或软蚀刻处理导致的杂质离子的混入也可稳定地继续使用的适合于表面处理剂的咪唑化合物。本发明提供以下述通式表示的新的咪唑化合物。R1表示氢、碳数1~11的直链或支链的烷基。R2相互独立地表示碳数1~11的直链或支链的烷氧基。R3相互独立地表示碳数1~11的直链或支链的烷基、氯或溴。m为1~4的整数,n为0~4的整数。

    咪唑化合物、表面处理剂、印刷电路基板及其制造方法

    公开(公告)号:CN101712652B

    公开(公告)日:2015-05-20

    申请号:CN200910205019.9

    申请日:2009-09-27

    Abstract: 本发明提供对于有机酸水溶液的溶解性高、由处理液的pH的变化或蒸发等引起的咪唑类化合物的析出得到抑制、对于印刷布线板或软蚀刻处理导致的杂质离子的混入也可稳定地继续使用的适合于表面处理剂的咪唑化合物。本发明提供以下述通式表示的新的咪唑化合物。R1表示氢、碳数1~11的直链或支链的烷基。R2相互独立地表示碳数1~11的直链或支链的烷氧基。R3相互独立地表示碳数1~11的直链或支链的烷基、氯或溴。m为1~4的整数,n为0~4的整数。

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