一种空气间隙的三维互连结构

    公开(公告)号:CN102623433B

    公开(公告)日:2014-09-24

    申请号:CN201210077870.X

    申请日:2012-03-22

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明公开了属于三维集成技术领域的一种空气间隙的三维互连结构。该三维互连结构由贯穿整个芯片的通孔和通孔内的柱状导电体组成,通孔与柱状导电体之间为环形间隙;柱状导电体在突出于芯片的上下表面至少有一面有支撑头;芯片上下表面至少有一面在通孔的边缘刻蚀有释放槽结构,连通通孔及芯片表面。本发明空气间隙的三维互连结构,通过悬空导电体结构避免使用绝缘层、扩散阻挡层和电镀仔晶层,从而降低三维互连的制造难度,并通过将绝缘层替换为空气层,减小三维互连的高频电容。

    单片集成电容式硅基微传声器及其制作工艺

    公开(公告)号:CN1352515A

    公开(公告)日:2002-06-05

    申请号:CN01140441.8

    申请日:2001-12-07

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 单片集成电容式硅基微传声器及其制作工艺属于硅基微传声器技术领域,其特征在于:上电极振膜在声学孔处有纹槽以大大降低膜的应力,并采用复合膜结构使其膜的张应力和压应力相互抵消,下电极板为用单晶硅衬底制作,在上、下电极间有绝缘层,中间有气隙。复合膜采用多晶硅/氮化硅结构。纹槽共有六种结构。在纹槽间有一系列小的凹形支撑结构,背极背上有一层氮化硅保护层。在形成背极板的单晶硅衬底的上端面集成一个前置CMOS放大电路。背极板厚度可大于膜厚的十倍。它可用各向同性或各向异性腐蚀工艺制成,它具有:机械灵敏度好、频带宽、刚性好、抗电击穿、抗粘连、抗干扰等优点。

    单片集成电容式硅基微传声器及其制作工艺

    公开(公告)号:CN1159950C

    公开(公告)日:2004-07-28

    申请号:CN01140441.8

    申请日:2001-12-07

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 单片集成电容式硅基微传声器及其制作工艺属于硅基微传声器技术领域,其特征在于:下电极为在上端面开有大量声学孔的背极板,上电极为作振膜用的复合式纹膜,纹膜的底部形状与声学孔的形状相对应,构成凹陷的纹槽,纹槽之间有平坦的梁桥;绝缘层夹在纹膜和背极板的上端面之间。复合膜采用多晶硅/氮化硅结构。纹槽共有六种结构。在纹槽间有一系列小的凹形支撑结构,背极板是用单晶硅制成的,在单晶硅的上面集成着一个前置CMOS放大器,在前置CMOS放大器和单晶硅之间有一层氮化硅保护层。背极板厚度可大于膜厚的十倍。它可用各向同性或各向异性腐蚀工艺制成,它具有:机械灵敏度好、频带宽、刚性好、抗电击穿、抗粘连、抗干扰等优点。

    一种空气间隙的三维互连结构

    公开(公告)号:CN102623433A

    公开(公告)日:2012-08-01

    申请号:CN201210077870.X

    申请日:2012-03-22

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明公开了属于三维集成技术领域的一种空气间隙的三维互连结构。该三维互连结构由贯穿整个芯片的通孔和通孔内的柱状导电体组成,通孔与柱状导电体之间为环形间隙;柱状导电体在突出于芯片的上下表面至少有一面有支撑头;芯片上下表面至少有一面在通孔的边缘刻蚀有释放槽结构,连通通孔及芯片表面。本发明空气间隙的三维互连结构,通过悬空导电体结构避免使用绝缘层、扩散阻挡层和电镀仔晶层,从而降低三维互连的制造难度,并通过将绝缘层替换为空气层,减小三维互连的高频电容。

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