大功率快速软恢复二极管SIOD管芯结构

    公开(公告)号:CN1172351A

    公开(公告)日:1998-02-04

    申请号:CN97112472.8

    申请日:1997-06-13

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明属于半导体二极管设计领域。本发明(SIOD)包括阳极区、基区、阴极区以及金属薄膜构成的二个电极。阳极区由P区及多个均匀分布在该P区中的呈圆形的P+区,基区为N区,阴极区由多个条状的N+区,两相邻N+区之间形成窄条状的肖特基区组成。本发明具有更佳反向快速软恢复特性,这种结构的二极管具有更佳的特性参数配合,不但具有较小的反向恢复时间,而且大大改善二极管软度因子。

    大功率快速软恢复二极管管芯结构

    公开(公告)号:CN1044650C

    公开(公告)日:1999-08-11

    申请号:CN97112472.8

    申请日:1997-06-13

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明属于半导体二极管设计领域。本发明(SIOD)包括阳极区、基区、阴极区以及金属薄膜构成的二个电极。阳极区由P区及多个均匀分布在该P区中的呈圆形的P+区,基区为N区,阴极区由多个条状的N+区,两相邻N+区之间形成窄条状的肖特基区组成。本发明具有更佳反向快速软恢复特性,这种结构的二极管具有更佳的特性参数配合,不但具有较小的反向恢复时间,而且大大改善二极管软度因子。

    大功率软恢复隧道二极管管芯结构

    公开(公告)号:CN1044651C

    公开(公告)日:1999-08-11

    申请号:CN97112473.6

    申请日:1997-06-13

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明属于半导体二极管设计领域。本发明(SPBD)包括阳极区、基区、阴极区以及金属层形成两电极。阳极区由P区和均匀分布在P区中的呈圆形的P+区。基区为N区。阴极区由N+区为镶嵌于N基区与N+区欧姆接触层处的N区内的多个凸包形悬浮电位的P+区构成。这种结构的二极管具有优良的反向恢复特性,特别在软度的改善上更加显著。

    大功率软恢复隧道二极管SPBD管芯结构

    公开(公告)号:CN1173046A

    公开(公告)日:1998-02-11

    申请号:CN97112473.6

    申请日:1997-06-13

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明属于半导体二极管设计领域。本发明(SPBD)包括阳极区、基区、阴极区以及金属层形成两电极。阳极区由P区和均匀分布在P区中的呈圆形的P+区。基区为N区。阴极区由N+区及镶嵌于N基区与N+区欧姆接触层处的N区内的多个凸包形悬浮电位的P+区构成。这种结构的二极管具有优良的反向恢复特性,特别在软度的改善上更加显著。

Patent Agency Ranking