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公开(公告)号:CN1172351A
公开(公告)日:1998-02-04
申请号:CN97112472.8
申请日:1997-06-13
Applicant: 清华大学
IPC: H01L29/868
Abstract: 本发明属于半导体二极管设计领域。本发明(SIOD)包括阳极区、基区、阴极区以及金属薄膜构成的二个电极。阳极区由P区及多个均匀分布在该P区中的呈圆形的P+区,基区为N区,阴极区由多个条状的N+区,两相邻N+区之间形成窄条状的肖特基区组成。本发明具有更佳反向快速软恢复特性,这种结构的二极管具有更佳的特性参数配合,不但具有较小的反向恢复时间,而且大大改善二极管软度因子。
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公开(公告)号:CN1044650C
公开(公告)日:1999-08-11
申请号:CN97112472.8
申请日:1997-06-13
Applicant: 清华大学
IPC: H01L29/868 , H01L29/861
Abstract: 本发明属于半导体二极管设计领域。本发明(SIOD)包括阳极区、基区、阴极区以及金属薄膜构成的二个电极。阳极区由P区及多个均匀分布在该P区中的呈圆形的P+区,基区为N区,阴极区由多个条状的N+区,两相邻N+区之间形成窄条状的肖特基区组成。本发明具有更佳反向快速软恢复特性,这种结构的二极管具有更佳的特性参数配合,不但具有较小的反向恢复时间,而且大大改善二极管软度因子。
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