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公开(公告)号：CN104451691A
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN201410686163.X
申请日：2014-11-25
Applicant: 河北工业大学
IPC: C23F3/04
Abstract: 本发明公开了一种适用于低下压力的铜化学机械精抛光液。本发明所述抛光液中包含研磨颗粒、络合剂、氧化剂，表面活性剂、抑菌剂和水，抑菌剂的含量为重量百分比0.001～1％；研磨颗粒含量为重量百分比3～15％；络合剂的含量为重量百分比1～5％；表面活性剂的含量为重量百分比0.01～1％；过氧化氢的含量为重量百分比0.5～3％；用水补足含量至重量百分比100％。本发明抛光液适用于下压力不大于5.516kPa时铜的精抛光，不包含腐蚀抑制剂。
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公开(公告)号：CN102039283B
公开(公告)日：2012-04-18
申请号：CN201010232559.9
申请日：2010-07-21
Applicant: 河北工业大学
IPC: B08B3/08
Abstract: 本发明公开了一种Ti阻挡层材料化学机械抛光后的表面洁净方法，旨在提供一种能够降低Ti阻挡层材料碱性化学机械抛光的后续加工成本，使用方法简单易行，能够提高Ti阻挡层表面质量的方法。配制水溶性表面洁净液：取电阻为18MΩ以上的超纯水边搅拌边加入表面活性剂和FA/O II型螯合剂，搅拌均匀后得pH值为6.5-7.5水溶性表面洁净液；使用洁净液迅速对Ti阻挡层材料采用1000-5000ml/min的大流量在0-0.01大气压的低压力条件下进行抛光清洗；使用稀释后的阻蚀剂溶液迅速对Ti阻挡层材料进行零压力抛光清洗，流量为1000-5000ml/min；用电阻为18MΩ以上的超纯水在零压力、流量为1000-5000ml/min的条件下冲洗Ti阻挡层材料。
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公开(公告)号：CN101912857B
公开(公告)日：2011-12-14
申请号：CN201010232557.X
申请日：2010-07-21
Applicant: 河北工业大学
Abstract: 本发明公开了一种锑化铟晶片碱性化学机械抛光后的表面洁净方法，旨在提供一种能够降低锑化铟晶片碱性化学机械抛光的后续加工成本，使用方法简单易行，能够提高晶片表面平整度和洁净度的方法。取电阻为18MΩ以上的超纯水边搅拌边加入表面活性剂和FA/O II型螯合剂，搅拌均匀后得洁净液；使用洁净液迅速对碱性化学机械抛光后的锑化铟晶片采用1000-5000ml/min的大流量在0-0.01个大气压的低压力条件下抛光清洗至少30s；采用电阻为18MΩ以上的超纯水稀释阻蚀剂，在零压力条件下对清洗后的锑化铟晶片采用大流量抛光清洗至少30s；用电阻为18MΩ以上的超纯水在零压力、大流量的条件下对清洗后的锑化铟晶片冲洗至少30s。
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公开(公告)号：CN107137208B
公开(公告)日：2019-06-14
申请号：CN201710315399.6
申请日：2017-05-08
Applicant: 河北工业大学
Abstract: 本发明公开了一种具有坡路助行功能的助行装置，包括躯干、力感知部件、上平台、底盘和驱动系统；所述躯干包括电池、控制器、联杆、前支架、调节钮、调节杆和支板；所述力感知部件包括下固定板、支撑轴、上固定板、力传感器和直线轴承；所述上平台包括上扶杆、扶手和支撑板；所述底盘包括前轮、底板、后轮支架、阻尼器支架和后轮；所述驱动系统包括锥齿轮支架、阻尼器、蜗轮蜗杆减速器、电机、导电滑环、锥齿轮、锥齿轮轴、链条、链轮和驱动轮轴；本助行装置采用主被动混合驱动系统，可以为使用者在坡路行走时提供辅助力，并且下坡和上坡过程中均由阻尼器提供辅助力，不需要人机接口感知人机交互信息，易于进行人机交互力控制。
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公开(公告)号：CN107137208A
公开(公告)日：2017-09-08
申请号：CN201710315399.6
申请日：2017-05-08
Applicant: 河北工业大学
IPC: A61H3/04
CPC classification number: A61H3/04 , A61H2003/043 , A61H2003/046
Abstract: 本发明公开了一种具有坡路助行功能的助行装置，包括躯干、力感知部件、上平台、底盘和驱动系统；所述躯干包括电池、控制器、联杆、前支架、调节钮、调节杆和支板；所述力感知部件包括下固定板、支撑轴、上固定板、力传感器和直线轴承；所述上平台包括上扶杆、扶手和支撑板；所述底盘包括前轮、底板、后轮支架、阻尼器支架和后轮；所述驱动系统包括锥齿轮支架、阻尼器、蜗轮蜗杆减速器、电机、导电滑环、锥齿轮、锥齿轮轴、链条、链轮和驱动轮轴；本助行装置采用主被动混合驱动系统，可以为使用者在坡路行走时提供辅助力，并且下坡和上坡过程中均由阻尼器提供辅助力，不需要人机接口感知人机交互信息，易于进行人机交互力控制。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106246935A
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：CN201610935771.9
申请日：2016-10-25
Applicant: 河北工业大学
CPC classification number: F16K1/22 , F16K1/2261
Abstract: 本发明涉及一种间歇式硬密封零摩擦蝶阀，包括驱动装置、压盖、下盖、阀体、阀杆和蝶板，驱动装置上设有手轮，阀杆穿过阀体，阀体上下两端安装有压盖和下盖，阀杆上端穿过压盖与驱动装置连接，且阀杆下部穿过蝶板；其特征在于该蝶阀还包括移动式阀座，所述移动式阀座为可沿阀体内壁作轴向移动的圆环状结构，设置在阀体内，在阀体的前端通过螺钉紧固安装有侧体，侧体后端插入移动式阀座的圆环间隙中，移动式阀座与阀体之间及移动式阀座与侧体之间留有移动配合间隙，且移动式阀座与阀体及侧体之间均安装有密封圈；在移动式阀座的外端面与侧体之间安装有弹簧。
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公开(公告)号：CN103505342B
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201310484383.X
申请日：2013-10-16
Applicant: 河北工业大学
Abstract: 本发明公开一种外骨骼式步态康复训练装置，该装置主要包括支架、健肢侧外骨骼系统、健肢侧腋下支撑机构、患肢侧腋下支撑机构和患肢侧外骨骼系统；在健肢侧，应用外骨骼式运动参数检测系统检测健肢运动参数，健肢运动参数检测系统的脚踝部与原地步行系统连接；在患肢侧，应用三自由度的下肢外骨骼系统实现对患者患肢的辅助运动。康复训练时，腋下支撑机构支撑于患者腋下，用以减轻患者下肢负担，腋下支撑机构为左右为对称结构，腋下支撑部位的高度可以调整，以适应不同患者。
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公开(公告)号：CN102979847B
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201210509450.4
申请日：2012-12-03
Applicant: 河北工业大学
IPC: F16F9/53
Abstract: 本发明公开一种旋转式磁流变阻尼器，其特征在于该阻尼器主要包括外壳、前端盖、后端盖、前励磁线圈、后励磁线圈、转子、轴承、密封圈、密封环、隔磁圈和外壳；前、后端盖位于转子两侧，并分别与外壳连接，构成定子；转子与前、后端盖之间分别放置轴承和密封圈，前、后励磁线圈缠绕于前、后端盖内，隔磁圈分别安装于前、后端盖与外壳之间，隔磁圈与外壳及前、后端盖之间分别放置O型密封环；外壳上部开有密封加液孔，在定子与转子之间的空腔内填充磁流变液；所述前、后励磁线圈的缠绕方向相同，两者的尾端串接，首端加载电源，两组励磁线圈构成两条并联的磁通路，产生方向相反的两个磁场，磁通量为单个励磁线圈所产生的磁通量。
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公开(公告)号：CN102039283A
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN201010232559.9
申请日：2010-07-21
Applicant: 河北工业大学
IPC: B08B3/08
Abstract: 本发明公开了一种Ti阻挡层材料化学机械抛光后的表面洁净方法，旨在提供一种能够降低Ti阻挡层材料碱性化学机械抛光的后续加工成本，使用方法简单易行，能够提高Ti阻挡层表面质量的方法。配制水溶性表面洁净液：取电阻为18MΩ以上的超纯水边搅拌边加入表面活性剂和FA/O II型螯合剂，搅拌均匀后得pH值为6.5-7.5水溶性表面洁净液；使用洁净液迅速对Ti阻挡层材料采用1000-5000mL/min的大流量在0-0.01大气压的低压力条件下进行抛光清洗；使用稀释后的阻蚀剂溶液迅速对Ti阻挡层材料进行零压力抛光清洗，流量为1000-5000mL/min；用电阻为18MΩ以上的超纯水在零压力、流量为1000-5000mL/min的条件下冲洗Ti阻挡层材料。
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公开(公告)号：CN107867570B
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN201711343592.7
申请日：2017-12-14
Applicant: 河北工业大学
Abstract: 本发明涉及生产线上一种小规格产品在线并行称重检测装置。本发明包括第一传送装置、分离装置、第一称重传送装置、第二称重传送装置、第一筛选装置、第二筛选装置和第二传送装置。所述第一传送装置位于初始位置，所述分离装置位于所述第一传送装置的末端与其相连，所述第一称重传送装置位于分离装置左侧，其初始端与所述第一传送装置的末端相依，所述第二称重传送装置位于所述分离装置的右端，其初始端与第一称重传送装置的初始端相平齐，所述第一筛选装置位于所述第一称重传送装置的末端与其相连，所述第二筛选装置位于所述第二称重传送装置的末端与其相连，所述第二传送装置位于两个筛选装置之间，且与所述第一传送装置位于一条直线上。
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