公开(公告)号：CN110885636B

公开(公告)日：2023-02-28

申请号：CN201911104662.2

申请日：2019-11-13

Applicant: 河北工业大学

Inventor： 牛新环 ,  崔雅琪 ,  王治 ,  周佳凯 ,  王如 ,  何彦刚

IPC: C09G1/02

Abstract: 本发明公开了一种蓝宝石衬底抛光液，下列组分，按重量百分比计，SiO2粒径70～90nm的1～40％硅溶胶20～50％，LiOH0.1～6％，[C15H15‑190(CH2CH2O)5‑H)]、[C20H15‑190(CH2CH2O)5‑H]与[C4OH15‑190(CH2CH2O)5‑H]复合物聚氧乙烯醚、Oπ‑7[(C10H21‑C6H4‑O‑CH2CH2O)7‑H]、Oπ‑10[(C10H21‑C6H4‑O‑CH2CH2O)10‑H]与聚氧乙烯醚其中之一种1～5％与去离子水混合制得的碱性分散液体。本发明蓝宝石衬底抛光液具有去除速率快、蓝宝石衬底表面粗糙度低、成分简单、成本低、污染小的特点。

公开(公告)号：CN110885636A

公开(公告)日：2020-03-17

申请号：CN201911104662.2

申请日：2019-11-13

Applicant: 河北工业大学

Inventor： 牛新环 ,  崔雅琪 ,  王治 ,  周佳凯 ,  王如 ,  何彦刚

IPC: C09G1/02

Abstract: 本发明公开了一种蓝宝石衬底抛光液，下列组分，按重量百分比计，SiO2粒径70～90nm的1～40％硅溶胶20～50％，LiOH0.1～6％，[C15H15-190(CH2CH2O)5-H)]、[C20H15-190(CH2CH2O)5-H]与[C4OH15-190(CH2CH2O)5-H]复合物聚氧乙烯醚、Oπ-7[(C10H21-C6H4-O-CH2CH2O)7-H]、Oπ-10[(C10H21-C6H4-O-CH2CH2O)10-H]与聚氧乙烯醚其中之一种1～5％与去离子水混合制得的碱性分散液体。本发明蓝宝石衬底抛光液具有去除速率快、蓝宝石衬底表面粗糙度低、成分简单、成本低、污染小的特点。

公开(公告)号：CN104449403B

公开(公告)日：2017-06-23

申请号：CN201410779195.4

申请日：2014-12-16

Applicant: 河北工业大学

Inventor： 牛新环 ,  高宝红 ,  孙鸣 ,  王如 ,  王娟 ,  刘玉岭

IPC: H01L21/306

Abstract: 本发明涉及一种蓝宝石衬底材料的复合碱抛光液,其主要组成成分按重量％计，包括重量浓度2‑50wt％以及粒径15‑150nm的纳米SiO2水溶胶10‑50％、活性剂0.05‑1％，螯合剂0.1‑1％，pH调节剂0.1‑2％，pH调节剂为无机碱和有机碱的混合物构成复合碱。循环使用步骤为，抛光液流量100g/min‑300g/min，抛光压力0‑0.2MPa，抛光转速40‑60rpm，抛光温度30‑40℃。有益效果：抛光液采用复合碱的形式，无机碱的强碱性可有效提高抛光去除速率，有机碱通过不断释放羟基保障抛光液pH的稳定性，保障循环抛光过程中抛光液的化学作用,解决了抛光速率低、效率低的技术问题。

公开(公告)号：CN104449399A

公开(公告)日：2015-03-25

申请号：CN201410685233.X

申请日：2014-11-25

Applicant: 河北工业大学

Inventor： 何彦刚 ,  牛新环 ,  孙鸣 ,  陈国栋 ,  张玉峰 ,  周建伟 ,  刘玉岭

IPC: C09G1/02

CPC classification number: C09G1/02

Abstract: 本发明公开了一种适用于蓝宝石A面的化学机械抛光组合物。本发明组合物由研磨颗粒、络合剂、表面活性剂、抑菌剂、无机碱和水组成；研磨颗粒的含量为重量百分比5～50％；络合剂的含量为重量百分比0.01～10％；表面活性剂的含量为重量百分比0.01～5％；抑菌剂的含量为重量百分比0.001～1％；无机碱的含量为重量百分比0.1～10％；用水补足含量至重量百分比100％。经本发明所述抛光组合物抛光后的A面蓝宝石晶片的去除速率与表面粗糙度效果较好，去除速率从现有的0.4um/h左右提高到1um/h以上，可显著提高生产效率。

公开(公告)号：CN1858133A

公开(公告)日：2006-11-08

申请号：CN200610013979.1

申请日：2006-05-31

Applicant: 河北工业大学

Inventor： 刘玉岭 ,  刘长宇 ,  牛新环 ,  康静业

IPC: C09G1/02 ,  C09G1/04

Abstract: 本发明公开了一种用于存储器硬盘的磁盘基片抛光的纳米SiO2水溶胶为磨料的碱性抛光液。本发明抛光液的成分和重量％比组成如下：螯合剂0.5－10、pH值调节剂0.5－5、硅溶胶50－90、表面活性剂0.5－5、氧化剂0.5－10、去离子水为余量。本发明是在碱性环境下，具有强螯合作用，磨料是粒径小、浓度高、分散性好的二氧化硅水溶胶，抛光过程中以化学作用为主，通过添加螯合剂、活性剂解决了最终表面粗糙度、波纹度和表面缺陷等传统问题。

公开(公告)号：CN110484380A

公开(公告)日：2019-11-22

申请号：CN201910863465.2

申请日：2019-09-12

Applicant: 河北工业大学

Inventor： 高宝红 ,  牛新环 ,  王辰伟 ,  何彦刚 ,  刘玉岭

IPC: C11D1/72 ,  C11D3/04 ,  C11D3/30 ,  C11D11/00 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明为一种碱性抛光后低k介质清洗剂及其清洗方法。所述的清洗剂其组成包括非离子表面活性剂、pH调节剂和去离子水，其中，非离子表面活性剂质量是去离子水的质量的1％-4％；清洗剂的pH值为9-10。所述的非离子表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚非离子活性剂O-20、AEO-9或AEO-15，pH调节剂为氨水或四乙基氢氧化铵。清洗方法中，通过洗刷参数的设置，以及加热烘干、CVD处理步骤的增加，本发明可以对低k介质材料进行保护，改善刷子使用寿命，并能对低k材料结构破坏部分修复，实现k值的恢复。

公开(公告)号：CN106433479A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201610576241.X

申请日：2016-07-19

Applicant: 河北工业大学

Inventor： 王辰伟 ,  刘玉岭 ,  岳昕 ,  高宝红 ,  牛新环

IPC: C09G1/02 ,  C23F3/04 ,  H01L21/306

CPC classification number: C09G1/02 ,  C23F3/04 ,  H01L21/30625

Abstract: 本发明属于化学机械抛光领域，尤其涉及一种多层铜布线钴阻挡层表面粗糙度的控制方法，首先配置碱性抛光液，然后在流量100-500ml/min,温度15-30℃、抛头转速为57-150rpm、抛盘转速为63-150rpm，抛光压力为6.89-27.56kpa的工艺条件下进行抛光1-5min；所述的碱性抛光液包括：螯合剂用量占抛光液总质量的0.1％-1％；非离子型表面活性剂的用量为抛光液总质量的1-5％；所述的Si02用量占抛光液总质量的1％，所述的抛光液最终的pH值为8-12；该方法克服了现有铜布线化学机械抛光过程中存在的控制钴阻挡层表面粗糙度多采用酸性抛光液且包含氧化剂的问题。

公开(公告)号：CN105342036A

公开(公告)日：2016-02-24

申请号：CN201510867677.X

申请日：2015-11-25

Applicant: 河北工业大学

Inventor： 高宝红 ,  王如 ,  牛新环 ,  檀柏梅

IPC: A41D13/11 ,  A41D13/005

CPC classification number: A41D13/11 ,  A41D13/0051 ,  A41D2400/10

Abstract: 本发明涉及一种防雾霾加热口罩，该口罩适用于寒冷雾霾天气佩戴。主要包括三部分组成：过滤加热部件、管道、呼吸部件。过滤部件中内置过滤网、螺旋风扇组件和加热组件，通过螺旋风扇将空气吸入过滤部件，通过过滤网过滤后，将净化后的空气通过加热组件加热，通过管道导入呼吸部件，送到人体口鼻处。呼吸部件分为内外两层，内层上有均匀分布的出气口，外层由透气材料制成，两侧有与头部固定的绳、带或搭扣等。有效解决了普通人群的佩戴口罩憋闷感以及寒冷不适感等问题。

公开(公告)号：CN106433479B

公开(公告)日：2019-08-13

申请号：CN201610576241.X

申请日：2016-07-19

Applicant: 河北工业大学

Inventor： 王辰伟 ,  刘玉岭 ,  岳昕 ,  高宝红 ,  牛新环

IPC: C09G1/02 ,  C23F3/04 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明属于化学机械抛光领域，尤其涉及一种多层铜布线钴阻挡层表面粗糙度的控制方法，首先配置碱性抛光液，然后在流量100‑500ml/min,温度15‑30℃、抛头转速为57‑150rpm、抛盘转速为63‑150rpm，抛光压力为6.89‑27.56kpa的工艺条件下进行抛光1‑5min；所述的碱性抛光液包括：螯合剂用量占抛光液总质量的0.1％‑1％；非离子型表面活性剂的用量为抛光液总质量的1‑5％；所述的Si02用量占抛光液总质量的1％，所述的抛光液最终的pH值为8‑12；该方法克服了现有铜布线化学机械抛光过程中存在的控制钴阻挡层表面粗糙度多采用酸性抛光液且包含氧化剂的问题。

公开(公告)号：CN106118495B

公开(公告)日：2019-01-08

申请号：CN201610545107.3

申请日：2016-07-12

Applicant: 河北工业大学

Inventor： 王辰伟 ,  刘玉岭 ,  牛新环 ,  张乐 ,  孙鸣

IPC: C09G1/18 ,  C23F3/04

Abstract: 本发明涉及一种用于抑制铜钌阻挡层电偶腐蚀的碱性抛光液及其制备方法，所述抛光液中各组分按重量百分比计：H2O20.3％,β‑羟已基乙二胺0.5‑5％,乙二胺四乙酸‑四‑四羟乙基乙二胺0.1‑0.3％,FA/0型表面活性剂0.1‑5％，pH无机酸调节剂0.8‑1.5％,余量为去离子水；所述碱性抛光液的pH值为9‑10；通过混合方式获得，不需要加入抑制剂，易清洗，有效克服了Ru与Cu之间的电位差，减小了电偶腐蚀电流密度，解决了它们之间严重电偶腐蚀问题，Ru与Cu之间的电偶腐蚀得到了很好的抑制。