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公开(公告)号:CN119243160A
公开(公告)日:2025-01-03
申请号:CN202411218205.7
申请日:2024-09-02
Applicant: 河北工业大学
IPC: C23F3/04
Abstract: 本发明公开了一种新型碱性铜CMP抛光液及其制备方法,涉及抛光液技术领域,包括磨料、pH调节剂、络合剂、氧化剂、复合抑制剂、润滑剂和去离子水,所述磨料为SiO2,所述pH调节剂为氢氧化钾溶液,所述复合抑制剂包括十二烷基苯磺酸和2‑氨基苯并咪唑,所述润滑剂包括多壁碳纳米管;本发明抛光液能有效调控去除速率并大幅提升表面质量;本申请中抛光液添加了MWCNTs作为润滑剂,有效减少了磨料对铜表面的划伤;本申请抛光液为碱性抛光液,对设备与操作人员友好;本申请抛光液使用的抑制剂DBSA与2‑ABI无毒无害、易溶于水,能在铜表面附着一层致密的钝化膜,有效的阻止了抛光液对铜表面的腐蚀。
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公开(公告)号:CN119242179A
公开(公告)日:2025-01-03
申请号:CN202411175197.2
申请日:2024-08-26
Applicant: 河北工业大学
IPC: C09G1/02
Abstract: 本发明公开了一种绿色环保高效蓝宝石抛光液,涉及抛光液技术领域,包括磨料、pH调节剂、表面活性剂和去离子水,磨料为胶体SiO2,pH调节剂为精氨酸溶液,表面活性剂为十二烷基硫酸铵,其余成分为去离子水;本发明抛光液绿色环保、成分中不含金属离子,有机碱精氨酸不仅能作为碱性pH调节剂,还可以发挥络合剂的作用,本发明设置的阴离子表面活性剂十二烷基硫酸铵不仅能够提升蓝宝石抛后的表面质量,还能够有效提升抛光液的稳定性,防止磨料团聚,使抛光液能够长时间保存,本发明设置的抛光液对C、A、R三种晶面的蓝宝石都有很好的CMP效果,材料去除速率和表面质量都得到了很大的提升。
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