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公开(公告)号：CN104017501A
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：CN201410258142.8
申请日：2014-06-12
Applicant: 江南大学
IPC: C09G1/02
Abstract: 一种适用于TFT-LCD玻璃基板的超声雾化型抛光液，所用原料包括氧化铈、硅溶胶、去离子水、pH调节剂、表面活性剂；本适用于TFT-LCD玻璃基板的超声雾化型抛光液由下述生产步骤得到：首先将1~10份的氧化铈溶于25~30份的去离子水，搅拌加入16~50份的硅溶胶至溶液无絮状物，然后加入pH调节剂和去离子水来调节溶液pH为10~12，最后加入0.5~2份表面活性剂，充分溶解后超声分散10~30分钟，即得所述抛光液。本发明抛光液经雾化使用，操作简单，消耗量小，抛光效率高，抛光后玻璃表面平整性好，不损伤抛光机，无污染。
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公开(公告)号：CN104017501B
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201410258142.8
申请日：2014-06-12
Applicant: 江南大学
IPC: C09G1/02
Abstract: 一种适用于TFT-LCD玻璃基板的超声雾化型抛光液，所用原料包括氧化铈、硅溶胶、去离子水、pH调节剂、表面活性剂；本适用于TFT-LCD玻璃基板的超声雾化型抛光液由下述生产步骤得到：首先将1~10份的氧化铈溶于25~30份的去离子水，搅拌加入16~50份的硅溶胶至溶液无絮状物，然后加入pH调节剂和去离子水来调节溶液pH为10~12，最后加入0.5~2份表面活性剂，充分溶解后超声分散10~30分钟，即得所述抛光液。本发明抛光液经雾化使用，操作简单，消耗量小，抛光效率高，抛光后玻璃表面平整性好，不损伤抛光机，无污染。
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公开(公告)号：CN102174295B
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201110073546.6
申请日：2011-03-25
Applicant: 江南大学
IPC: C09G1/02 , C09K3/14 , H01L21/3105
Abstract: 本发明公开了适用于精细雾化CMP的一种碱性二氧化硅抛光液，其特征在于包括二氧化硅、氧化剂、表面活性剂，所述氧化剂为过氧化氢溶液，所述表面活性剂为聚乙二醇，所述二氧化硅的质量百分比为28%-32%，所述氧化剂的质量百分比为1%-3%，所述表面活性剂的质量百分比为1.5%-3.5%，所述二氧化硅包括硅溶胶和白碳黑，所述二氧化硅抛光液的pH值为9.5-11.5。本发明通过实验研究和分析，得到了适合雾化抛光工艺的SiO2抛光液。
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公开(公告)号：CN102672551A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210159833.3
申请日：2012-05-22
Applicant: 江南大学
IPC: B24B1/04
Abstract: 本发明涉及一种超声波雾化型抛光机，包括底座，所述底座中部成凹形结构，所述凹形结构上通过紧固件安装有抛光垫，所述抛光垫底部两端设置有抽气管，所述抛光垫上部安装有加工产品的导液加压装置，所述导液加压装置通过管路输入已雾化的抛光液；所述底座顶部密封安装有罩壳；本发明结构简单，制造与安装方便，抛光机采用负压工作状态原理，通过超声雾化器将抛光液雾化，通过管路将已雾化的抛光液输入到导液加压装置中，可以方便的实现产品表面抛光加工，本发明减少了抛光液的使用量，采用密封空间，提高了抛光液的利用率，降低生成成本。
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公开(公告)号：CN102174295A
公开(公告)日：2011-09-07
申请号：CN201110073546.6
申请日：2011-03-25
Applicant: 江南大学
IPC: C09G1/02 , C09K3/14 , H01L21/3105
Abstract: 本发明公开了适用于精细雾化CMP的一种碱性二氧化硅抛光液，其特征在于包括二氧化硅、氧化剂、表面活性剂，所述氧化剂为过氧化氢溶液，所述表面活性剂为聚乙二醇，所述二氧化硅的质量百分比为28%-32%，所述氧化剂的质量百分比为1%-3%，所述表面活性剂的质量百分比为1.5%-3.5%，所述二氧化硅包括硅溶胶和白碳黑，所述二氧化硅抛光液的pH值为9.5-11.5。本发明通过实验研究和分析，得到了适合雾化抛光工艺的SiO2抛光液。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102382576A
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：CN201110354686.0
申请日：2011-11-10
Applicant: 江南大学
IPC: C09G1/02
Abstract: 一种超声波雾化型碱性抛光液，其制备方法如下：（1）取质量份数为8~15份的白碳黑，加入8倍白碳黑质量的去离子水，充分搅拌后使之成为粥状，不产生沉淀；（2）加入pH值调节剂稀释液，边加入边搅拌，使其pH值达到9.5；（3）加入1~5份的表面活性剂，持续搅拌，使之充分溶解；（4）加入70~135份的硅溶胶，搅拌至溶液澄清无絮状物，加入pH值调节剂稀释液，不断搅拌，使溶液pH值为10；（5）加入5~10份的氧化剂，再次加入pH值调节剂稀释液，调整pH值达到10~12；（6）加入去离子水，使整个体系质量份数达到300份，即得本超声波雾化型碱性抛光液。本发明在进行硅片抛光时，耗损量不足10ml/min，具有良好的抛光效果。
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公开(公告)号：CN104830400B
公开(公告)日：2017-09-19
申请号：CN201510251081.7
申请日：2015-05-15
Applicant: 江南大学
IPC: C10M101/04 , C10M141/12 , C10M141/06 , C10M169/04 , C10M177/00 , C10N30/06 , C10N30/10 , C10N30/12
Abstract: 本发明公开了一种含三种硼氮系添加剂的新型润滑油及其制备方法，该润滑油所含组分及各组分的质量分数为：蓖麻油97～98％，1‑己基‑3‑甲基咪唑四氟硼酸盐离子液体0.8～1.2％，含氮硼酸酯0.4～0.6％，三嗪衍生物0.8～1.2％。本发明润滑油可用于某些要求极端苛刻的工况条件，如高压、重载等场合，具有良好抗磨减摩性能，能承受较高载荷下的润滑，有效提高零件的使用寿命及润滑油的使用寿命，将有望成为一种环保的高性能润滑油应用于工业中。
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公开(公告)号：CN104830400A
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201510251081.7
申请日：2015-05-15
Applicant: 江南大学
IPC: C10M101/04 , C10M141/12 , C10M141/06 , C10M169/04 , C10M177/00 , C10N30/06 , C10N30/10 , C10N30/12
Abstract: 本发明公开了一种含三种硼氮系添加剂的新型润滑油及其制备方法，该润滑油所含组分及各组分的质量分数为：蓖麻油97～98％，1-己基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐离子液体0.8～1.2％，含氮硼酸酯0.4～0.6％，三嗪衍生物0.8～1.2％。本发明润滑油可用于某些要求极端苛刻的工况条件，如高压、重载等场合，具有良好抗磨减摩性能，能承受较高载荷下的润滑，有效提高零件的使用寿命及润滑油的使用寿命，将有望成为一种环保的高性能润滑油应用于工业中。
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公开(公告)号：CN102784977A
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN201210267898.X
申请日：2012-07-31
Applicant: 江南大学
Abstract: 一种硅晶体线切割液，其组分及各组分的质量百分比如下：分散剂60~70wt%，有机碱8~12wt%，表面活性剂4~6wt%，消泡剂2~6wt%，螯合剂1~3wt%，去离子水3~25wt%；所述分散剂为聚乙二醇400，所述有机碱为二乙醇胺，所述消泡剂为二甲基硅油，所述表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠，所述螯合剂为乙二胺四乙酸二钠。本线切割液具有适当的pH值、粘度及较好的润滑渗透性，并对SiC磨粒具有高的悬浮率，经过试验，其对硅晶体具有较高的材料去除速率，可有效的降低硅片表面粗糙度及损伤，并且能够去除金属离子的污染。
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