公开(公告)号：CN102382576A

公开(公告)日：2012-03-21

申请号：CN201110354686.0

申请日：2011-11-10

Applicant: 江南大学

Inventor： 李庆忠 ,  翟靖

IPC: C09G1/02

Abstract: 一种超声波雾化型碱性抛光液，其制备方法如下：（1）取质量份数为8~15份的白碳黑，加入8倍白碳黑质量的去离子水，充分搅拌后使之成为粥状，不产生沉淀；（2）加入pH值调节剂稀释液，边加入边搅拌，使其pH值达到9.5；（3）加入1~5份的表面活性剂，持续搅拌，使之充分溶解；（4）加入70~135份的硅溶胶，搅拌至溶液澄清无絮状物，加入pH值调节剂稀释液，不断搅拌，使溶液pH值为10；（5）加入5~10份的氧化剂，再次加入pH值调节剂稀释液，调整pH值达到10~12；（6）加入去离子水，使整个体系质量份数达到300份，即得本超声波雾化型碱性抛光液。本发明在进行硅片抛光时，耗损量不足10ml/min，具有良好的抛光效果。

公开(公告)号：CN102174295B

公开(公告)日：2013-11-20

申请号：CN201110073546.6

申请日：2011-03-25

Applicant: 江南大学

Inventor： 李庆忠 ,  翟靖

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/3105

Abstract: 本发明公开了适用于精细雾化CMP的一种碱性二氧化硅抛光液，其特征在于包括二氧化硅、氧化剂、表面活性剂，所述氧化剂为过氧化氢溶液，所述表面活性剂为聚乙二醇，所述二氧化硅的质量百分比为28%-32%，所述氧化剂的质量百分比为1%-3%，所述表面活性剂的质量百分比为1.5%-3.5%，所述二氧化硅包括硅溶胶和白碳黑，所述二氧化硅抛光液的pH值为9.5-11.5。本发明通过实验研究和分析，得到了适合雾化抛光工艺的SiO2抛光液。

公开(公告)号：CN102174295A

公开(公告)日：2011-09-07

申请号：CN201110073546.6

申请日：2011-03-25

Applicant: 江南大学

Inventor： 李庆忠 ,  翟靖

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/3105

Abstract: 本发明公开了适用于精细雾化CMP的一种碱性二氧化硅抛光液，其特征在于包括二氧化硅、氧化剂、表面活性剂，所述氧化剂为过氧化氢溶液，所述表面活性剂为聚乙二醇，所述二氧化硅的质量百分比为28%-32%，所述氧化剂的质量百分比为1%-3%，所述表面活性剂的质量百分比为1.5%-3.5%，所述二氧化硅包括硅溶胶和白碳黑，所述二氧化硅抛光液的pH值为9.5-11.5。本发明通过实验研究和分析，得到了适合雾化抛光工艺的SiO2抛光液。