公开(公告)号：CN110998450A

公开(公告)日：2020-04-10

申请号：CN201880051589.4

申请日：2018-08-06

Applicant: 株式会社V技术 ,  夏普株式会社

Inventor： 吉田祐治 ,  池田聪 ,  新井敏成 ,  三宅敢 ,  片山崇 ,  平井明

IPC: G03F7/20 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1337

Abstract: 一种用于体现预倾角而进行倾斜曝光的光取向用曝光装置，其能够使用廉价的散射光源即体积光源，并且以紧凑的方式获得均匀的照度分布。通过对被照射面向一个方向进行扫描曝光来进行光取向处理的光取向用曝光装置(1)，其具备：光源(2)，朝向被照射面(10S)射出散射光；光学滤波器(3)，在从光源(2)射出的光中选择性地射出紫外线；及照射角度限制部件(4)，在从光学滤波器(3)射出的光中选择性地射出相对于扫描方向倾斜照射的光，在照射角度限制部件(4)中，使平板状的光方向限制板(40)相对于被照射面(10S)以一定角度倾斜并沿扫描方向按设定间隔平行排列多个。

公开(公告)号：CN107407888B

公开(公告)日：2019-03-29

申请号：CN201680010209.3

申请日：2016-02-17

Applicant: 株式会社V技术 ,  夏普株式会社

Inventor： 吉田祐治 ,  松本峰征 ,  新井敏成 ,  田中茂树 ,  片寄敬太 ,  铃木英幸 ,  神户诚

IPC: G03F7/20 ,  G02F1/1337

Abstract: 本发明提供一种扫描曝光装置。为了改善扫描曝光装置的生产节拍时间并提高吞吐量，在进行光源的高照度化和扫描速度的高速化时，防止在基板的端部附近的曝光不均。扫描曝光装置(1)具备：载物台(2)，在与载物台表面(2A)之间设置间隙(2S)而支撑基板(W)；光源单元(3)，向沿基板(W)上的一方向延伸设置的光照射区域(3L)照射光；及扫描装置(4)，使载物台(2)与光源单元(3)的一方或双方沿与一方向交叉的扫描方向(S)相对移动，在扫描装置(4)中设置有从载物台(2)及光源单元(3)静止的位置直至被载物台(2)支撑的基板(W)进入到光照射区域(3L)的加速区间(F)，载物台(2)在其端部具备覆盖载物台表面(2A)与基板(W)之间的间隙(2S)的遮光体(20)。

公开(公告)号：CN112055831A

公开(公告)日：2020-12-08

申请号：CN201980026975.2

申请日：2019-06-07

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 吉田祐治 ,  池田聪 ,  新井敏成

IPC: G02F1/1337

Abstract: 本发明提供一种将散射光照射到被曝光面的光照射装置，能够根据感光性材料的波长依赖性照射适当波长的光。光照射装置具备：光源部，朝向被曝光面射出散射光；及光学滤波器，使从光源部射出的光透射，光源部射出截止了在光学滤波器中设定的选择波长的短波长侧的频带的光。

公开(公告)号：CN113366380A

公开(公告)日：2021-09-07

申请号：CN201980090616.3

申请日：2019-12-06

Applicant: 株式会社V技术 ,  夏普株式会社

Inventor： 吉田祐治 ,  池田聪 ,  新井敏成 ,  片山崇 ,  花冈一孝

IPC: G02F1/1337

Abstract: 本发明的课题在于提供一种光取向曝光装置，进行稳定地形成预倾角的倾斜曝光法，该光取向曝光装置中，能够使用廉价的散射光源(体积光源)，并且即使为紧凑的形态也能够进行均匀的光照射。本发明的光取向用曝光装置(1)，对成为光取向膜的被照射面进行偏振扫描曝光，其具备：光源(2)，朝向被照射面射出散射光；光学滤波器(3)，在从光源(2)射出的光中选择性地射出光取向膜的感光波长；及光限制部件(4)，将通过了光学滤波器(3)的光限制成在扫描方向(X)的前后方向上非对称，光学滤波器(3)具有如下波长透射特性：通过沿扫描方向(X)的照射角度相对于被照射面的法线方向为设定角度(θs)以上的倾斜曝光，感光波长的光的透射率成为峰值。

公开(公告)号：CN107407888A

公开(公告)日：2017-11-28

申请号：CN201680010209.3

申请日：2016-02-17

Applicant: 株式会社V技术 ,  夏普株式会社

Inventor： 吉田祐治 ,  松本峰征 ,  新井敏成 ,  田中茂树 ,  片寄敬太 ,  铃木英幸 ,  神户诚

IPC: G03F7/20 ,  G02F1/1337

CPC classification number: H04N1/0282 ,  G03F1/88 ,  H04N1/40056 ,  H04N1/401

Abstract: 本发明提供一种扫描曝光装置。为了改善扫描曝光装置的生产节拍时间并提高吞吐量，在进行光源的高照度化和扫描速度的高速化时，防止在基板的端部附近的曝光不均。扫描曝光装置(1)具备：载物台(2)，在与载物台表面(2A)之间设置间隙(2S)而支撑基板(W)；光源单元(3)，向沿基板(W)上的一方向延伸设置的光照射区域(3L)照射光；及扫描装置(4)，使载物台(2)与光源单元(3)的一方或双方沿与一方向交叉的扫描方向(S)相对移动，在扫描装置(4)中设置有从载物台(2)及光源单元(3)静止的位置直至被载物台(2)支撑的基板(W)进入到光照射区域(3L)的加速区间(F)，载物台(2)在其端部具备覆盖载物台表面(2A)与基板(W)之间的间隙(2S)的遮光体(20)。