公开(公告)号：CN107407888B

公开(公告)日：2019-03-29

申请号：CN201680010209.3

申请日：2016-02-17

Applicant: 株式会社V技术 ,  夏普株式会社

Inventor： 吉田祐治 ,  松本峰征 ,  新井敏成 ,  田中茂树 ,  片寄敬太 ,  铃木英幸 ,  神户诚

IPC: G03F7/20 ,  G02F1/1337

Abstract: 本发明提供一种扫描曝光装置。为了改善扫描曝光装置的生产节拍时间并提高吞吐量，在进行光源的高照度化和扫描速度的高速化时，防止在基板的端部附近的曝光不均。扫描曝光装置(1)具备：载物台(2)，在与载物台表面(2A)之间设置间隙(2S)而支撑基板(W)；光源单元(3)，向沿基板(W)上的一方向延伸设置的光照射区域(3L)照射光；及扫描装置(4)，使载物台(2)与光源单元(3)的一方或双方沿与一方向交叉的扫描方向(S)相对移动，在扫描装置(4)中设置有从载物台(2)及光源单元(3)静止的位置直至被载物台(2)支撑的基板(W)进入到光照射区域(3L)的加速区间(F)，载物台(2)在其端部具备覆盖载物台表面(2A)与基板(W)之间的间隙(2S)的遮光体(20)。

公开(公告)号：CN107407888A

公开(公告)日：2017-11-28

申请号：CN201680010209.3

申请日：2016-02-17

Applicant: 株式会社V技术 ,  夏普株式会社

Inventor： 吉田祐治 ,  松本峰征 ,  新井敏成 ,  田中茂树 ,  片寄敬太 ,  铃木英幸 ,  神户诚

IPC: G03F7/20 ,  G02F1/1337

CPC classification number: H04N1/0282 ,  G03F1/88 ,  H04N1/40056 ,  H04N1/401

Abstract: 本发明提供一种扫描曝光装置。为了改善扫描曝光装置的生产节拍时间并提高吞吐量，在进行光源的高照度化和扫描速度的高速化时，防止在基板的端部附近的曝光不均。扫描曝光装置(1)具备：载物台(2)，在与载物台表面(2A)之间设置间隙(2S)而支撑基板(W)；光源单元(3)，向沿基板(W)上的一方向延伸设置的光照射区域(3L)照射光；及扫描装置(4)，使载物台(2)与光源单元(3)的一方或双方沿与一方向交叉的扫描方向(S)相对移动，在扫描装置(4)中设置有从载物台(2)及光源单元(3)静止的位置直至被载物台(2)支撑的基板(W)进入到光照射区域(3L)的加速区间(F)，载物台(2)在其端部具备覆盖载物台表面(2A)与基板(W)之间的间隙(2S)的遮光体(20)。

公开(公告)号：CN101855593B

公开(公告)日：2011-12-21

申请号：CN200880115186.8

申请日：2008-11-06

Applicant: 芝浦机械电子装置股份有限公司 ,  夏普株式会社

Inventor： 原晓 ,  山崎贵弘 ,  重山昭宏 ,  铃木英幸 ,  神户诚 ,  盐崎唯史

IPC: G02F1/1337 ,  B05C5/00 ,  B05C13/02 ,  B05D1/26

CPC classification number: G02F1/1341 ,  G02F1/1303 ,  G02F2001/13415

Abstract: 在液滴涂敷装置(2)中，具有：涂敷头(2d)，将涂敷液作为多个液滴向涂敷对象物(K1、K2)排出；移动机构(2c)，使涂敷对象物(K1、K2)与涂敷头(2d)相对移动；以及旋转机构(2b)，在与排出多个液滴的排出方向交叉的平面内使涂敷对象物(K1、K2)旋转。

公开(公告)号：CN101855593A

公开(公告)日：2010-10-06

申请号：CN200880115186.8

申请日：2008-11-06

Applicant: 芝浦机械电子装置股份有限公司 ,  夏普株式会社

Inventor： 原晓 ,  山崎贵弘 ,  重山昭宏 ,  铃木英幸 ,  神户诚 ,  盐崎唯史

IPC: G02F1/1337 ,  B05C5/00 ,  B05C13/02 ,  B05D1/26

CPC classification number: G02F1/1341 ,  G02F1/1303 ,  G02F2001/13415

Abstract: 在液滴涂敷装置(2)中，具有：涂敷头(2d)，将涂敷液作为多个液滴向涂敷对象物(K1、K2)排出；移动机构(2c)，使涂敷对象物(K1、K2)与涂敷头(2d)相对移动；以及旋转机构(2b)，在与排出多个液滴的排出方向交叉的平面内使涂敷对象物(K1、K2)旋转。