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公开(公告)号：CN104205291B
公开(公告)日：2016-10-05
申请号：CN201380010638.7
申请日：2013-01-24
Applicant: 株式会社阿迪泰克工程
IPC: H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/68
CPC classification number: G03F7/70916
Abstract: 本发明提供一种能够确认对各被曝光基板的曝光处理时的曝光装置内的尘埃等级的曝光描绘装置及曝光描绘方法。所述曝光描绘装置具备：曝光单元，通过对被曝光基板进行曝光而描绘电路图案；计数单元，对曝光描绘装置内的微粒的粒子数进行计数；判定单元，判定曝光单元的曝光处理中利用计数单元计数出的粒子数是否是基于与电路图案的图案相关的尺寸而规定的阈值以上；及附加单元，在由判定单元判定为是阈值以上的情况下，对被曝光基板附加预先规定的信息。
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公开(公告)号：CN104204957B
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：CN201380016803.X
申请日：2013-02-22
Applicant: 株式会社阿迪泰克工程
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F9/00
Abstract: 本发明提供能够防止由被曝光基板的端部的翘曲、浮起等引起的表面和背面的对位用的标记的品质降低的曝光描绘装置及曝光描绘方法。即，本发明的曝光描绘装置具备：台座(11)，载置被曝光基板；固定部(31a～31d)，从预先规定的第一位置移动到第二位置，在第二位置，将载置于台座的被曝光基板的端部夹持在该固定部与该台座之间而固定；描绘部，通过在端部被固定的状态下对被曝光基板的第一面进行曝光，在该第一面描绘预先规定的电路图案；及形成部(51)，与固定部的移动联动地移动，并在由该固定部固定了端部的状态下的被曝光基板的与第一面相向的第二面形成预先规定的标记。
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公开(公告)号：CN104185817A
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN201380016100.7
申请日：2013-01-09
Applicant: 株式会社阿迪泰克工程
CPC classification number: G03F9/00 , H05K1/0269 , H05K2203/1572 , H05K2203/166
Abstract: 具有：第1曝光单元，通过对载置在平台上的印刷布线基板的第1面进行曝光而在所述第1面上描绘电路图案；标记形成单元，设置为能够相对于平台相对地移动，在印刷布线基板的第1面上第1面用的电路图案的描绘处理中，在与第1面相反的第2面形成预先确定的多个标记；计测单元，对标记形成单元的位置进行计测；检测单元，对在第2面上形成的多个标记的位置进行检测；以及第2曝光单元，以所计测的标记形成单元的位置和所检测的多个标记的位置为基准，通过对印刷布线基板的第2面进行曝光而在第2面上描绘电路图案。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104169799A
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201380013189.1
申请日：2013-02-25
Applicant: 株式会社阿迪泰克工程
Inventor： 桥口昭浩
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/2002 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种在连续进行多个作业时能够极力地不进行不需要的曝光处理而抑制不必要的生产线停止的曝光描绘装置。具备：曝光处理执行单元，分别设定基板信息，基于要求曝光处理的多个曝光处理要求，对基板依次执行各曝光处理；检测单元，检测曝光处理对象的基板的基板信息；及比较单元，对检测基板信息和执行中的曝光处理要求所设定的执行中基板信息进行比较，基于比较结果，在接下来成为曝光处理对象的基板的检测基板信息与执行中基板信息相同的情况下，对接下来成为曝光处理对象的基板继续执行执行中的曝光处理要求，在检测基板信息与执行中基板信息不同且与下一曝光处理要求所设定的基板信息相同的情况下，结束执行中的曝光处理要求而开始执行下一曝光处理要求。
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公开(公告)号：CN104169799B
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201380013189.1
申请日：2013-02-25
Applicant: 株式会社阿迪泰克工程
Inventor： 桥口昭浩
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/2002 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种在连续进行多个作业时能够极力地不进行不需要的曝光处理而抑制不必要的生产线停止的曝光描绘装置。具备：曝光处理执行单元，分别设定基板信息，基于要求曝光处理的多个曝光处理要求，对基板依次执行各曝光处理；检测单元，检测曝光处理对象的基板的基板信息；及比较单元，对检测基板信息和执行中的曝光处理要求所设定的执行中基板信息进行比较，基于比较结果，在接下来成为曝光处理对象的基板的检测基板信息与执行中基板信息相同的情况下，对接下来成为曝光处理对象的基板继续执行执行中的曝光处理要求，在检测基板信息与执行中基板信息不同且与下一曝光处理要求所设定的基板信息相同的情况下，结束执行中的曝光处理要求而开始执行下一曝光处理要求。
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公开(公告)号：CN104185817B
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：CN201380016100.7
申请日：2013-01-09
Applicant: 株式会社阿迪泰克工程
CPC classification number: G03F9/00 , H05K1/0269 , H05K2203/1572 , H05K2203/166
Abstract: 具有：第1曝光单元，通过对载置在平台上的印刷布线基板的第1面进行曝光而在所述第1面上描绘电路图案；标记形成单元，设置为能够相对于平台相对地移动，在印刷布线基板的第1面上第1面用的电路图案的描绘处理中，在与第1面相反的第2面形成预先确定的多个标记；计测单元，对标记形成单元的位置进行计测；检测单元，对在第2面上形成的多个标记的位置进行检测；以及第2曝光单元，以所计测的标记形成单元的位置和所检测的多个标记的位置为基准，通过对印刷布线基板的第2面进行曝光而在第2面上描绘电路图案。
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公开(公告)号：CN104205291A
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201380010638.7
申请日：2013-01-24
Applicant: 株式会社阿迪泰克工程
IPC: H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/68
CPC classification number: G03F7/70916
Abstract: 本发明提供一种能够确认对各被曝光基板的曝光处理时的曝光装置内的尘埃等级的曝光描绘装置及曝光描绘方法。所述曝光描绘装置具备：曝光单元，通过对被曝光基板进行曝光而描绘电路图案；计数单元，对曝光描绘装置内的微粒的粒子数进行计数；判定单元，判定曝光单元的曝光处理中利用计数单元计数出的粒子数是否是基于与电路图案的图案相关的尺寸而规定的阈值以上；及附加单元，在由判定单元判定为是阈值以上的情况下，对被曝光基板附加预先规定的信息。
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公开(公告)号：CN104204957A
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201380016803.X
申请日：2013-02-22
Applicant: 株式会社阿迪泰克工程
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F9/00
Abstract: 本发明提供能够防止由被曝光基板的端部的翘曲、浮起等引起的表面和背面的对位用的标记的品质降低的曝光描绘装置及曝光描绘方法。即，本发明的曝光描绘装置具备：台座(11)，载置被曝光基板；固定部(31a～31d)，从预先规定的第一位置移动到第二位置，在第二位置，将载置于台座的被曝光基板的端部夹持在该固定部与该台座之间而固定；描绘部，通过在端部被固定的状态下对被曝光基板的第一面进行曝光，在该第一面描绘预先规定的电路图案；及形成部(51)，与固定部的移动联动地移动，并在由该固定部固定了端部的状态下的被曝光基板的与第一面相向的第二面形成预先规定的标记。
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