公开(公告)号：CN105246855A

公开(公告)日：2016-01-13

申请号：CN201480030142.0

申请日：2014-11-28

Applicant: 株式会社钢臂功科研 ,  株式会社神户制钢所

Inventor： 田尾幸树 ,  广濑研太 ,  慈幸范洋 ,  越智元隆

IPC: C04B35/00 ,  C23C14/34

CPC classification number: H01J37/3429 ,  C04B35/01 ,  C04B35/453 ,  C04B35/457 ,  C04B35/645 ,  C04B37/026 ,  C04B2235/3284 ,  C04B2235/3286 ,  C04B2235/3293 ,  C04B2235/6562 ,  C04B2235/6567 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/786 ,  C04B2235/80 ,  C04B2237/12 ,  C04B2237/34 ,  C04B2237/407 ,  C23C14/086 ,  C23C14/3414 ,  H01J37/3491

Abstract: 本发明提供能够抑制结合工序中发生破损的氧化物烧结体、和使用该氧化物烧结体的溅射靶、以及其制造方法。本发明的氧化物烧结体是将氧化铟、氧化镓和氧化锡烧结而得到的氧化物烧结体，氧化物烧结体的相对密度为90％以上、氧化物烧结体的平均晶粒直径为10μm以下，将铟、镓、锡的含量相对于氧化物烧结体中所含全部金属元素的比例(原子％)分别设为[In]、[Ga]、[Sn]时，满足30原子％≤[In]≤50原子％、20原子％≤[Ga]≤30原子％、25原子％≤[Sn]≤45原子％，并且InGaO3相满足[InGaO3]≥0.05。

公开(公告)号：CN102498233A

公开(公告)日：2012-06-13

申请号：CN201080041069.9

申请日：2010-09-15

Applicant: 株式会社钢臂功科研

Inventor： 松崎均 ,  高木胜寿 ,  慈幸范洋 ,  得平雅也

IPC: C23C14/34 ,  G11B7/26

CPC classification number: G11B7/266 ,  C23C14/3414 ,  G11B2007/24302 ,  G11B2007/2432

Abstract: 提供一种对于含有金属氧化物和金属的光信息记录媒体用记录层等的形成有用的金属氧化物-金属复合溅射靶。本发明的溅射靶是含有金属氧化物A和金属B的金属氧化物-金属复合溅射靶，所述金属氧化物A的当量圆直径的最大值控制在200μm以下。

公开(公告)号：CN105246855B

公开(公告)日：2017-05-31

申请号：CN201480030142.0

申请日：2014-11-28

Applicant: 株式会社钢臂功科研 ,  株式会社神户制钢所

Inventor： 田尾幸树 ,  广濑研太 ,  慈幸范洋 ,  越智元隆

IPC: C04B35/00 ,  C23C14/34

CPC classification number: H01J37/3429 ,  C04B35/01 ,  C04B35/453 ,  C04B35/457 ,  C04B35/645 ,  C04B37/026 ,  C04B2235/3284 ,  C04B2235/3286 ,  C04B2235/3293 ,  C04B2235/6562 ,  C04B2235/6567 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/786 ,  C04B2235/80 ,  C04B2237/12 ,  C04B2237/34 ,  C04B2237/407 ,  C23C14/086 ,  C23C14/3414 ,  H01J37/3491

Abstract: 本发明提供能够抑制结合工序中发生破损的氧化物烧结体、和使用该氧化物烧结体的溅射靶、以及其制造方法。本发明的氧化物烧结体是将氧化铟、氧化镓和氧化锡烧结而得到的氧化物烧结体，氧化物烧结体的相对密度为90％以上、氧化物烧结体的平均晶粒直径为10μm以下，将铟、镓、锡的含量相对于氧化物烧结体中所含全部金属元素的比例(原子％)分别设为[In]、[Ga]、[Sn]时，满足30原子％≤[In]≤50原子％、20原子％≤[Ga]≤30原子％、25原子％≤[Sn]≤45原子％，并且InGaO3相满足[InGaO3]≥0.05。