-
公开(公告)号:CN100419978C
公开(公告)日:2008-09-17
申请号:CN98809718.4
申请日:1998-06-12
Applicant: 株式会社瑞萨科技
IPC: H01L21/60 , H01L21/3205 , H01L21/768 , H01L23/31
CPC classification number: H01L24/05 , H01L23/3157 , H01L24/03 , H01L24/11 , H01L24/13 , H01L2224/02125 , H01L2224/02145 , H01L2224/0236 , H01L2224/02377 , H01L2224/0401 , H01L2224/05548 , H01L2224/05569 , H01L2224/05573 , H01L2224/13024 , H01L2224/13099 , H01L2224/131 , H01L2224/14153 , H01L2224/16227 , H01L2224/73203 , H01L2924/0001 , H01L2924/00014 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01015 , H01L2924/01029 , H01L2924/01033 , H01L2924/01039 , H01L2924/01061 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01082 , H01L2924/014 , H01L2924/12042 , H01L2924/14 , H01L2924/30107 , H01L2924/351 , H01L2924/00 , H01L2224/05599 , H01L2224/05099
Abstract: 一种半导体装置及其制造方法,该半导体装置具有:形成了集成电路的半导体元件;在该半导体元件的集成电路形成面一侧形成的多个电极焊区;通过导体层导电性地连接到该电极焊区上的外部连接用的凸点电极;以及在该集成电路形成面与该电极焊区和该凸点电极与该导体层之间形成的、粘接到这些部分上的应力缓和层,从该应力缓和层的表面起将该应力缓和层切除3分之1以上,将该应力缓和层分割为多个区域。按照本发明,能以低成本提供可靠性良好、能实现高密度安装的半导体装置。