公开(公告)号：CN118360575A

公开(公告)日：2024-07-19

申请号：CN202410041325.8

申请日：2024-01-11

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 北沢僚也 ,  石榑文昭 ,  矶部辰德

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/54

Abstract: 本发明的溅射装置具备朝向具有基板表面的被成膜基板排出溅射粒子的阴极单元。阴极单元具有靶、磁铁单元、磁铁单元扫描部和阳极电位设定机构。所述阳极电位设定机构与阳极连接，并且将所述阳极相对于所述阴极单元设定为规定的电位，以免电子入射到所述阳极。

公开(公告)号：CN118007077A

公开(公告)日：2024-05-10

申请号：CN202311480456.8

申请日：2023-11-08

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 北沢僚也 ,  高木大 ,  石榑文昭

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/54

Abstract: 本发明的溅射装置具备朝向具有基板表面的被成膜基板排出溅射粒子的阴极单元。阴极单元具有靶、磁铁单元和磁铁单元扫描部。在位于摆动区域的轮廓边附近的端部产生的磁力密度和在所述摆动区域的中央部产生的磁力密度被均匀化。

公开(公告)号：CN109423674B

公开(公告)日：2022-05-27

申请号：CN201810966182.6

申请日：2018-08-23

Applicant: 株式会社爱发科 ,  日本爱发科泰克能株式会社

Inventor： 石榑文昭 ,  稻吉荣 ,  藤田胜博 ,  佐藤洋志

IPC: C25D11/02 ,  C25D17/00

Abstract: 本发明涉及表面处理方法及表面处理装置。本发明的表面处理方法为如下过程：在由阀金属构成的被处理体的被处理面设定多个处理区域，并且将各处理区域连续或断续地浸渍在电解液中以进行阳极氧化处理，从而在所述被处理面上形成氧化被膜。所述阳极氧化处理包括第M(M为2以上的整数)工序。第M工序具备第Ma工序、第Mb工序…和第Mn工序(n为1以上的整数)。通过使所述电压VM向所述最高电压VMax的方向依次增加而设为规定的数值，并且反复进行所述第M工序，从而形成合计膜厚为期望的厚度的所述氧化被膜。

公开(公告)号：CN111560639A

公开(公告)日：2020-08-21

申请号：CN202010084163.8

申请日：2020-02-10

Applicant: 日本爱发科泰克能株式会社 ,  株式会社爱发科

Inventor： 佐藤洋志 ,  石榑文昭 ,  稲吉荣

IPC: C25D11/04 ,  C25D11/16

Abstract: 本发明为铝制部件的氧化皮膜的再生方法，所述铝制部件具有：由铝或铝合金构成的部件主体；和形成在所述部件主体的表面的氧化皮膜，在所述氧化皮膜的表面具有剥离部、瑕疵及磨损痕中的至少一个，所述铝制部件的氧化皮膜的再生方法包括：再生工序，通过将所述铝制部件浸渍到电解液中进行微弧氧化处理，从而修复所述氧化皮膜。

公开(公告)号：CN117413085A

公开(公告)日：2024-01-16

申请号：CN202280039644.4

申请日：2022-11-25

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 北沢僚也 ,  石榑文昭 ,  矶部辰德

IPC: C23C14/35

Abstract: 本发明的溅射装置具备向被成膜基板的被处理面发出溅射粒子的阴极单元。所述阴极单元具有靶、磁铁单元、磁铁扫描部和辅助磁铁。辅助磁铁沿着位于第一摆动端的磁铁，使位于第一摆动端的磁铁所形成的磁感线朝向第二摆动端倾斜。

公开(公告)号：CN101889108B

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN200880119163.4

申请日：2008-12-04

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： S·稻吉 ,  石榑文昭

IPC: C25D11/18

CPC classification number: C25D11/246

Abstract: 形成耐腐蚀性高的保护膜。使阳极氧化被膜(12)接触70℃以上90℃以下(第一温度)的温水(46)，在表面形成不连续的面后，使其接触高于第一温度的第二温度的热水或第二温度的水蒸汽。因为热水或水蒸汽从阳极氧化被膜(12)的表面进入内部，所以阳极氧化被膜(12)表面部分的孔隙被与热水或水蒸汽接触形成的水合物填塞。因此能够在阳极氧化被膜(12)的表面确实地形成包含致密层的保护膜。

公开(公告)号：CN102362015A

公开(公告)日：2012-02-22

申请号：CN201080013272.5

申请日：2010-04-08

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 石榑文昭 ,  稻吉荣 ,  三浦辰也 ,  佐藤洋志 ,  石川裕一

IPC: C25D11/04 ,  C25D11/06 ,  F04C29/00 ,  F04D19/04

CPC classification number: F04D19/042 ,  C25D11/026 ,  C25D11/04 ,  C25D11/06 ,  F04C23/003 ,  F04C23/006 ,  F04C2220/12 ,  F04C2230/92 ,  F04D17/168 ,  F04D29/023 ,  F05C2201/021 ,  F05C2201/903 ,  F05D2230/90 ,  F05D2260/95 ,  F05D2300/121 ,  F05D2300/173

Abstract: 本发明的目的是提供一种耐蚀性优异、放出气体少的构成机械增压泵、涡轮分子泵或干式泵的部件的表面处理方法以及通过该表面处理方法处理过的干式泵。其特征为，构成机械增压泵、涡轮分子泵或干式泵的部件由铝或铝合金构成，将所述部件表面浸渍到碱性溶液中，进行微弧氧化处理。

公开(公告)号：CN118147589A

公开(公告)日：2024-06-07

申请号：CN202311645413.0

申请日：2023-12-04

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 北沢僚也 ,  石榑文昭 ,  矶部辰德

IPC: C23C14/35 ,  H01J37/34

Abstract: 本发明的溅射装置具备朝向具有基板表面的被成膜基板排出溅射粒子的阴极单元。阴极单元具有靶、磁铁单元、磁铁单元扫描部和磁力线倾斜机构。磁铁单元具有磁铁。磁力线倾斜机构使在一个摆动端由磁铁形成的磁力线朝向另一个摆动端倾斜。

公开(公告)号：CN112126960A

公开(公告)日：2020-12-25

申请号：CN202010553842.5

申请日：2020-06-17

Applicant: 株式会社爱发科 ,  日本爱发科泰克能株式会社

Inventor： 稻吉荣 ,  石榑文昭 ,  佐藤洋志

IPC: C25D11/04 ,  C25D11/16 ,  C25D11/24 ,  C23F1/00

Abstract: 提供一种能够抑制在构件的表面沉积的成膜物从构件脱离的表面处理方法。表面处理方法包括：通过喷砂处理使构件(10)的金属制的表面(10F)粗糙化；通过阳极氧化而在已粗糙化的表面(10F)形成多孔质的氧化皮膜；以及利用蚀刻液至少对氧化皮膜进行蚀刻。

公开(公告)号：CN112126930A

公开(公告)日：2020-12-25

申请号：CN202010559211.4

申请日：2020-06-18

Applicant: 株式会社爱发科 ,  日本爱发科泰克能株式会社

Inventor： 稻吉荣 ,  石榑文昭 ,  佐藤洋志

IPC: C23F1/00 ,  B24C1/06 ,  C23C14/02 ,  C23C16/02

Abstract: 提供一种表面处理方法，其能够抑制在构件的表面沉积的成膜物从构件脱离，并且能抑制内含物的放出。表面处理方法包括：通过喷砂处理使构件(10)的金属制的表面(10F)粗糙化。在喷砂处理后的粗糙化的表面(10F)残留由喷砂处理引起的残渣。方法进一步包括利用蚀刻液对粗糙化的表面(10F)进行蚀刻。蚀刻以蚀刻后的粗糙化的表面(10F)具有的算术平均粗糙度(Ra)、即由JIS B 0601：2013规定的算术平均粗糙度(Ra)成为通过喷砂处理得到的粗糙化的表面(10F)的算术平均粗糙度(Ra)的53％以上100％以下的方式实施。