表面处理方法及表面处理装置

    公开(公告)号:CN109423674A

    公开(公告)日:2019-03-05

    申请号:CN201810966182.6

    申请日:2018-08-23

    Abstract: 本发明涉及表面处理方法及表面处理装置。本发明的表面处理方法为如下过程:在由阀金属构成的被处理体的被处理面设定多个处理区域,并且将各处理区域连续或断续地浸渍在电解液中以进行阳极氧化处理,从而在所述被处理面上形成氧化被膜。所述阳极氧化处理包括第M(M为2以上的整数)工序。第M工序具备第Ma工序、第Mb工序…和第Mn工序(n为1以上的整数)。通过使所述电压VM向所述最高电压VMax的方向依次增加而设为规定的数值,并且反复进行所述第M工序,从而形成合计膜厚为期望的厚度的所述氧化被膜。

    表面处理方法及表面处理装置

    公开(公告)号:CN109423674B

    公开(公告)日:2022-05-27

    申请号:CN201810966182.6

    申请日:2018-08-23

    Abstract: 本发明涉及表面处理方法及表面处理装置。本发明的表面处理方法为如下过程:在由阀金属构成的被处理体的被处理面设定多个处理区域,并且将各处理区域连续或断续地浸渍在电解液中以进行阳极氧化处理,从而在所述被处理面上形成氧化被膜。所述阳极氧化处理包括第M(M为2以上的整数)工序。第M工序具备第Ma工序、第Mb工序…和第Mn工序(n为1以上的整数)。通过使所述电压VM向所述最高电压VMax的方向依次增加而设为规定的数值,并且反复进行所述第M工序,从而形成合计膜厚为期望的厚度的所述氧化被膜。

    器件及器件的制造方法以及矩阵型超声波探头的制造方法

    公开(公告)号:CN109561886A

    公开(公告)日:2019-04-02

    申请号:CN201780048021.2

    申请日:2017-08-15

    Abstract: 本发明提供一种作为具有用来制造多个压电元件以固定间隔排列成矩阵状的产品率高的结构的器件的矩阵型超声波探头。本发明的超声波探头(AP)具有的结构包括:第一干膜抗蚀剂(22),其具有开设成矩阵状的多个第一开口(22a),在使压电元件(21)紧密贴合在各第一开口的周边部并部分露出的状态下,分别对压电元件(21)进行支撑;第二干膜抗蚀剂(23),其层压在第一干膜抗蚀剂上并具有分别围绕各功能元件的第二开口(23a),且与压电元件厚度相同;以及第三干膜抗蚀剂(24),其层压在第二干膜抗蚀剂上并具有第三开口(24a),在使压电元件紧密贴合在该第三开口的周边部并部分露出状态下,将各压电元件分别夹持在第三干膜抗蚀剂与第一干膜抗蚀剂之间。

    器件及器件的制造方法以及矩阵型超声波探头的制造方法

    公开(公告)号:CN109561886B

    公开(公告)日:2020-03-03

    申请号:CN201780048021.2

    申请日:2017-08-15

    Abstract: 本发明提供一种作为具有用来制造多个压电元件以固定间隔排列成矩阵状的产品率高的结构的器件的矩阵型超声波探头。本发明的超声波探头(AP)具有的结构包括:第一干膜抗蚀剂(22),其具有开设成矩阵状的多个第一开口(22a),在使压电元件(21)紧密贴合在各第一开口的周边部并部分露出的状态下,分别对压电元件(21)进行支撑;第二干膜抗蚀剂(23),其层压在第一干膜抗蚀剂上并具有分别围绕各功能元件的第二开口(23a),且与压电元件厚度相同;以及第三干膜抗蚀剂(24),其层压在第二干膜抗蚀剂上并具有第三开口(24a),在使压电元件紧密贴合在该第三开口的周边部并部分露出状态下,将各压电元件分别夹持在第三干膜抗蚀剂与第一干膜抗蚀剂之间。

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