-
公开(公告)号：CN110366774B
公开(公告)日：2023-06-02
申请号：CN201880015142.1
申请日：2018-11-26
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L21/677 , C23C14/34
Abstract: 本发明提供基板不会破损且能够在短时间从真空气氛改变成大气压气氛的真空装置。在处理对象物（10）和供气排气口（9）之间配置第一整流板（5），使得从供气排气口（9）喷出的升压用气体不会与搬运对象物（10）碰撞。在盖部件（16）的壁面和搬运对象物（10）之间设置第二整流板（6），使升压用气体从比搬运对象物（10）中的基板（7）高的上侧贯通孔（13）、比该基板（7）低的下侧贯通孔（23）向基板（7）和第一整流板（5）之间、基板（7）和台（15）之间导入，基板（7）不会抬起。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109423602A
公开(公告)日：2019-03-05
申请号：CN201810788659.6
申请日：2018-07-18
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种掩膜板，其在通过磁铁阵列的吸引力将掩膜板紧密贴合在基板的下表面以使基板(Sw)夹隔在接触板(Tp)和掩膜板(MP)之间时，可尽量抑制在图案掩膜部(1)的透孔(11)周边的突起，并可防止已形成的薄膜上发生掩膜失效。本发明的掩膜板(MP)具有：图案掩膜部(1)，其由以规定的图案开设并贯通板厚度方向的多个透孔(11)构成；以及遮挡部(2)，其位于图案掩膜部的周围。至少在磁铁的并列设置方向上与图案掩膜部相邻的遮挡部的部分(21)形成为与图案掩膜部的磁导率相同。
-
公开(公告)号：CN109423602B
公开(公告)日：2019-09-20
申请号：CN201810788659.6
申请日：2018-07-18
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种掩膜板，其在通过磁铁阵列的吸引力将掩膜板紧密贴合在基板的下表面以使基板(Sw)夹隔在接触板(Tp)和掩膜板(MP)之间时，可尽量抑制在图案掩膜部(1)的透孔(11)周边的突起，并可防止已形成的薄膜上发生掩膜失效。本发明的掩膜板(MP)具有：图案掩膜部(1)，其由以规定的图案开设并贯通板厚度方向的多个透孔(11)构成；以及遮挡部(2)，其位于图案掩膜部的周围。至少在磁铁的并列设置方向上与图案掩膜部相邻的遮挡部的部分(21)形成为与图案掩膜部的磁导率相同。
-
公开(公告)号：CN108138321B
公开(公告)日：2020-03-20
申请号：CN201680058354.9
申请日：2016-10-05
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C16/455 , B01F3/02 , H01L21/31
Abstract: 提供将第一气体和第二气体均匀混合的混合器和使用该混合器的真空处理装置。以第二筒开口（46）位于第一筒主体（11）中的方式将第二筒主体（12）以互相不接触的方式配置于第一筒主体（11）的内部，在第一筒主体（11）内部的第一筒开口（45）和第二筒开口（46）之间形成助跑空间（48），使第二气体从第二筒开口（46）向助跑空间（48）流出，使第一气体从形成于第一、第二筒主体（11、12）之间的间隙（47）向助跑空间（48）流出，使第一、第二气体在第二气体被第一气体的包围状态下流向助跑空间（48），使其从第一筒开口（45）向混合容器（10）内流出。第一、第二气体在混合容器（10）内直行，与混合容器（10）的与第一筒开口（45）面对的壁面碰撞，形成第一、第二气体的漩涡，被供给于混合容器（10）的第一、第二气体的流量之差即使较大也被均匀地混合。
-
公开(公告)号：CN108138321A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201680058354.9
申请日：2016-10-05
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C16/455 , B01F3/02 , H01L21/31
Abstract: 提供将第一气体和第二气体均匀混合的混合器和使用该混合器的真空处理装置。以第二筒开口（46）位于第一筒主体（11）中的方式将第二筒主体（12）以互相不接触的方式配置于第一筒主体（11）的内部，在第一筒主体（11）内部的第一筒开口（45）和第二筒开口（46）之间形成助跑空间（48），使第二气体从第二筒开口（46）向助跑空间（48）流出，使第一气体从形成于第一、第二筒主体（11、12）之间的间隙（47）向助跑空间（48）流出，使第一、第二气体在第二气体被第一气体的包围状态下流向助跑空间（48），使其从第一筒开口（45）向混合容器（10）内流出。第一、第二气体在混合容器（10）内直行，与混合容器（10）的与第一筒开口（45）面对的壁面碰撞，形成第一、第二气体的漩涡，被供给于混合容器（10）的第一、第二气体的流量之差即使较大也被均匀地混合。
-
公开(公告)号：CN110366774A
公开(公告)日：2019-10-22
申请号：CN201880015142.1
申请日：2018-11-26
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L21/677 , C23C14/34
Abstract: 本发明提供基板不会破损且能够在短时间从真空气氛改变成大气压气氛的真空装置。在处理对象物（10）和供气排气口（9）之间配置第一整流板（5），使得从供气排气口（9）喷出的升压用气体不会与搬运对象物（10）碰撞。在盖部件（16）的壁面和搬运对象物（10）之间设置第二整流板（6），使升压用气体从比搬运对象物（10）中的基板（7）高的上侧贯通孔（13）、比该基板（7）低的下侧贯通孔（23）向基板（7）和第一整流板（5）之间、基板（7）和台（15）之间导入，基板（7）不会抬起。
-
-
-
-
-
Search Results
6
records
(took 0.018 seconds)
